Покрытое изделие с низкоизлучательным покрытием, стеклопакет, содержащий покрытое изделие, и/или способ их изготовления

Изобретение относится к стеклу с многослойным покрытием для оконных стеклопакетов зданий, транспортных средств и к способам его изготовления. Техническим результатом изобретения является высокое пропускание в видимом свете, повышение долговечности и улучшение оптических свойств стекла. Покрытое изделие включает три отражающих инфракрасное (ИК) излучение слоя из такого материала, как серебро или тому подобное, четыре диэлектрических покрытия, несколько барьерных слоев. В некоторых случаях по меньшей мере один слой покрытия включает никель и/или титан (например, Ni_xTi_yO_z). Наличие слоя, содержащего никель-титан и/или их оксид, позволяет повысить адгезию к отражающему ИК излучение слою и снизить поглощение видимого света. 5 н. и 20 з.п. ф-лы, 7 ил., 12 табл.

 

[0001] Настоящая заявка испрашивает приоритет заявки на патент США с порядковым № 61/446,411, поданной 24 февраля 2011 г., полное содержание которой настоящим включено сюда по ссылке. В настоящую заявку также включено сюда по ссылке полное содержание заявки на патент США с порядковым № 13/064,065 (№ дела поверенного 3691-2195), озаглавленной "Барьерные слои, содержащие Ni и/или Ti, покрытые изделия, содержащие барьерные слои, и способы их изготовления", а также заявки на патент США с порядковым № 13/064,064 (№ дела поверенного 3691-2315), озаглавленной "Барьерные слои, содержащие трехкомпонентные сплавы, включающие Ni, и способы их изготовления".

[0002] Некоторые примерные варианты осуществления настоящей заявки относятся к покрытому изделию, включающему по меньшей мере один отражающий инфракрасное (ИК) излучение слой из такого материала, как серебро или тому подобное, в низкоизлучательном (low-E) покрытии. В некоторых вариантах осуществления по меньшей мере один слой покрытия состоит из или включает никель и/или титан (например, Ni_xTi_y, Ni_xTi_yO_z и т.д.). В некоторых примерных вариантах осуществления наличие слоя, содержащего никель-титан и/или их оксид, позволяет использовать слой, имеющий хорошую адгезию к отражающему ИК-излучение слою и пониженное поглощение видимого света (что приводит к покрытому изделию с более высоким пропусканием видимого света). Когда слой, содержащий оксид никеля-титана, предусмотрен непосредственно над и/или под отражающим ИК-излучение слоем (например, как барьерный слой), это в некоторых примерных вариантах осуществления приводит к улучшенной химической и механической стойкости (долговечности). Таким образом, в некоторых примерных вариантах осуществления при желании можно улучшить пропускание видимого света при сниженном влиянии на долговечность. При этом покрытые изделия могут использоваться в контексте оконных стеклопакетов (IG), окон транспортных средств или в других подходящих приложениях, таких как монолитные окна, многослойные окна и/или тому подобное.

Предпосылки и сущность примерных вариантов осуществления изобретения

[0003] В уровне техники известно применение покрытых изделий в оконных приспособлениях, таких как оконные стеклопакеты (IG), окна транспортных средств, монолитные окна и/или тому подобные. В некоторых примерных случаях разработчики покрытых изделий часто стремятся к комбинации высокого пропускания видимого света, низкой излучательной способности (или низкой эмиссионной способности) и/или низкого поверхностного сопротивления (R_s). Высокое пропускание видимого света может позволить применять покрытые изделия в тех приложениях, где желательны эти характеристики, например при применениях в архитектурных окнах или окнах транспортных средств, тогда как характеристики низкой эмиссионной способности (low-E) и низкого поверхностного сопротивления позволяют таким покрытым изделиям блокировать значительные количества ИК-излучения, снижая, например, нежелательный нагрев внутренних помещений транспортного средства или здания. Так, у применяющихся на архитектурном стекле покрытий часто желательно иметь высокое пропускание в видимом диапазоне спектра, чтобы блокировать значительные количества ИК-излучения.

[0004] Отражающий(е) ИК-излучение слой(и) в низкоизлучательных покрытиях влияют на все покрытие в целом, и в некоторых случаях отражающий(е) ИК-излучение слой(и) являе(ю)тся наиболее чувствительным слоем в пакете слоев. К сожалению, отражающие ИК-излучение слои, содержащие серебро, иногда могут быть подвержены повреждению из-за процесса осаждения, последующих атмосферных процессов и/или термообработки. В некоторых случаях слой на основе серебра в низкоизлучательном покрытии нужно защищать от присутствия кислорода, когда поверх него осаждают другие слои. Если отражающий(е) ИК-излучение слой(и) в покрытии защищен(ы) недостаточно, могут пострадать долговечность, пропускание видимого света и/или другие оптические характеристики покрытого изделия.

[0005] Следовательно, специалист должен понимать, что имеется потребность в низкоизлучательном покрытии с улучшенной долговечностью и улучшенными или по существу неизменными оптическими свойствами.

[0006] Некоторые примерные варианты осуществления данного изобретения относятся к улучшенному материалу барьерного слоя, используемому в сочетании с отражающим ИК-излучение слоем, содержащим серебро. В некоторых случаях улучшенный материал барьерного слоя может позволять улучшить долговечность покрытого изделия. Такие барьерные слои могут включать Ni и Ti или их оксид в других вариантах осуществления данного изобретения.

[0007] Некоторые примерные варианты осуществления относятся к способу изготовления покрытого изделия с поддерживаемым стеклянной подложкой покрытием. На подложке размещают по меньшей мере один первый диэлектрический слой. На этом по меньшей мере одном первом диэлектрическом слое размещают первый слой, содержащий Ag. Поверх и в контакте с первым слоем, содержащим Ag, размещают слой, содержащий Ni и/или Cr. На слое, содержащем Ni и/или Cr, размещают по меньшей мере один второй диэлектрический слой. На этом по меньшей мере одном втором диэлектрическом слое размещают второй слой, содержащий Ag. Поверх и в контакте со вторым слоем, содержащим Ag, размещают первый слой, содержащий Ni и Ti. На первом слое, содержащем Ni и Ti, размещают по меньшей мере один третий диэлектрический слой. На этом по меньшей мере одном третьем диэлектрическом слое размещают третий слой, содержащий Ag. Поверх и в контакте с третьим слоем, содержащим Ag, размещают второй слой, содержащий Ni и Ti. На втором слое, содержащем Ni и Ti, размещают по меньшей мере один четвертый диэлектрический слой.

[0008] Некоторые примерные варианты осуществления относятся к способу изготовления покрытого изделия с поддерживаемым стеклянной подложкой покрытием. На подложке размещают по меньшей мере один первый диэлектрический слой. На этом по меньшей мере одном первом диэлектрическом слое размещают первый слой, содержащий Ag. Поверх и в контакте с первым слоем, содержащим Ag, размещают слой, содержащий Ni и/или Cr. На слое, содержащем Ni и/или Cr, размещают по меньшей мере один второй диэлектрический слой. На этом по меньшей мере одном втором диэлектрическом слое размещают второй слой, содержащий Ag. Поверх и в контакте со вторым слоем, содержащим Ag, размещают первый слой, содержащий Ni и/или Ti. На первом слое, содержащем Ni и/или Ti, размещают по меньшей мере один третий диэлектрический слой. На этом по меньшей мере одном третьем диэлектрическом слое размещают третий слой, содержащий Ag. Поверх и в контакте с третьим слоем, содержащим Ag, размещают второй слой, содержащий Ni и/или Ti. На втором слое, содержащем Ni и/или Ti, размещают по меньшей мере один четвертый диэлектрический слой. При этом третий слой, содержащий Ag, толще, чем второй слой, содержащий Ag.

[0009] Некоторые примерные варианты осуществления относятся также к покрытым изделиям и/или стеклопакетам, изготовленным одним из вышеописанных и/или другими способами. В вариантах осуществления, относящихся к стеклопакетам, покрытие покрытого изделия может быть предусмотрено, например, на поверхности 2 и/или 3.

Краткое описание чертежей

[0010] Фигура 1 является видом в поперечном разрезе покрытого изделия согласно одному примерному варианту осуществления данного изобретения.

[0011] Фигура 2 является видом в поперечном разрезе покрытого изделия согласно другому примерному варианту осуществления данного изобретения.

[0012] Фигура 3 является видом в поперечном разрезе покрытого изделия согласно следующему варианту осуществления данного изобретения.

[0013] Фигура 4 является видом в поперечном разрезе покрытого изделия согласно другим примерным вариантам осуществления данного изобретения.

[0014] Фигура 5 является видом в поперечном разрезе покрытого изделия согласно еще одному примерному варианту осуществления данного изобретения.

[0015] Фигура 6 является детализированным видом в поперечном разрезе примерного покрытого изделия согласно одному примерному варианту осуществления.

[0016] Фигура 7 является другим детализированным видом в поперечном разрезе примерного покрытого изделия согласно одному примерному варианту осуществления.

Подробное описание изобретения

[0017] Обратимся теперь к чертежам, на которых одинаковые цифровые позиции указывают на одинаковые детали на нескольких видах.

[0018] Раскрытые здесь покрытые изделия могут применяться в таких приложениях покрытых изделий, как монолитные окна, оконные стеклопакеты, окна транспортных средств, и/или в любых других подходящих приложениях, которые включают единственную или множественные подложки, такие как стеклянные подложки.

[0019] Как указано выше, в некоторых случаях слой на основе серебра в низкоизлучательном покрытии может нуждаться в защите при последующих процессах. Например, кислород в плазме, используемой для осаждения последующих слоев, может быть сильно ионизирован, и слой на основе серебра может нуждаться в защите от него. Аналогично, в осуществляемых после осаждения "атмосферных процессах" слой на основе серебра может быть подвержен агрессивным воздействиям кислорода, влаги, кислот, оснований и/или тому подобного. Это может иметь место, в частности, если слой, находящийся между слоем на основе серебра и атмосферой, имеет какие-либо дефекты, так что слой на основе серебра не покрыт полностью (например, царапины, поры и т.д.).

[0020] Кроме того, в некоторых примерных вариантах осуществления проблемы могут возникнуть при термообработке. В этих случаях кислород может диффундировать в слой на основе серебра. В некоторых примерных вариантах осуществления достигающий слоя на основе серебра кислород может повлиять на его свойства, например снизить поверхностное сопротивление, воздействовать на излучательную способность и/или создавать мутность и т.д., и может вызвать сниженные характеристики пакета слоев.

[0021] Поэтому в некоторых примерных вариантах осуществления со слоями на основе серебра (и/или другими отражающими ИК-излучение слоями) в низкоизлучательных покрытиях могут использоваться барьерные слои, чтобы снизить проявление некоторых из этих или всех вышеописанных и/или других проблем.

[0022] Раньше материалы барьерного слоя содержали тонкие металлические слои, такие как Al, которые в некоторых типичных случаях окислялись в последующих окислительных процессах. В других случаях использовались также слои на основе оксида индия-олова (ITO). Однако в некоторых из таких случаев эти материалы могут ухудшать оптические свойства и/или долговечность всего пакета слоев.

[0023] В некоторых случаях в барьерных слоях могут использоваться такие материалы, как хром, в частности в покрытых изделиях с низкоизлучательными покрытиями, применяющихся на архитектурном рынке. Однако в некоторых примерных вариантах осуществления хром может поглощать значительные количества видимого света. Коэффициент поглощения k оксида хрома на 550 нм составляет 0,033942. Соответственно, пропускание видимого света покрытым изделием может снижаться, если хромсодержащий слой будет слишком толстым и/или недостаточно окисленным. Однако, если толщина барьера будет недостаточной, слой, содержащий серебро, может оказаться недостаточно защищенным.

[0024] Другим подходящим для применения материалом барьерного слоя является титан (например, TiO_x). Однако адгезия титана к отражающим ИК-излучение слоям, в частности содержащим серебро, недостаточна. Поэтому, когда в качестве барьерного слоя для защиты слоя, содержащего серебро, используется материал, состоящий или по существу состоящий из Ti и/или его оксидов, может ухудшиться и/или снизиться долговечность покрытого изделия.

[0025] Учитывая вышесказанное, было бы выгодным разработать барьерный слой, содержащий материал(ы), имеющие достаточную адгезию на границе раздела между серебром (и/или отражающим ИК-излучение слоем) и барьерным материалом, где оксид барьерного(ых) материала(ов) имеет более низкое поглощение в видимом диапазоне спектра.

[0026] Некоторые варианты осуществления данного изобретения относятся к покрытому изделию, которое включает в себя по меньшей мере одну стеклянную подложку, поддерживающую покрытие. Покрытие типично имеет по меньшей мере один отражающий инфракрасное (ИК) излучение слой, который отражает и/или блокирует по меньшей мере некую часть ИК-излучения. В разных вариантах осуществления данного изобретения отражающий(е) ИК-излучение слой(и) может(могут) состоять из или включать такой материал, как серебро, золото, NiCr или тому подобное. Часто отражающий ИК-излучение слой проложен между по меньшей мере первым и вторым контактными слоями покрытия.

[0027] В некоторых примерных вариантах осуществления данного изобретения было неожиданно обнаружено, что наличие слоя, состоящего по существу из или содержащего оксид никеля и/или титана (например, Ni_xTi_y или Ni_xTi_yO_z и т.д.) в качестве контактного(ых) слоя(ев) (например, в контакте с отражающим ИК-излучение слоем), в таком покрытии неожиданно улучшает механическую и химическую стойкость покрытия таким образом, что при этом значительно не ухудшаются другие оптические свойства покрытого изделия, такие как пропускание видимого света и/или цвет. В неком данном покрытии в различных вариантах осуществления данного изобретения можно предусмотреть один или более таких содержащих никель и/или титан слоев (которые в некоторых примерных вариантах осуществления могут быть окислены). Кроме того, в других вариантах осуществления данного изобретения такие содержащие никель и/или титан слои могут быть предусмотрены в любом типе солнцезащитных или низкоизлучательных (низкоэмиссионных, или с низким коэффициентом излучения) покрытий (например, в качестве контактного слоя), и описанные здесь конкретные низкоизлучательное покрытия приведены только в качестве примеров, если они не указаны в пункте(ах) формулы изобретения. Когда слой, содержащий оксид никеля-титана, предусмотрен в качестве верхнего контактного слоя покрытого изделия (например, поверх отражающего ИК-излучение слоя на основе серебра), в некоторых примерных вариантах осуществления это приводит к улучшенной химической и механической стойкости (долговечности). Использование в этой связи слоя оксида никеля-титана (например, как контактного слоя) неожиданно оказалось улучшающим химическую и механическую стойкость покрытого изделия, а также оказалось улучшающим (или по меньшей мере не ухудшающим значительно) пропускание видимого света покрытым изделием.

[0028] В некоторых примерных вариантах осуществления можно предусмотреть барьерный слой, содержащий никель-титан и/или их оксид. Эта комбинация Ni и Ti может обеспечить хорошую адгезию при более низком поглощении, причем обе эти характеристики в некоторых примерных вариантах осуществления являются желательными для низкоизлучательных покрытий. Предпочтительно наличие барьерного слоя, содержащего никель-титан и/или их оксид (например, Ni_xTi_y, Ni_xTi_yO_z и т.д.), может позволить применять долговечное, монолитное покрытое изделие с единственным отражающим ИК-излучение слоем (например, серебра), без ухудшения свойств покрытия из-за недостаточной защиты отражающего ИК излучение слоя.

[0029] Фиг. 1 является видом в поперечном разрезе покрытого изделия согласно одному примерному варианту осуществления данного изобретения. В некоторых примерных вариантах осуществления покрытое изделие, показанное на фигуре 1, может применяться как монолитное окно с низкоизлучательным покрытием на поверхности 1 и/или 2, причем низкоизлучательное покрытие включает в себя только один отражающий ИК-излучение слой. Однако в других примерных вариантах осуществления покрытое изделие на фигуре 1 может содержать дополнительные слои. Кроме того, покрытое изделие, выполненное согласно описанным здесь примерным вариантам осуществления, может применяться в стеклопакете (IGU) с покрытием(ями) на поверхности 1, 2, 3 и/или 4; в многослойном облегченном монолите с покрытием, заделанным напротив промежуточного слоя на поверхностях 2 и/или 3 или открытым на поверхности 4; в многослойном стеклопакете с обращенным наружу слоем стекла с покрытием, заделанным напротив промежуточного слоя на поверхностях 2 и/или 3 или открытым на поверхности 4; в многослойном стеклопакете с обращенным внутрь слоем стекла с покрытием, открытым на поверхностях 3 и/или 6 или заделанным на поверхностях 4 и/или 5, согласно другим примерным вариантам осуществления и приложениям. Другими словами, это покрытие может использоваться монолитно или в стеклопакетах с двумя или более подложками или же более одного раза в стеклопакете и в различных примерных вариантах осуществления может быть предусмотрено на любой поверхности стеклопакета.

[0030] Покрытое изделие включает в себя стеклянную подложку 1 (например, бесцветную, зеленую, бронзовую или сине-зеленую стеклянную подложку толщиной от примерно 1,0 до 10,0 мм, более предпочтительно толщиной от примерно 1,0 мм до 6,0 мм) и многослойное покрытие 35 (или систему слоев), предусмотренное(ую) непосредственно или опосредованно на подложке.

[0031] Как показано на фиг. 1, покрытие 35 содержит необязательный(е) диэлектрический(е) слой(и) 3 и/или 5, нижний контактный слой 7, который может состоять из или включать никель, и/или титан, и/или их оксид (например, Ni_xTi_y, Ni_xTi_yO_z и т.д.) или который может быть другим подходящим материалом контактного слоя, таким как оксиды и/или нитриды Zn, Ni, Cr, их комбинации и/или тому подобное, отражающий ИК-излучение слой 9, включающий одно или более из серебра, золота или тому подобного, верхний контактный слой 11, состоящий из или включающий никель, и/или титан, и/или их оксид (например, Ni_xTi_y, Ni_xTi_yO_z и т.д.), или другой подходящий материал контактного слоя, необязательный(е) диэлектрический(е) слой(и) 13 и/или 15, а также диэлектрический слой 16, состоящий из или включающий такой материал, как оксид кремния, нитрид кремния, оксинитрид кремния, оксид циркония, оксинитрид циркония или оксинитрид циркония-кремния, который в некоторых примерных случаях может быть защитным наружным слоем. В некоторых примерных вариантах осуществления данного изобретения могут иметься также и другие слои и/или материалы, и возможно также, чтобы некоторые слои были удалены или, в некоторых примерных случаях, расщеплены. Согласно другим примерным вариантам осуществления слой 16 может быть предусмотрен или нет.

[0032] Согласно различным примерным вариантам осуществления необязательные диэлектрические слои 3 и/или 5 могут содержать нитрид кремния, оксид титана, оксид олова, оксид кремния, оксинитрид кремния и/или другие диэлектрические материалы.

[0033] Отражающий инфракрасное (ИК) излучение слой 9 предпочтительно является по существу или полностью металлическим и/или проводящим и может содержать или состоять по существу из серебра (Ag), золота или любого другого подходящего материала, отражающего ИК-излучение. Отражающий ИК-излучение слой 9 способствует приданию покрытию низкоизлучательных и/или хороших солнцезащитных характеристик, таких как низкий коэффициент излучения, низкое поверхностное сопротивление и т.д. Однако отражающий ИК-излучение слой 9 может быть чуть окисленным в некоторых вариантах осуществления данного изобретения.

[0034] Отражающие ИК-излучение слои, показанные на фигуре 1 и описанные здесь, могут содержать серебро или по существу состоять из серебра в различных примерных вариантах осуществления. Таким образом, следует понимать, что некоторые примерные варианты осуществления могут включать серебряные сплавы. В таких случаях Ag может быть легировано подходящим количеством Zr, Ti, Ni, Cr, Pd и/или их комбинаций. В некоторых примерных вариантах осуществления Ag может быть легировано и Pd, и Cu, с содержанием приблизительно 0,5-2% (в весовых или атомных %) каждого из Pd и Cu. Другие потенциальные сплавы включают Ag и один или более из Co, C, Mg, Ta, W, NiMg, PdGa, CoW, Si, Ge, Au, Pt, Ru, Sn, Al, Mn, V, In, Zn, Ir, Rh и/или Mo. Вообще говоря, концентрации легирующих добавок могут лежать в диапазоне 0,2-5% (в весовых или атомных %), более предпочтительно - 0,2-2,5%. Работая в таких диапазонах, можно помочь серебру сохранять желательные оптические характеристики слоя на основе Ag, которые иначе могли бы быть потеряны из-за легирования, тем самым способствуя сохранению общих оптических характеристик пакета слоев в целом при одновременном повышении химической, коррозионной и/или механической стойкости. Типичные материалы мишени из сплава Ag, идентифицированные здесь, могут распыляться с использованием единственной мишени, осаждены совместным распылением с использованием двух (или более) мишеней и т.д. Помимо обеспечения улучшенной коррозионной стойкости, применение сплавов Ag может в некоторых случаях помочь снизить коэффициент диффузии серебра при повышенных температурах, одновременно помогая также снизить или заблокировать степень миграции кислорода в пакетах слоев. Это может дополнительно повысить коэффициент диффузии серебра и может изменить те ростовые и структурные свойства Ag, которые потенциально могут привести к плохой долговечности.

[0035] Верхний и нижний контактные слои 7 и 11 могут состоять из или включать Ni и/или Ti и/или их оксиды и/или нитриды. В некоторых примерных вариантах осуществления верхний и нижний контактные слои 7, 11 могут состоять из или включать никель (Ni), титан (Ti), хром (Cr), никелевый сплав, такой как никель-титан (NiTi) и/или никель-хром, (например, NiCr), сплав Хейнса (Haynes), цинк, оксид, нитрид или оксинитрид любого из них (например, Ni_xTi_yO_z), или другой(ие) подходящий(е) материал(ы). Например, один из этих слоев может состоять из или включать оксид цинка вместо NiTi (и/или вместо их оксида).

[0036] Применение, например, NiTi и/или Ni_xTi_yO_z в этих слоях позволяет в некоторых примерных случаях улучшить долговечность и/или пропускание видимого света у покрытого изделия. В некоторых примерных вариантах осуществления даже полностью окисленный слой NiCrO_x может иметь относительно высокое остаточное поглощение из-за коэффициента поглощения CrO_x, составляющего k(550 нм)=0,033942. Однако, к счастью, было найдено, что так как TiO_x имеет значительно меньший коэффициент поглощения, чем CrO_x, то в некоторых примерных вариантах осуществления включение TiO_x в состав барьерного слоя может привести к повышенному пропусканию видимого света покрытым изделием. Например, коэффициент поглощения TiO_x k на 550 нм составляет 0,004806, что равно почти 1/10-й коэффициента поглощения CrO_x. Таким образом, когда в барьерном слое используется металл или оксид металла с меньшим коэффициентом поглощения, чем у CrO_x, можно улучшить пропускание видимого света покрытым изделием.

[0037] Однако в некоторых примерных вариантах осуществления барьерный слой, содержащий TiO_x, может не иметь достаточной адгезии к отражающему ИК-излучение слою. Таким образом, если используется барьерный слой, состоящий только из TiO_x, может пострадать долговечность покрытого изделия. К счастью, было найдено, что хотя при использовании сплава, включая материал, который хорошо сцепляется с отражающими ИК-излучение слоями, с Ti и/или TiO_x, долговечность покрытого изделия не будет ухудшаться при замене Cr и/или CrO_x на Ti и/или TiO_x (или любой материал с относительно низким коэффициентом поглощения). Выгодным образом, считается, что Ni имеет хорошую адгезию к отражающим ИК-излучение слоям. Таким образом, использование барьерного слоя, включающего Ni и Ti, а также их оксиды и/или нитриды, может выгодным образом привести к покрытому изделию, имеющему улучшенное пропускание видимого света и адекватную долговечность.

[0038] Контактные слои 7 и 11 (например, состоящие из или включающие Ni и/или Ti) в разных вариантах осуществления данного изобретения могут быть или не быть сплошными по всему отражающему ИК-излучение слою. В некоторых примерных вариантах осуществления один или оба NiTi-х слоя 7, 11 содержат примерно 1-50% Ni и примерно 50-99% Ti. Одним примером является 80% Ti и 20% Ni. В некоторых примерных вариантах осуществления слой, содержащий Ni_xTi_y, может быть полностью и/или частично окислен. Это окисление может происходить при осаждении слоя или может быть результатом процессов, проводимых после осаждения контактного слоя; например из-за осаждения последующих слоев в присутствии кислорода, из-за термообработки и т.д.

[0039] Однако Ni и Ti могут все еще присутствовать в тех же соотношениях, какие обсуждены выше, несмотря на присутствие кислорода. Например, даже в слое, содержащем оксид никеля-титана, отношение Ni к Ti все еще может составлять от примерно 1:99 до 50:50 (проценты и соотношения Ni_xTi_y даны по весу).

[0040] Как упоминалось выше, слой(и) 7 и/или 11 Ni_xTi_y и/или Ni_xTi_yO_z могут быть полностью окислены в некоторых вариантах осуществления данного изобретения (например, полностью стехиометрически) или, альтернативно, они могут быть окислены только частично (например, субстехиометрически) (до и/или после необязательной термообработки (HT)). В других случаях слои 7 и/или 11 могут быть осаждены как металлические слои и могут быть полностью или частично окислены во время процессов после осаждения, таких как осаждение последующих слоев в присутствии кислорода, термообработка и т.п. В некоторых случаях слой 7 и/или 11 Ni_xTi_y и/или Ni_xTi_yO_z может быть окислен по меньшей мере на примерно 50%.

[0041] Контактный(е) слой(и) 7 и/или 11 (например, состоящий из или включающий оксид Ni и/или Ti) в разных вариантах осуществления данного изобретения может быть или не быть градиентно окисленным. Как известно в данной области, градиентное окисление влечет изменение степени окисления слоя по его толщине, так что, например, контактный слой может быть градиентным, будучи менее окисленным на контактной поверхности раздела с непосредственно соседним отражающим ИК-излучение слоем 9, чем в части контактного слоя, дальше отстоящей или больше/наиболее удаленной от непосредственно соседнего отражающего ИК-излучение слоя. Описания различных типов градиентно окисленных контактных слоев изложены в патенте США № 6576349, раскрытие которого настоящим включено сюда по ссылке. Контактный(е) слой(и) 7, 11 (например, состоящие из или включающие оксид Ni и/или Ti) в разных вариантах осуществления данного изобретения могут быть или не быть сплошными по всему отражающему ИК-излучение слою 9.

[0042] В других примерных вариантах осуществления контактный слой под отражающим ИК-излучение слоем (например, нижний контактный слой 7) может состоять из или включать цинк и/или его оксид.

[0043] Необязательные диэлектрические слои 13 и/или 15 могут в некоторых примерных вариантах осуществления данного изобретения состоять из или включать нитрид кремния (например, Si_xN_y) или любой другой подходящий материал, такой как оксид титана, оксид олова, оксинитрид кремния и/или оксид кремния. Эти слои могут помочь решить проблемы долговечности и/или могут также защитить нижележащие слои и в некоторых случаях могут необязательно использоваться в целях просветления.

[0044] Может также иметься необязательный наружный слой 16, содержащий, например, оксид циркония. В заявке на патент США с порядковым № 12/213,879, которая настоящим включена сюда по ссылке, обсуждаются преимущества, связанные с использованием оксида циркония в качестве наружного слоя. В других примерных вариантах осуществления необязательный наружный слой 16 может состоять из или включать нитрид кремния, оксид кремния и/или оксинитрид кремния. В других примерных вариантах осуществления необязательный наружный слой 16 может также включать другие цирконийсодержащие соединения.

[0045] В некоторых примерных вариантах осуществления покрытое изделие, показанное на фиг. 1, может применяться в качестве монолитного окна с низкоизлучательным покрытием с единственным отражающим ИК-излучение слоем. Однако в других примерных вариантах осуществления описанное здесь покрытое изделие может использоваться с любым числом отражающих ИК-излучение слоев и может комбинироваться с любым числом других стеклянных подложек для создания многослойного и/или изоляционного стеклопакета. Покрытия могут также применяться в связи со стеклопакетами (IGU), стеклопакетами с вакуумной изоляцией (VIG), автомобильными стеклами и во многих других приложениях, в соответствии с различными примерными вариантами осуществления.

[0046] Фиг. 2 представляет другой примерный вариант осуществления низкоизлучательного покрытия 35' с единственным отражающим ИК-излучение слоем. В варианте осуществления по фиг. 2 слой на основе Ni_xTi_yO_z используется в качестве верхнего и нижнего контактных слоев. Далее, на фиг. 2 слой на основе нитрида кремния используется в качестве диэлектрического слоя 3, а диэлектрический слой 5 исключен. Диэлектрический слой 13 содержит нитрид кремния, а наружный слой 16 исключен, поскольку в варианте осуществления по фиг. 2 диэлектрический слой 13 также может помочь служить целям наружного слоя (например, защищая нижележащие слои). В некоторых типичных вариантах осуществления покрытое изделие по фиг. 2 может иметь улучшенное пропускание видимого света и может также иметь улучшенные и/или практически неизменные химическую и механическую стойкость.

Таблица 1 Примеры материалов/толщин; вариант осуществления по фиг. 2
Слой	Предпочтительный диапазон (Å)	Наиболее предпочтительный диапазон (Å)	Пример (Å)
Стекло (толщиной 1-10 мм)
SixNy (слой 3)	70-1200 Å	250-400 Å	382 Å
NixTiyOz (слой 7)	5-200 Å	10-50 Å	15 Å
Ag (слой 9)	20-700 Å	30-300 Å	120 Å
NixTiyOz (слой 11)	5-200 Å	10-45 Å	15 Å
SixNy (слой 14)	40-1200 Å	250-400 Å	330 Å

Таблица 2 Примерные характеристики; вариант осуществления по фиг. 2
Описание	Y	L*	a*	b*
В состоянии после покрытия (на пропускание)	66,16	85,08	-1,59	-3,44
В состоянии после покрытия (со стороны стекла)	6,79	31,32	3,53	6,71
В состоянии после покрытия (со стороны пленки)	5,62	28,43	3,73	-7,18
После HT (на пропускание)	69,18	86,59	-2,6	-3,89
После HT (со стороны стекла)	6,44	30,5	7,25	8,14
После HT (со стороны пленки)	5,74	28,74	5,92	-4,9

[0047] Примерный вариант осуществления по фиг. 2 может в некоторых примерных реализациях иметь поверхностное сопротивление приблизительно 11,15 Ом/квадрат. Однако, как известно специалистам в данной области, поверхностное сопротивление и/или коэффициент излучения можно регулировать, наряду с прочим, подбирая толщину слоя на основе Ag.

[0048] Другими словами, в некоторых вариантах осуществления монолитное покрытое изделие, имеющее один отражающий ИК-излучение слой, может в состоянии после осаждения иметь пропускание видимого света по меньшей мере примерно 55%, предпочтительно по меньшей мере примерно 60%, а еще более предпочтительно по меньшей мере примерно 65%, а иногда по меньшей мере примерно 67%. После термообработки монолитное покрытое изделие может иметь более высокое пропускание видимого света, например по меньшей мере примерно 60%, более предпочтительно примерно 65%, с примерным пропусканием примерно 70%.

[0049] В состоянии после нанесения покрытия изделие может иметь со стороны стекла значение a* от примерно 0 до 5, более предпочтительно от примерно 1 до 4, например около 3,5 в некоторых примерных вариантах осуществления. В состоянии после нанесения покрытия изделие может иметь значение b* со стороны стекла от примерно 0 до 10, более предпочтительно от примерно 1 до 7, например около 6,7 в некоторых примерных вариантах осуществления. В некоторых случаях изделие может иметь значение a* со стороны пленки от примерно 0 до 5, более предпочтительно от примерно 1 до 4, например около 3,7, в состоянии после нанесения покрытия. В других примерных вариантах осуществления изделие может иметь значение b* со стороны пленки от примерно -10 до 1, более предпочтительно от примерно -8 до -2, например около -7,18.

[0050] После термообработки (обозначенной как "HT" в таблице 2) изделие может иметь значение a* со стороны стекла от примерно 0 до 10, более предпочтительно от примерно 1 до 8, например около 7,25 в некоторых примерных вариантах осуществления. В состоянии после нанесения покрытия изделие может иметь значение b* со стороны стекла от примерно 0 до 10, более предпочтительно от примерно 1 до 9, например около 8,14 в некоторых примерных вариантах осуществления. В некоторых случаях изделие может иметь значение a* со стороны пленки от примерно 0 до 8, более предпочтительно от примерно 1 до 6, например около 5,92, в состоянии после нанесения покрытия. В других примерных вариантах осуществления изделие может иметь значение b* со стороны пленки от примерно -8 до 1, более предпочтительно от примерно -6 до -2, например около -4,9.

[0051] Фиг. 3 показывает другой примерный вариант осуществления низкоизлучательного покрытия 35" с единственным отражающим ИК-излучение слоем. Фиг. 3 похожа на варианты осуществления по фиг. 1 и фиг. 2, но в варианте осуществления по фиг. 3 в качестве верхнего контактного слоя 11 используется слой на основе Ni_xTi_yO_z, а в качестве нижнего контактного слоя 7 - слой на основе оксида цинка. Кроме того, на фиг. 3 слой на основе нитрида кремния используется в качестве диэлектрического слоя 3, а диэлектрический слой 5 исключен. В варианте осуществления по фиг. 3 диэлектрический слой 13 содержит нитрид кремния. В некоторых примерных вариантах осуществления покрытое изделие по фиг. 3 может иметь улучшенную и/или неизменную химическую и механическую стойкость, а также может иметь повышенное пропускание видимого света.

[0052] Фиг. 4 показывает вид в поперечном разрезе покрытого изделия согласно одному примерному варианту осуществления данного изобретения. В некоторых примерных вариантах осуществления покрытое изделие, показанное на фиг. 4, может применяться как монолитное окно с низкоизлучательным покрытием с двумя отражающими ИК-излучение слоями. Покрытое изделие включает в себя стеклянную подложку 1 (например, бесцветную, зеленую, бронзовую или сине-зеленую стеклянную подложку толщиной от примерно 1,0 до 10,0 мм, более предпочтительно от примерно 1,0 мм до 6,0 мм) и многослойное покрытие (или систему слоев), предусмотренное(ую) непосредственно или опосредованно на подложке. Аналогично фиг. 1, покрытие 45 по фиг. 4 содержит необязательный(е) диэлектрический(е) слой(и) 3 и/или 5, первый нижний контактный слой 7, первый отражающий ИК-излучение слой 9, содержащий или состоящий из серебра, золота или тому подобного, первый верхний контактный слой 11, состоящий из или включающий оксид никеля-титана (например, Ni_xTi_yO_z), необязательный(е) диэлектрический(е) слой(и) 13 и/или 15 (например, состоящий(е) из или включающий(е) нитрид кремния), второй нижний контактный слой 17, второй отражающий ИК-излучение слой 19, второй верхний контактный слой 21, необязательные диэлектрические слои 23 и/или 25 и необязательный диэлектрический слой 16, состоящий из или включающий такой материал, как нитрид кремния, оксинитрид кремния, оксид циркония, оксинитрид циркония или оксинитрид циркония-кремния, который в некоторых примерных случаях может быть защитным наружным слоем. В некоторых примерных вариантах осуществления данного изобретения могут предусматриваться и другие слои и/или материалы, а также возможно, чтобы в некоторых примерных случаях некоторые слои были удалены или расщеплены.

[0053] В некоторых вариантах осуществления только один из контактных слоев 7, 11, 17 и 21 может содержать никель-титан и/или их оксид и/или нитрид. В следующих примерных вариантах осуществления верхние контактные слои могут состоять из или включать Ni_xTi_y и/или Ni_xTi_yO_z, тогда как нижние контактные слои могут состоять из или включать оксиды и/или нитриды цинка, никеля, хрома, титана и/или комбинацию этих материалов. Но в других примерных вариантах осуществления более чем один или даже все контактные слои могут состоять из или включать никель, титан и/или их оксиды и/или нитриды.

[0054] Фиг. 5 показывает вид в поперечном разрезе покрытого изделия согласно следующему примерному варианту осуществления данного изобретения. В некоторых примерных вариантах осуществления покрытое изделие, показанное на фиг. 5, может содержать три отражающих ИК-излучение слоя (например, пакет с тремя слоями серебра). Покрытое изделие содержит стеклянную подложку 1 (например, бесцветную, зеленую, бронзовую или сине-зеленую стеклянную подложку толщиной от примерно 1,0 до 10,0 мм, более предпочтительно от примерно 1,0 мм до 6,0 мм) и многослойное покрытие 55 (или систему слоев), предусмотренную непосредственно или опосредованно на подложке.

[0055] В некоторых примерных вариантах осуществления покрытие 55 по фиг. 5 может содержать необязательный диэлектрический слой 3, состоящий из или включающий нитрид кремния, необязательный диэлектрический слой 5, состоящий из или включающий оксид титана, нижний контактный слой 7, состоящий из или включающий оксид цинка, отражающий ИК-излучение слой 9, состоящий из или включающий серебро, верхний контактный слой 11, состоящий из или включающий Ni и/или Cr или их оксид, необязательный диэлектрический слой 12, состоящий из или включающий оксид титана, необязательный диэлектрический слой 13, состоящий из или включающий оксид олова, диэлектрический слой 14, состоящий из или включающий нитрид кремния (или какой-либо другой кремнийсодержащий или другой материал), диэлектрический слой 15, состоящий из или включающий оксид олова, второй нижний контактный слой 17, состоящий из или включающий оксид цинка, второй отражающий ИК-излучение слой 19, состоящий из или включающий серебро, второй верхний контактный слой 21, состоящий из или включающий никель и/или титан или их оксид, диэлектрический слой 23, состоящий из или включающий оксид олова, диэлектрический слой 24, состоящий из или включающий нитрид кремния (или какой-либо другой кремнийсодержащий или другой материал), диэлектрический слой 24, состоящий из или включающий оксид олова, третий нижний контактный слой 27, состоящий из или включающий оксид цинка, третий отражающий ИК-излучение слой 29, состоящий из или включающий серебро, третий верхний контактный слой 31, состоящий из или включающий Ni и/или Ti или их оксид, диэлектрический слой 32, состоящий из или включающий оксид олова, и диэлектрический слой 16, состоящий из или включающий нитрид кремния, который в некоторых примерных случаях может быть защитным наружным слоем. В некоторых примерных вариантах осуществления данного изобретения могут быть предусмотрены и другие слои и/или материалы, а также возможно, чтобы в некоторых примерных случаях некоторые слои были удалены или расщеплены. Далее, в других примерных вариантах осуществления один или более из верхних контактных слоев 11, 21 и 31 могут содержать никель-хром и/или их оксид, а не оксид никеля-титана. Кроме того, любой из слоев 7, 11, 17, 21, 27 и/или 31 может состоять из или включать никель, титан, хром, цинк, их комбинации/сплавы и может дополнительно включать кислород и/или азот. Так, в других вариантах осуществления данного изобретения любой или все верхние контактные слои 11, 21 и 31 могут быть слоями, включающими Ni и/или Ti (например, слоями, содержащими NiTiO_x).

[0056] Слои, содержащие NiTiO_x, могут помочь обеспечить высокие характеристики покрытий, так как NiTiO_x может помочь снизить общую излучательную способность при сохранении хорошего качества серебра. Кроме того, как упоминалось выше, Ni в таких слоях может помочь с решением проблем долговечности, а Ti может помочь с пропусканием. Отметим, что в некоторых примерных вариантах осуществления NiTiO_x может быть заменен на металлический Ti или TiO_x.

[0057] В некоторых примерных вариантах осуществления слои, содержащие NiTiO_x, могут быть осаждены чуть окисленными или в виде металла, а затем стать практически полностью окисленными позднее в результате последующей обработки (например, при напылении осаждаемых впоследствии слоев). В некоторых примерных вариантах осуществления NiTiO_x в своем состоянии после осаждения также может быть градиентным.

Примеры толщин

Таблица 3 Примеры материалов/толщин; вариант осуществления по фиг. 5 (отожженные)
Слой	Предпочтительный диапазон (Å)	Наиболее предпочтительный диапазон (Å)	Пример (Å)
Стекло (толщиной 1-10 мм)
SixNy (слой 3)	70-1200 Å	200-350 Å	294 Å
TiOx (слой 5)	10-300 Å	100-140 Å	116 Å
ZnOx (слой 7)	10-110 Å	40-80 Å	60 Å
Ag (слой 9)	10-200 Å	100-160 Å	120 Å
NixTiyOz (слой 11)	10-100 Å	15-40 Å	25 Å
TiOx (слой 12)	10-150 Å	40-60 Å	50 Å
SnOx (слой 13)	70-1200 Å	200-700 Å	270 Å
SixNy (слой 14)	10-300 Å	100-140 Å	110 Å
SnOx (слой 15)	70-1200 Å	100-200 Å	163 Å
ZnOx (слой 17)	15-115 Å	50-150 Å	130 Å
Ag (слой 19)	10-300 Å	100-145 Å	130 Å
NiTiOx (слой 21)	10-150 Å	20-50 Å	25 Å
SnOx (слой 23)	70-1200 Å	300-700 Å	501 Å
SixNy (слой 24)	10-300 Å	60-140 Å	100 Å
SnOx (слой 25)	10-300 Å	100-200 Å	150 Å
ZnOx (слой 27)	10-110 Å	40-80 Å	60 Å
Ag (слой 29)	10-300 Å	120-180 Å	161 Å
NiTiOx (слой 31)	10-150 Å	15-50 Å	25 Å
SnOx (слой 32)	10-300 Å	100-210 Å	155 Å
SixNy (слой 16)	70-1200 Å	200-300 Å	56 Å

[0058] В некоторых вариантах осуществления верхний слой на основе Ag является самым толстым в пакете слоев. Было найдено, что такая компоновка помогает улучшить излучательную способность покрытия. Также в некоторых примерных вариантах осуществления средний слой на основе Ag тоньше, чем верхний слой на основе Ag, что, как было найдено, помогает сохранить улучшенную излучательную способность, одновременно также само по себе улучшает внеосевую стабильность цвета и помогает обеспечить высокое пропускание видимого света.

[0059] К удивлению, неожиданно было обнаружено, что введение второго слоя 12, содержащего оксид титана, в нижний средний пакет диэлектрических слоев улучшало качество нижележащего слоя 9 на основе Ag. Считается, что это результат меньшей «интерференции» оксида олова из слоя 13 с нижележащим первым контактным слоем 11, непосредственно соседствующим с первым слоем 9 на основе Ag.

[0060] Кроме того, в некоторых примерных ламинированных вариантах осуществления данного изобретения покрытые изделия, которые были необязательно термообработаны в степени, достаточной для закалки или отпуска, и которые были соединены с другой стеклянной подложкой с образованием стеклопакета, могут иметь следующие оптические/солнцезащитные характеристики стеклопакета.

[0061] В контексте стеклопакетов, например, использование NiTiO_x с выгодой позволяет получить более высокие значения LSG. Например, в некоторых типичных случаях можно получить LSG 2,15 или выше, тогда как при использовании только слоев на основе NiCr без включающих NiTiO_x слоев можно получить LSG около 2,1 или ниже. Как должно быть понятно специалистам в данной области, высокое значение LSG выгодно, так как оно указывает на высокое пропускание видимого света в сочетании с низким SHGC, таким образом сохраняя тепло снаружи и позволяя входить свету.

[0062] Примерный вариант осуществления по фиг. 5 особенно хорошо подходит для применения в отожженном продукте. Для пригодных к термообработке вариантов осуществления могут вноситься или не вноситься модификации. Например, в пригодных к термообработке примерных вариантах осуществления можно удалить один или оба включающих TiO_x слоя 5 и/или 12. Как другой пример, в пригодном к термообработке покрытии некоторые или все содержащие SiN слои 14, 24 и 16 могут быть выполнены более металлическими, чем в отожженном аналоге. Далее, некоторые или все содержащие NiTiO_x слои могут быть заменены слоями, содержащими NiCr или их оксид. Таблица ниже показывает примеры материалов и толщин для пригодного к термообработке покрытого изделия, похожего на показанное на фиг. 5, но модифицированного с учетом вышесказанного.

Таблица 4 Примеры материалов/толщин; модифицированный вариант осуществления по фиг. 5 (пригодный к термообработке)
Слой	Предпочтительный диапазон (нм)	Более предпочтительный диапазон (нм)	Пример (нм)
SiN	25,9-38,9	29,2-35,6	32,4
ZnO	5,6-8,4	6,3-7,7	7
Ag	10,2-15,2	11,4-14	12,7
NiCrOx	2,4-3,6	2,7-3,3	3
SnO	35,9-53,9	40,4-49,4	44,9
SiN	8-12	9-11	10
SnO	12,2-18,2	13,7-16,7	15,2
ZnO	5,2-7,8	5,9-7,2	6,5
Ag	11,2-16,8	12,6-15,4	14
NiTiOx	2,4-3,6	2,7-3,3	3
SnO	36,6-55	41,2-50,4	45,8
SiN	8-12	9-11	10
SnO	12-18	13,5-16,5	15
ZnO	5,2-7,8	5,9-7,2	6,5
Ag	15,1-22,7	17-20,8	18,9
NiCrOx	2,4-3,6	2,7-3,3	3
SnO	11,2-16,8	12,6-15,4	14
SiN	23,4-35,2	26,4-32,2	29,3

[0063] Кроме того, в термообработанных примерных вариантах осуществления один или более "клеевых" слоев, содержащих SnO, могут быть уменьшены по толщине и/или полностью удалены. В таких случаях может быть желательным увеличить толщину нижележащего(их) слоя(ев), содержащих SnO. Например, слои 15 и/или 25 могут иметь уменьшенную толщину (например, с примерно 15 нм до примерно 10 нм) и/или могут быть полностью удалены. Соответственно, слои 13 и/или 23 могут иметь увеличенную толщину. Степень увеличения толщины может составлять примерно 8-12 нм. Так, в некоторых примерных вариантах осуществления слой 15 может иметь сниженную толщину примерно 8-12 нм, более предпочтительно 9-11 нм, а иногда примерно 10 нм, тогда как слой 13 может иметь увеличенную толщину примерно 40,9-61,3 нм, более предпочтительно 46-56,2 нм, а иногда примерно 51,1 нм. Аналогично, слой 25 может иметь сниженную толщину примерно 8-12 нм, более предпочтительно 9-11 нм, а иногда примерно 10 нм, тогда как слой 23 может иметь увеличенную толщину примерно 40,6-61 нм, более предпочтительно 45,7-55,9 нм, а иногда примерно 50,8 нм. Дополнительно или альтернативно, один или более из средних пакетов диэлектрических слоев может включать слой, содержащий ZnSnO. Этот слой может быть образован, например, совместным напылением (например, из мишеней Zn или ZnO и мишеней Sn или SnO). Содержащие ZnSnO слои могут быть предусмотрены вместо или в дополнение к слоям, содержащим SnO, на одной или обеих его сторонах.

[0064] Таблица ниже включает данные по эксплуатационным характеристикам для примерного варианта осуществления по фиг. 5 в отожженном состоянии, а также модификации примерного варианта осуществления по фиг. 5, в которой содержащие TiO_x слои 5 и 12 исключены и где покрытое изделие термообработано, при размещении на бесцветном флоат-стекле толщиной 6,0 мм, например, в соответствии с таблицей выше. Конечно, в других вариантах осуществления могут использоваться подложки с другими толщинами и/или подложки другого состава. Следует понимать, что предпочтительные диапазоны для отожженного и термообработанного вариантов осуществления могут быть одинаковыми или близкими. Следует также понимать, что характеристики у отожженного и термообработанного вариантов осуществления будут приблизительно сопоставимыми, но у термообработанных вариантов осуществления будет лучшее светопропускание, чем у отожженных вариантов осуществления.

Таблица 5 Примеры эксплуатационных характеристик монолитных покрытых изделий
Параметр	Предпочтительный	Более предпочтительный	Пример	Отожженный образец	Термообработанный образец
Коэффициент пропускания Y (%)	≥55	≥65	68,9	67,7	68,7
Ta*	от -7,0 до -3,1	от -6 до -4,1	-5,1	-6,1	-5,6
Tb*	от -1,3 до 2,7	от -0,3 до 1,7	0,7	4,5	6,0
TL*	84,9-88,0	85,7-87,3	86,5	85,9	86,4
Коэффициент отражения со стороны пленки, Y (%)	1,6-8,6	3,3-6,9	4,9	8,5	7,1
Rfa*	от -2,0 до 6,0	от -0,08 до 3,9	1,9	-6,0	-1,0
Rfb*	от -16,0 до -8,1	от -14,0 до -10,1	-12,1	-2,9	-5,1
RfL*	16,4-36,4	21,4-31,5	26,4	35,1	32,0
Коэффициент отражения со стороны стекла Y (%)	4,3-10,7	5,9-9,2	7,4	5,5	4,5
Rga*	от -5,1 до 0,9	от -3,6 до -0,7	-2,1	-3,6	-1,0
Rgb*	от -11,3 до -3,4	от -9,3 до -5,4	-7,3	-1,4	-4,5
RgL*	25,7-39,7	29,2-36,2	32,7	28,0	25,2
Коэффициент отражения под 45° со стороны стекла Y (%)	5,4-12,8	7,3-11,0	9,0
Rga*	от -3,8 до 2,1	от -2,3 до 0,7	-0,9
Rgb*	от -4,1 до 3,8	от -2,1 до 1,9	-0,1
RgL*	28,9-43,0	32,4-39,5	36,0
Поверхностное сопротивление (Ом/кв)	1,1-1,9	1,3-1,7	1,5	1,2	1,0
Коэффициент излучения по нормали (%)	1-4	1-3	2,00

[0065] Таблица ниже включает данные по эксплуатационным характеристикам для стеклопакета, содержащего покрытое изделие, показанное в примерном варианте осуществления на фиг. 5, в отожженном состоянии, а также для модификации примерного варианта осуществления по фиг. 5, в которой содержащие TiO_x слои 5 и 12 исключены, причем покрытое изделие термообработано, например, когда покрытие размещено на поверхности 2 стеклопакета. Примеры в таблице ниже включают первую и вторую подложки толщиной 6,0 мм, разделенные зазором 12 мм, заполненным воздухом. Конечно, в других вариантах осуществления могут использоваться подложки с другими толщинами, подложки с другими составами, другие размеры зазоров, другие газы и т.д. Следует понимать, что предпочтительные диапазоны для отожженного и термообработанного вариантов осуществления могут быть одинаковыми или близкими. Следует также понимать, что характеристики у отожженного и термообработанного вариантов осуществления будут приблизительно сопоставимыми, но у термообработанных вариантов осуществления будет лучшее светопропускание, чем у отожженных вариантов осуществления.

Таблица 6 Примеры эксплуатационных характеристик для стеклопакетов
Параметр	Предпочтительный	Более предпочтительный	Пример	Отожженный образец	Термообработанный образец
Tvis (или TY) (%)	≥55	≥60	61,6	60,7	61,64
Tuv (%)	≤10	≤4	4,7	4,6	6,0
Tsol (%)	≤30	≤23	23,6	23,2	22,9
Rsol (%)	≤50	≤40	38,6	38,6	39,4
SHGC	≤30	≤27	27,4	27,1	26,8
Величина U	≤1,8	≤1,63	0,290	0,286	0,285
LSG	≥2,10	≥2,15 (например, 2,20, 2,26, 2,33 и т.д.)	2,25	2,24	2,30

[0066] В некоторых вариантах осуществления слой на основе никеля-титана можно осадить распылением из металлической мишени. В некоторых случаях мишень может содержать 20% никеля и 80% титана по весу. В других примерных вариантах осуществления металлическая мишень может содержать 50% никеля и 50% титана по весу. Металлическая распыляемая мишень, состоящая из или включающая никель и титан, в некоторых примерных вариантах осуществления может содержать от примерно 1 до 50% Ni (и все промежуточные поддиапазоны), более предпочтительно от примерно 2 до 50% Ni (и все промежуточные поддиапазоны), а наиболее предпочтительно от примерно 5 до 20% Ni (и все промежуточные поддиапазоны) (все процентные доли указаны в вес.%). Металлическая распыляемая мишень, состоящая из или включающая никель и титан, в некоторых вариантах осуществления может дополнительно содержать от примерно 50 до 99% Ti (и все промежуточные поддиапазоны), более предпочтительно от примерно 50 до 98% Ti (и все промежуточные поддиапазоны), а наиболее предпочтительно от примерно 80 до 95% Ti (и все промежуточные поддиапазоны) (все процентные доли указаны в вес.%).

[0067] В следующих примерных вариантах осуществления слой на основе никеля-титана можно осадить с помощью более чем одной распыляемой мишени. В некоторых случаях это могут быть металлическая никелевая мишень и металлическая титановая мишень. В некоторых примерах слой на основе Ni и/или Ti может быть нанесен распылением в присутствии одного или более благородных и/или реакционноспособных газов. В некоторых типичных вариантах осуществления Ni и Ti можно осадить в присутствии по меньшей мере аргона и кислорода. В других примерных вариантах осуществления одна или более мишеней может быть керамической. Например, барьерный слой может быть осажден с применением по меньшей мере металлической мишени, содержащей никель, и керамической мишени, содержащей оксид титана, и/или металлической мишени, содержащей титан, и керамической мишени, содержащей оксид никеля. Кроме того, в следующих примерных вариантах осуществления можно использовать одну, две или более керамических мишеней для осаждения слоя, содержащего оксид никеля-титана.

[0068] В некоторых примерных вариантах осуществления только некоторые контактные слои могут содержать Ni и/или Ti и/или их оксиды и нитриды. В других примерных вариантах осуществления другие контактные слои могут содержать Ni и/или Cr и/или их оксиды и нитриды. В следующих примерных вариантах осуществления другие контактные слои могут содержать цинк и/или его оксиды.

[0069] Было найдено, что использование контактного слоя на основе никеля-титана и/или их оксида выгодным образом повышает механическую и химическую стойкость покрытого изделия, не ухудшая оптические свойства, так что в случаях монолитных применений можно использовать пакет слоев с единственным слоем серебра (например, низкоизлучательное покрытие, содержащее только один слой серебра) на поверхности 1 и/или поверхности 2 стеклянной подложки (например, покрытие может быть обращено внутрь или наружу). Однако данное изобретение этим не ограничено, и согласно другим примерным вариантам осуществления низкоизлучательное покрытие, содержащее барьерный слой Ni_xTi_yO_z, может использоваться на любой поверхности в любой конфигурации.

[0070] Хотя некоторые примерные варианты осуществления были описаны в связи с низкоизлучательными покрытиями, описанные здесь слои, содержащие Ni и/или Ti, могут использоваться в связи с другими типами покрытий.

[0071] Фиг. 6 и 7 представляют собой более детальные виды в разрезе примерных покрытых изделий в соответствии с примерными вариантами осуществления данного изобретения. Показанный на фиг. 6 пример подходит для применения в состоянии после осаждения или в отожженном состоянии. Стеклянная подложка 602 на фиг. 6 несет (поддерживает) покрытие 604, которое включает кремнийсодержащий базовый слой 606. Хотя кремнийсодержащий базовый слой 606 на фиг. 6 показан как являющийся SiN_x, другие варианты осуществления могут включать окисленный и/или азотированный кремнийсодержащий слой 606. Кремнийсодержащий базовый слой 606 несет содержащий оксид титана слой 608 (например, TiO₂ или другой подходящей стехиометрии) и содержащий оксид цинка слой 610. Содержащий оксид цинка слой 610 может находиться в контакте с первым слоем 612 на основе Ag. В некоторых примерных вариантах осуществления первый контактный слой 614, содержащий Ni и/или Cr, может быть предусмотрен поверх и в контакте с первым слоем 612 на основе Ag.

[0072] Второй содержащий оксид титана слой 616 (например, TiO₂ или другой подходящей стехиометрии) находится поверх первого контактного слоя 614, и этот второй содержащий оксид титана слой 616 несет смешанный или градиентный слой 618, содержащий ZnSnO_x и оксид олова. Однако в некоторых примерных вариантах осуществления вместо смешанного или градиентного слоя можно предусмотреть дискретные слои, содержащие ZnSnO_x и оксид олова. В тех вариантах осуществления, где предусмотрен смешанный или градиентный слой 618, содержащий ZnSnO_x и оксид олова, этот слой может быть градиентным так, чтобы ближе к нижележащему второму содержащему оксид титана слою 616 было больше SnO_x и меньше Zn. Это может быть желательным, если пакет ZnO/Ag/контактный слой повторяется, как показано на фиг. 6.

[0073] То есть на фиг. 6 смешанный или градиентный слой 618, содержащий ZnSnO_x и оксид олова, несет, в порядке удаления от подложки, второй содержащий оксид цинка слой 620, второй слой 622 на основе Ag и второй контактный слой 624, содержащий Ni и/или Cr.

[0074] Второй кремнийсодержащий слой 626 предусмотрен выше второго контактного слоя. Аналогично кремнийсодержащему базовому слою 606, второй кремнийсодержащий слой 626 показан содержащим SiN_x. Однако другие варианты осуществления могут включать окисленный и/или азотированный второй кремнийсодержащий слой 626. Второй кремнийсодержащий слой 626 несет содержащий оксид олова слой 628, и пакет ZnO/Ag/контактный слой может быть повторен еще раз. То есть, как показано на фиг. 6, содержащий оксид олова слой 628 несет третий содержащий оксид цинка слой 630, третий слой 632 на основе Ag и третий контактный слой 634, содержащий Ni и/или Cr. Поверх третьего контактного слоя 634 может быть предусмотрен второй содержащий оксид олова слой 636. В качестве самого внешнего слоя может быть предусмотрен кремнийсодержащий наружный слой 238 и, как и случае других кремнийсодержащих слоев, находящихся ниже, в других вариантах осуществления он может быть окислен и/или азотирован. Пример с фиг. 6 показывает наружный слой 638, содержащий SiN_x.

[0075] Следует понимать, что описанные здесь контактные слои в других вариантах осуществления данного изобретения могут быть окислены. Так, некоторые примерные варианты осуществления могут включать контактные слои NiCrO_x поверх и в контакте с нижележащими слоями на основе Ag. Следует также понимать, что любой или все слои NiCr и/или NiCrO_x могут быть заменены слоями NiTi и/или NiTiO_x.

[0076] Аналогично рассмотренному выше, к удивлению и неожиданно было найдено, что введение второго содержащего оксид титана слоя 616 в нижний средний пакет диэлектрических слоев улучшало качество нижележащего слоя 612 на основе Ag. Это, как полагают, является результатом меньшей интерференции SnO₂ из комбинированного слоя 618, содержащего (ZnSnO_x/SnO₂), с нижележащим первым контактным слоем 614, непосредственно соседствующим с первым слоем 612 на основе Ag.

[0077] В следующей таблице приводятся примерные толщины слоев для примерного варианта осуществления, показанного на фиг. 6.

Таблица 7 Примерный пакет слоев для покрытого изделия с фиг. 6
Слой	Предпочтительная толщина (нм)	Более предпочтительная толщина (нм)	Примерная толщина (нм)
SiNx	5,5-9,3	6,6-8,2	7,4
TiO2	3-5	3,6-4,4	4,0
ZnO	6,6-11,2	8,0-9,8	8,9
Ag	9-15	10,8-13,2	12,0
NiCrOx	2,6-4,4	3,1-3,9	3,5
TiO2	5,2-8,8	6,3-7,7	7,0
ZnSnOx/SnO2	37,5-62,7	45,0-55,2	50,1
ZnO	13,2-22,1	15,9-19,5	17,7
Ag	9-15	10,8-13,2	12,0
NiCrOx	2,6-4,4	3,1-3,9	3,5
SiNx	7,5-12,5	9-11	10,0
SnO2	19,8-33,1	23,8-29,2	26,5
ZnO	19,9-33,3	23,9-29,3	26,6
Ag	9,3-15,7	11,2-13,8	12,5
NiCrOx	2,6-4,4	3,1-3,9	3,5
SnO2	8,5-14,2	10,2-12,6	11,4
SiNx	12,7-21,3	15,3-18,7	17,0

[0078] Фиг. 7 является другим детализированным видом в разрезе примерного покрытого изделия согласно одному примерному варианту осуществления. Пример с фиг. 7 подходит для применения в термообработанном состоянии. Пример с фиг. 7 похож на пример с фиг. 6 тем, что подложка 702 несет покрытие 704 со многими аналогичными слоями во многом аналогичном порядке. Различия между примерным вариантом осуществления с фиг. 6 и примерным вариантом осуществления с фиг. 7 заключаются в отсутствии первого содержащего оксид титана слоя ниже первого слоя 710 на основе серебра, в наличии раздельных слоев, содержащих SnO_x (716) и ZnSnO_x (718), и в нижнем среднем диэлектрике, в отличие от единственного смешанного слоя, содержащего (ZnSnO_x/SnO₂).

[0079] Так, фиг. 7 включает, идя от подложки 702: кремнийсодержащий базовый слой 706, первый содержащий оксид цинка слой 708 ниже первого слоя 710 на основе Ag, первый контактный слой 712, содержащий Ni и/или Cr, содержащий оксид титана слой 714 (например, TiO₂ или другой подходящей стехиометрии), отдельные слои, содержащие оксид олова, 716, и ZnSnO_x, 718, второй содержащий оксид цинка слой 720, второй слой 722 на основе Ag, второй контактный слой 724, содержащий Ni и/или Cr, второй кремнийсодержащий слой 726, второй содержащий оксид олова слой 728, третий содержащий оксид цинка слой 730, третий слой 732 на основе Ag, третий контактный слой 734, содержащий Ni и/или Cr, третий содержащий оксид олова слой 736 и кремнийсодержащий наружный слой 738. Вышеописанные опции и/или альтернативы, например, относящиеся к возможному легированию слоев на основе Ag, окислению контактных слоев, окислению и/или азотированию кремнийсодержащих слоев и т.д., являются также опциями для примерного варианта осуществления с фиг. 7.

[0080] Примерные толщины слоев для примерного варианта осуществления, показанного на фиг. 7, приведены в следующей таблице.

Таблица 8 Примерный пакет слоев для покрытого изделия с фиг. 7
Слой	Предпочтительная толщина (нм)	Более предпочтительная толщина (нм)	Примерная толщина (нм)
SiNx	8,4-14	10,0-12,32	11,2
ZnO	8,2-13,8	9,9-12,1	11,0
Ag	7,1-11,9	8,5-10,5	9,5
NiCrOx	2,2-3,8	2,7-3,3	3,0
TiO2	2,2-3,8	2,7-3,3	3,0
SnO2
ZnSnOx	43,5-73	52,2-63,8	58,0
ZnO	12-20	14,4-17,6	16,0
Ag	9,6-16	11,5-14,1	12,8
NiCrOx	2,2-3,8	2,7-3,3	3,0
SiNx	8,3-13,9	10-12,3	11,1
SnO2	27,7-46,3	33,3-40,7	37,0
ZnO	15-25	18-22	20,0
Ag	10,0-16,8	12,0-14,8	13,4
NiCrOx	2,2-3,8	2,7-3,3	3,0
SnO2	11,2-18,8	13,5-16,5	15,0
SiNx	12,8-21,4	15,3-18,9	17,1

[0081] Примерные варианты осуществления с фиг. 6 и фиг. 7 могут иметь характеристики, указанные в таблице ниже, например, при нанесении на прозрачное флоат-стекло толщиной 6,0 мм. Конечно, в других вариантах осуществления могут использоваться подложки с другими толщинами и/или подложки с другими составами. Следует понимать, что предпочтительные диапазоны для отожженных и термообработанных вариантов осуществления могут быть одинаковыми или близкими. Также следует понимать, что характеристики для отожженных и термообработанных вариантов осуществления могут быть приблизительно сопоставимыми, но с лучшим светопропусканием у термообработанных вариантов осуществления по сравнению с отожженными вариантами осуществления.

Таблица 9 Примерные эксплуатационные характеристики для покрытых изделий с фиг. 6 и фиг. 7
			Отожженный	HT
Параметр	Предпочтительный	Более предпочтительный	Пр. 1	Пр. 2	Пр. 1
Коэффициент пропускания Y (%)	61,6-70,8	64,0-68,5	65,6	66,2	70,7
Ta*	от -6,7 до -2,7	от -5,7 до -3,7	-3,4	-4,7	-3,8
Tb*	1,9-6,1	3,1-5,1	1,9	4,1	1,0
TL*	82,7-87,5	84,0-86,3	84,8	85,1	87,3
Коэффициент отражения со стороны пленки Y (%)	3,8-6,0	4,4-5,4	3,3	4,9	4,25
Rfa*	8,8-12,8	9,8-11,8	-1,7	10,8	-3,9
Rfb*	от -12,6 до -8,6	от -11,6 до -9,6	4,1	-10,6	1,4
RfL*	23,9-29,4	24,9-27,9	21,1	26,4	24,5
Коэффициент отражения со стороны стекла Y(%)	6,4-10,4	7,4-9,4	5,2	8,4	5,81
Rga*	от -3,4 до +0,4	от -2,4 до -0,4	-0,8	-1,4	-1,5
Rgb*	от -12,8 до -8,8	от -11,8 до -9,8	-1,0	-10,8	-1,33
RgL*	30,8-38,8	32,8-36,8	27,3	34,8	28,9
Коэффициент отражения под 45° со стороны стекла Y(%)	7,4-10,8	8,5-10,7	7,5	9,6	8,3
Rga*	от -3,0 до +5,0	от -1,0 до +3,0	0,7	1,0	0,35
Rgb*	от -13,4 до -1,4	от -10,4 до -4,4	1,5	-7,4	1,5
RgL*	33,1-41,1	35,1-39,1	32,8	37,1	34,6
Поверхностное сопротивление (Ом/кв)	1-5	1,2-1,8	1,11	1,5	1,07
Коэффициент излучения по нормали (%)	0,25-5,00	1,00-3,00		2,00

[0082] Когда примерные покрытые изделия с фиг. 6 и фиг. 7 внедрены в стеклопакеты, они могут иметь характеристики, показанные в следующей таблице. Отожженный пример в нижеприведенной таблице включает первую подложку из экстрапрозрачного стекла толщиной 6,0 мм и вторую подложку из экстрапрозрачного стекла толщиной 4 мм с воздушным зазором 16 мм, наполненным 90% газообразного Ar. Термообработанные примеры имеют первую и вторую подложки толщиной 3 мм и 6 мм соответственно, с 12 промежутками 12 мм. Конечно, в других вариантах осуществления могут использоваться подложки с другими толщинами, подложки с другими составами, другие размеры зазоров, другие газы и т.д. Следует понимать, что предпочтительные диапазоны для отожженных и термообработанных вариантов осуществления могут быть одинаковыми или близкими. Также следует понимать, что характеристики для отожженных и термообработанных вариантов осуществления могут быть приблизительно сопоставимыми, но с лучшим светопропусканием у термообработанных вариантов осуществления по сравнению с отожженными вариантами осуществления.

Таблица 10 Примерные эксплуатационные характеристики для стеклопакетов на основе примеров с фиг. 6 и фиг. 7
			Отжиг	HT
Параметр	Предпочтительный	Более предпочтительный	Пр. 1	Пр. 1	Пр. 2
Коэффициент пропускания Y(%)	56,1-64,3	58,1-62,2	60,1	63,9	62,0
Ta*	от -7 до -3	-6 - -4	-5,0	-4,11	-5,45
Tb*	2,1-6,1	3,1-5,1	4,1	0,17	0,16
TL*	79,7-84,1	80,8-83,0	81,9	83,9	82,9
Коэффициент наружного отражения Y(%)	8,9-15,6	10,0-14,5	12,1	10,5	10,3
Rout, a*	от -4,7 до -0,7	от -3,7 до -1,7	-2,7	-3,25	-3,75
Rout, b*	от -10,8 до -4,8	от -8,8 до -6,8	-7,8	-0,04	-0,06
Rout, L*	34,4-48,4	37,9-44,9	41,4	38,8	38,4
Коэффициент внутреннего отражения Y(%)	8,3-16,3	10,3-14,3	12,2	11,8	11,5
Rin a*	2,6-6,6	3,6-5,6	4,6	-1,71	-2,36
Rin b*	от -7,4 до -3,4	от -6,4 до -4,4	-5,4	-1,30	-1,30
Rin L*	36,7-46,3	38,3-44,7	41,5	40,9	40,4

[0083] Тепловые характеристики некоторых примерных стеклопакетов могут быть следующими, например, когда покрытия в состоянии после осаждения предусмотрены на поверхности 2 стеклопакета с подложками толщиной 6 мм и 4 мм из экстрапрозрачного стекла и с зазором 16 мм между ними, заполненным 90% Ar.

Таблица 11 Примерные тепловые характеристики стеклопакетов на основе примеров с фиг. 6 и фиг. 7
Параметр согласно NFRC 2001	Предпочтительный	Более предпочтительный	Примерный
Пропускание видимого света (%)	≥50	≥55	60,0
Пропускание солнечного света (%)	≤21-29	≤23-27	25,0
Коэффициент отражения солнечных лучей Rout (%)	≤40-48	≤42-46	44,0
Поглощение солнечного света (%)	≤27-35	≤29-33	31,0
SHGC (%)	≤23-31	≤25-29	27,0
Tuv (%)	≤7-19	≤10-16	13,0
LSG (SHGC)	≥2,02-2,38	≥2,12-2,30	2,22
Величина U (BTU/ [h ft2 F])	≤0,1-0,4	≤0,1-0,3	0,194

[0084] Термические характеристики примеров 1 и 2 для вышеуказанных термообработанных вариантов осуществления могут быть следующими.

Таблица 12
	Предпочтительный	Пример 1	Пример 2
Tsolar	18,7-31,3	25,69	24,40
Rsolar(2)	32,1-53,7	47,26	38,52
Rsolar(3)	31,6-52,8	46,38	37,96
Tuv	6,7-11,3	9,74	8,31
Tdw	34,8-58,2	47,48	45,58
Uзима (воздух)	0,2-0,4	0,27	0,27
Uлето (воздух)	0,2-0,4	0,29	0,29
Коэффициент излучения (нормаль)	0,01-0,05	0,020	0,020
Коэффициент излучения (полусфера)	0,01-0,05	0,026	0,026
SHGC (2)	0,2-0,4	0,282	0,283
SHGC (3)	0,3-0,6	0,417	0,407
SC (2)	0,2-0,5	0,33	0,33
SC (3)	0,3-0,6	0,48	0,47
RHG (2)	52,5-87,5	70	70
RHG (3)	75-125	101	99
LSG	1,6-2,8	2,27	2,19

[0085] Описанное здесь покрытое изделие (например, см. фиг. 1-7) может быть или не быть термообработанным (например, закаленным) в некоторых примерных вариантах осуществления. Используемые здесь термины "термическая обработка" и "термообработка" означают нагрев изделия до температуры, достаточной для достижения термической закалки и/или термического упрочнения содержащего стекло изделия. Это определение включает, например, нагревание покрытого изделия в термошкафу или печи при температуре по меньшей мере примерно 550°C, более предпочтительно по меньшей мере примерно 580°C, более предпочтительно по меньшей мере примерно 600°C, более предпочтительно по меньшей мере примерно 620°C, а наиболее предпочтительно по меньшей мере примерно 650°C, в течение достаточного отрезка времени, чтобы обеспечить закалку и/или термическое упрочнение. Он может составлять по меньшей мере примерно две минуты или, в некоторых примерных вариантах осуществления, вплоть до примерно 10 минут.

[0086] Как указано выше, некоторые примерные варианты осуществления могут включать низкоизлучательное покрытие, поддерживаемое стеклянной подложкой. Это покрытое изделие может применяться монолитно или наслаиваться на другую стеклянную или иную подложку. Покрытое изделие может быть также встроено в стеклопакет (IG). Стеклопакеты обычно содержат первую и вторую по существу параллельные стеклянные подложки, отстоящие друг от друга. По периметру подложек предусмотрено уплотнение, и между подложками сохраняется зазор (который может быть по меньшей мере частично заполнен инертным газом, таким как Ar, Xe, Kr и/или подобный).

[0087] Показанные и описанные здесь покрытые изделия или аналогичные покрытые изделия в некоторых примерных вариантах осуществления могут наслаиваться на другой лист стекла. В некоторых вариантах реализации может использоваться промежуточный слой на полимерной основе. В различных вариантах осуществления могут использоваться такие материалы, как, например, PVB, EVA и т.д. В таких случаях покрытие может быть предусмотрено между подложками (например, на поверхности 2 или 3) полученного слоистого изделия.

[0088] Некоторые или все описанные здесь слои могут быть нанесены осаждением методом распыления или любым другим подходящим методом, таким, например, как химическое осаждение из паровой фазы (CVD), осаждение в процессе горения и т.д. Примерные слои, содержащие Ni и Ti, например, могут быть осаждены распылением из одной или более распыляемых мишеней. Распыляемые мишени могут содержать примерно 1-50% Ni и примерно 50-99% Ti, более предпочтительно 5-40% Ni и примерно 60-95% Ti, а еще более предпочтительно примерно 10-30% Ni и примерно 70-90% Ti. В некоторых примерных вариантах осуществления отношение Ni:Ti в распыляемой мишени может составлять примерно 20:80. В других вариантах осуществления возможны другие отношения Ni:Ti, в том числе, например, 95/5, 75/25, 50/50, 25/75, 20/80, 10/90 и т.д. Допустимы также поддиапазоны этих диапазонов. Кроме того, следует понимать, что эти проценты/отношения могут применяться по отношению к количеству Ni и/или Ti в слоях независимо от того, являются ли они полностью или частично окисленными или неокисленными (например, металлическими).

[0089] Описанные здесь примерные материалы могут применяться в связи с низкоизлучательными, противоконденсационными и/или другими приложениями. Примеры низкоизлучательных и/или противоконденсационных покрытий описаны, например, в заявках с порядковыми номерами 12/926,714, 12/923,082, 12/662,894, 12/659,196, 12/385,234, 12/385,802, 12/461,792, 12/591,611 и 12/654,594, полное содержание которых настоящим включено сюда по ссылке. Таким образом, в некоторых вариантах осуществления один или более из описанных здесь материалов барьерного слоя может заменять или дополнять один или более слоев, содержащих Ni и/или Cr, в этих и/или других типах покрытий.

[0090] В таблицах, приведенных выше, оптические данные были собраны с наблюдателем Осв. «C» (2 градуса). Данные по термическим характеристикам собирали в соответствии со стандартом NFRC 2001.

[0091] Используемые здесь термины "на", "поддерживаемый" и им подобные не следует интерпретировать как означающие, что два элемента непосредственно прилегают друг к другу, если только явно не указано иное. Другими словами, можно сказать, что первый слой находится "на" втором слое или "поддерживается" вторым слоем, даже если между ними находится один или более слоев.

[0092] Хотя изобретение было описано в связи с тем, что в настоящее время считается наиболее практичным и предпочтительным вариантом осуществления, следует понимать, что изобретение не ограничено раскрытым вариантом осуществления, а, напротив, предназначено охватывать различные модификации и эквивалентные компоновки, входящие в пределы сущности и объема приложенной формулы изобретения.

1. Способ изготовления покрытого изделия с поддерживаемым стеклянной подложкой покрытием, включающий в себя:
размещение по меньшей мере одного первого диэлектрического слоя на подложке;
размещение первого слоя, содержащего Ag, на упомянутом по меньшей мере одном первом диэлектрическом слое;
размещение слоя, содержащего Ni и/или Cr, поверх и в контакте с первым слоем, содержащим Ag;
размещение по меньшей мере одного второго диэлектрического слоя на слое, содержащем Ni и/или Cr;
размещение второго слоя, содержащего Ag, на упомянутом по меньшей мере одном втором диэлектрическом слое;
размещение первого слоя, содержащего Ni и Ti, поверх и в контакте со вторым слоем, содержащим Ag;
размещение по меньшей мере одного третьего диэлектрического слоя на первом слое, содержащем Ni и Ti;
размещение третьего слоя, содержащего Ag, на упомянутом по меньшей мере одном третьем диэлектрическом слое;
размещение второго слоя, содержащего Ni и Ti, поверх и в контакте с третьим слоем, содержащим Ag; и
размещение по меньшей мере одного четвертого диэлектрического слоя на втором слое, содержащем Ni и Ti.

2. Способ по п. 1, причем третий слой, содержащий Ag, толще, чем второй слой, содержащий Ag.

3. Способ по п. 1, причем упомянутый по меньшей мере один второй диэлектрический слой включает слой, содержащий оксид Ti.

4. Способ по п. 1, причем упомянутые по меньшей мере один первый, второй и третий диэлектрические слои включают, каждый, слой, содержащий цинк, под и в прямом контакте с первым, вторым и третьим слоями, содержащими Ag, соответственно.

5. Способ по п. 1, дополнительно включающий размещение первого кремнийсодержащего слоя в качестве самого внешнего слоя покрытия.

6. Способ по п. 5, дополнительно включающий второй кремнийсодержащий слой в качестве самого нижнего слоя в упомянутом по меньшей мере одном первом диэлектрическом слое.

7. Способ по п. 6, причем первый и второй кремнийсодержащие слои содержат нитрид кремния.

8. Способ по п. 1, причем покрытие имеет поверхностное сопротивление, меньшее или равное примерно 1,2.

9. Способ по п. 1, причем покрытое изделие имеет пропускание видимого света по меньшей мере примерно 65%.

10. Способ по любому предыдущему пункту, причем слой, содержащий Ni и/или Cr, включает как Ni, так и Ti или их оксид.

11. Способ изготовления пригодного к термообработке покрытого изделия с поддерживаемым стеклянной подложкой покрытием, включающий в себя:
размещение по меньшей мере одного первого диэлектрического слоя на подложке;
размещение первого слоя, содержащего Ag, на упомянутом по меньшей мере одном первом диэлектрическом слое;
размещение слоя, содержащего Ni и/или Cr, поверх и в контакте с первым слоем, содержащим Ag;
размещение по меньшей мере одного второго диэлектрического слоя на слое, содержащем Ni и/или Cr;
размещение второго слоя, содержащего Ag, на упомянутом по меньшей мере одном втором диэлектрическом слое;
размещение первого слоя, содержащего Ni и/или Ti, поверх и в контакте со вторым слоем, содержащим Ag;
размещение по меньшей мере одного третьего диэлектрического слоя на первом слое, содержащем Ni и/или Ti;
размещение третьего слоя, содержащего Ag, на упомянутом по меньшей мере одном третьем диэлектрическом слое;
размещение второго слоя, содержащего Ni и/или Ti, поверх и в контакте с третьим слоем, содержащим Ag; и
размещение по меньшей мере одного четвертого диэлектрического слоя на втором слое, содержащем Ni и/или Ti,
причем третий слой, содержащий Ag, толще, чем второй слой, содержащий Ag.

12. Способ по п. 11, причем упомянутые по меньшей мере один первый, второй и третий диэлектрические слои включают, каждый, слой, содержащий цинк, под и в прямом контакте с первым, вторым и третьим слоями, содержащими Ag, соответственно.

13. Способ по п. 11, дополнительно включающий размещение первого кремнийсодержащего слоя в качестве самого внешнего слоя покрытия.

14. Способ по п. 13, дополнительно включающий размещение второго кремнийсодержащего слоя в качестве самого нижнего слоя в упомянутом по меньшей мере одном первом диэлектрическом слое, и при этом первый и второй кремнийсодержащие слои содержат нитрид кремния.

15. Способ по п. 11, причем после термообработки покрытие имеет поверхностное сопротивление, меньшее или равное примерно 1,0, и при этом покрытое изделие имеет пропускание видимого света по меньшей мере примерно 65%.

16. Способ по п. 11, дополнительно включающий термообработку покрытого изделия с расположенным на нем покрытием.

17. Способ изготовления стеклопакета (IG), включающий в себя:
обеспечение покрытого изделия, изготовленного в соответствии с любым предыдущим пунктом;
размещение второй подложки в по существу параллельном разнесенном положении от покрытого изделия так, чтобы между ними образовался зазор; и
обеспечение заделки кромок между покрытым изделием и второй подложкой,
причем покрытие покрытого изделия предусмотрено на поверхности 2 или поверхности 3 стеклопакета.

18. Способ по п. 17, причем стеклопакет имеет параметр LSG, больший или равный 2,15, более предпочтительно больший или равный 2,25.

19. Способ по п. 17, причем вторая подложка и подложка покрытого изделия составляют, каждая, примерно 6 мм в толщину и при этом зазор между покрытым изделием и второй подложкой составляет примерно 12 мм.

20. Покрытое изделие, содержащее:
подложку;
по меньшей мере один первый диэлектрический слой на подложке;
первый слой, содержащий Ag, на упомянутом по меньшей мере одном первом диэлектрическом слое;
слой, содержащий Ni и/или Cr, поверх и в контакте с первым слоем, содержащим Ag;
по меньшей мере один второй диэлектрический слой на слое, содержащем Ni и/или Cr,
второй слой, содержащий Ag, на упомянутом по меньшей мере одном втором диэлектрическом слое;
первый слой, содержащий Ni и Ti, поверх и в контакте со вторым слоем, содержащим Ag;
по меньшей мере один третий диэлектрический слой на первом слое, содержащем Ni и Ti;
третий слой, содержащий Ag, на упомянутом по меньшей мере одном третьем диэлектрическом слое;
второй слой, содержащий Ni и Ti, поверх и в контакте с третьим слоем, содержащим Ag; и
по меньшей мере один четвертый диэлектрический слой на втором слое, содержащем Ni и Ti.

21. Покрытое изделие по п. 20, причем покрытое изделие имеет поверхностное сопротивление, меньшее или равное примерно 1,2.

22. Покрытое изделие по п. 20, причем покрытое изделие имеет пропускание видимого света по меньшей мере примерно 65%.

23. Покрытое изделие по п. 20, причем третий слой, содержащий Ag, толще, чем второй слой, содержащий Ag.

24. Покрытое изделие по любому из пп. 20-23, причем упомянутый по меньшей мере один второй диэлектрический слой включает слой, содержащий оксид Ti.

25. Покрытое изделие, содержащее:
подложку;
по меньшей мере один первый диэлектрический слой на подложке;
первый слой, содержащий Ag, на упомянутом по меньшей мере одном первом диэлектрическом слое;
слой, содержащий Ni и/или Cr, поверх и в контакте с первым слоем, содержащим Ag;
по меньшей мере один второй диэлектрический слой на слое, содержащем Ni и/или Cr;
второй слой, содержащий Ag, на упомянутом по меньшей мере одном втором диэлектрическом слое;
первый слой, содержащий Ni и/или Ti, поверх и в контакте со вторым слоем, содержащим Ag;
по меньшей мере один третий диэлектрический слой на первом слое, содержащем Ni и/или Ti;
третий слой, содержащий Ag, на упомянутом по меньшей мере одном третьем диэлектрическом слое;
второй слой, содержащий Ni и/или Ti, поверх и в контакте с третьим слоем, содержащим Ag; и
по меньшей мере один четвертый диэлектрический слой на втором слое, содержащем Ni и/или Ti,
причем третий слой, содержащий Ag, толще, чем второй слой, содержащий Ag.