Узел катода магнетронного распылителя

Изобретение относится к узлу катода магнетронного распылителя. Узел содержит мишень 1, закрепленную в стенках корпуса 4, первый электростатический экран 7, установленный с внешней стороны стенок корпуса 4 и основания 5. Со стороны внутренней поверхности 3 мишени 1 установлена пластина 10, выполненная по форме, идентичной форме мишени 1 толщиной от 1 до 4 мм, и плотно прижатая к ее внутренней поверхности 3. На основании 5 по центру установлен центральный магнит 11, а на периферии основания 5 расположены внешние магниты 12. На основании 5 расположен теплопередающий элемент 13 с внутренней проточкой 15, в которой расположен центральный магнит 11 и с внешними проточками 16, в которых установлен трубопровод охлаждения 17. Трубопровод охлаждения 17 выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного сечения и содержит патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18. При этом в теплопередающем элементе 13 выполнены отверстия 19, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18. Поперечное сечение трубопровода охлаждения 17 выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000. Технический результат заключается в повышении эффективности охлаждения и надежности работы узла катода магнетронного распылителя. 2 з.п. ф-лы, 4 ил.

 

Изобретение относится к области нанесения покрытий распылением металлов с использованием магнитного поля, а именно к магнетронным распылительным устройствам.

Известен узел катода магнетронного распылителя (патент RU №2555264, МПК С23С 14/35, опубл. 10.07.2015), содержащий основание из ферромагнитного материала, соединенную с основанием мишень из распыляемого материала, установленные на основании с внутренней стороны от мишени магниты, отделенные от нее зазором, и систему охлаждения.

Недостатком настоящего устройства является низкая надежность вследствие нагрева внешней части магнитной системы излучением как от мишени, так и от стенок корпуса магнетронов, а также наличия сложного в изготовлении основания из ферромагнитного материала, имеющего низкую теплопроводность и легко подвергающегося коррозии.

Наиболее близким по технической сущности к заявляемому изобретению является узел катода магнетронного распылителя (патент RU №2319788, МПК С23С 14/35, опубл. 20.03.2008), содержащий мишень, имеющую наружную сторону и внутреннюю сторону и выполненную по меньшей мере частично из распыляемого материала, расположенные с внутренней стороны от мишени магниты, теплоизолированные от мишени, и по меньшей мере один трубопровод для охлаждающей среды, имеющий стенку с частью, свободной от передачи тепла непосредственно от мишени.

Недостатком настоящего устройства является низкая надежность из-за ненадежного теплового контакта с контуром охлаждения, одновременного нагрева внешней части магнитной системы излучением от мишени и от боковых стенок корпуса магнетронов, а также возможность утечки охлаждающей среды в рабочий объем вакуумной камеры.

Технической задачей предлагаемого изобретения является повышение эффективности охлаждения мишени и магнитной системы узла катода магнетронного распылителя.

Технический результат заключается в повышении эффективности охлаждения и надежности работы узла катода магнетронного распылителя.

Это достигается тем, что узел катода магнетронного распылителя, содержащий мишень с внешней поверхностью и внутренней поверхностью, закрепленную в стенках корпуса, установленных на основании, соединительными винтами, первый электростатический экран, установленный с внешней стороны стенок корпуса и основания, выполненный идентичным их форме, закрепленный на основании крепежными болтами и электрически изолированный от него изоляторами, внешние магниты, расположенные на периферии основания, теплопередающий элемент и трубопровод охлаждения, снабжен центральным магнитом, установленным на продольной оси симметрии основания, пластиной, вторым электростатическим экраном и прижимными винтами, при этом пластина установлена со стороны внутренней поверхности мишени, выполнена по форме, идентичной форме мишени толщиной от 1 до 4 мм, и плотно прижата к ней и стенкам корпуса соединительными винтами, причем между пластиной и верхней плоскостью внешних магнитов образован теплоизоляционный зазор шириной от 0,5 до 2 мм, при этом общая толщина пластины с мишенью 1 не превышает 12 мм, второй электростатический экран установлен внутри первого электростатического экрана, выполнен идентичным его форме, электрически изолирован от основания изоляторами и закреплен на нем крепежными болтами таким образом, что между стенками корпуса, вторым электростатическим экраном и первым электростатическим экраном образованы зазоры от 2 до 4 мм, теплопередающий элемент расположен на основании, выполнен в виде вкладыша продолговатой формы и прижат своей верхней плоскостью к пластине прижимными винтами, а боковыми торцами - к внешним магнитам, при этом теплопередающий элемент содержит внутреннюю проточку, в которой расположен центральный магнит и выполненную идентичной его форме, внешние проточки, в которых установлен трубопровод охлаждения с патрубками подачи и отвода охлаждающей жидкости, выполненные идентичными его форме таким образом, что он плотно прижат к пластине, и отверстия, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости и выполненные по форме, идентичной форме их поперечного сечения, причем трубопровод охлаждения выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного поперечного сечения, которое выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000, при этом пластина и теплопередающий элемент выполнены из немагнитных материалов с высокой теплопроводностью, второй электростатический экран выполнен из немагнитного материала с низким значением коэффициента черноты.

Сущность изобретения поясняется чертежами, где на фиг. 1 изображена схема узла катода магнетронного распылителя, на фиг. 2 представлен внешний вид трубопровода охлаждения, на фиг. 3 показан внешний вид вкладыша, на фиг. 4 представлена схема трубопровода охлаждения и вкладыша в сборе.

Узел катода магнетронного распылителя содержит мишень 1 с внешней поверхностью 2 и внутренней поверхностью 3, закрепленную в стенках корпуса 4, установленных на основании 5, соединительными винтами 6, первый электростатический экран 7, установленный с внешней стороны стенок корпуса 4 и основания 5, выполненный идентичным их форме, и электрически изолированный от основания 5 изоляторами 8, и закрепленный на нем крепежными болтами 9. Со стороны внутренней поверхности 3 мишени 1 установлена пластина 10, выполненная по форме, идентичной форме мишени 1 толщиной от 1 до 4 мм, и плотно прижатая к ее внутренней поверхности 3 и стенкам корпуса 4 соединительными винтами 6. При этом общая толщина пластины 10 с мишенью 1 не превышает 12 мм.

На продольной оси симметрии основания 5 установлен центральный магнит 11, а на периферии основания 5 расположены внешние магниты 12, причем между верхней плоскостью внешних магнитов 12 и пластиной 10 образован теплоизоляционный зазор шириной от 0,5 до 2 мм. На основании 5 расположен теплопередающий элемент 13, выполненный в виде вкладыша продолговатой формы и прижатый своей верхней плоскостью к пластине 10 прижимными винтами 14, а боковыми торцами к внешним магнитам 12. Теплопередающий элемент 13 содержит внутреннюю проточку 15, в которой расположен центральный магнит 11 и выполненную идентичной его форме, и внешние проточки 16, в которых установлен трубопровод охлаждения 17, и выполненные идентичными его форме таким образом, что он плотно прижат к пластине 10. Причем трубопровод охлаждения 17 выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного сечения и содержит патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18. При этом в теплопередающем элементе 13 выполнены отверстия 19, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18, идентичные форме их поперечного сечения. Поперечное сечение трубопровода охлаждения 17 выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000.

Внутри первого электростатического экрана 7 установлен второй электростатический экран 20, выполненный идентичным его форме, электрически изолированный от основания 5 изоляторами 8, и закрепленный на нем крепежными болтами 9 таким образом, что между стенками корпуса 4, вторым электростатическим экраном 20 и первым электростатическим экраном 7 образованы зазоры от 2 до 4 мм.

Пластина 10 и теплопередающий элемент 13 выполнены из немагнитных материалов с высокой теплопроводностью, например меди или алюминиевого сплава. Второй электростатический экран 20 выполнен из немагнитного материала с низким значением коэффициента черноты. Трубопровод охлаждения 17 выполнен из коррозионно-стойкого материала, некорродирующего с применяемой охлаждающей жидкостью.

Узел катода магнетронного распылителя работает следующим образом.

В трубопровод охлаждения 17 подают охлаждающую жидкость. Затем на узел катода магнетронного распылителя подают высокое напряжение. При этом над мишенью 1 возникает газовый разряд, поддерживаемый скрещенными электрическими и магнитными полями. Наличие центрального магнита 11 позволяет настраивать конфигурацию магнитного поля над мишенью для нанесения металлических или диэлектрических (керамических) покрытий, что расширяет возможности управления технологическим процессом осаждения покрытий с помощью данного устройства.

Электроны плазмы, образующейся над мишенью 1, удерживаются магнитными полями, образуемыми внешними магнитами 12 и центральным магнитом 11 и дрейфуют по замкнутым траекториям над мишенью 1. Получаемые при этом положительно заряженные ионы рабочего газа ускоряются электрическим полем узла катода магнетронного распылителя, приобретают высокую кинетическую энергию и бомбардируют внешнюю поверхность 2 мишени 1 так, что распыляемый материал выбивается из мишени 1 и оседает на изделии.

Контакт пластины 10, обладающей высокой теплопроводностью, с внутренней поверхностью 3 мишени 1, трубопроводом охлаждения 17, теплопередающим элементом 13 и стенками корпуса 4 образует замкнутый контур теплопередачи (тепловой мостик) вокруг центрального 11 и внешних 12 магнитов. Это препятствует нагреву магнитной системы и отводит тепло от внутренней поверхности мишени 3.

Трубопровод охлаждения 17 находится в тепловом контакте с пластиной 10 и теплопередающим элементом 13, через которые проходит поток тепла от внутренней поверхности 3 горячей мишени 1 к охлаждающей жидкости, и не касается боковыми стенками других элементов. Это обеспечивается пастами или многослойной фольгой, выполненными из материалов с высокой теплопроводностью. Охлаждающая жидкость, циркулирующая по трубопроводу охлаждения 17, обеспечивает охлаждение мишени 1, предотвращающее ее разрушение под действием тепловых нагрузок, и обеспечивает эффективное охлаждение стенок корпуса 4, основания 5, пластины 10 и теплопередающего элемента 13, тем самым предотвращая нагрев центрального 11 и внешних 12 магнитов. Пластина 10 также препятствует разрушению трубопровода охлаждения 17 из-за распыления его материала при сквозном распылении мишени 1, что предотвращает возможность утечки охлаждающей жидкости в рабочий объем. Второй электростатический экран 20 препятствует одновременному осуществлению нагрева внешней части магнитной системы излучением от мишени 1 и от стенок первого электростатического экрана 7.

Использование изобретения позволяет повысить эффективность охлаждения и надежность работы узла катода магнетронного распылителя за счет создания вокруг магнитной системы замкнутого охлаждаемого теплопроводящего контура, организующего направленный поток тепла к трубопроводу охлаждения и обеспечивающего возможность сквозного распыления мишени, а также за счет препятствия нагреву деталей узла катода магнетронного распылителя от окружающей среды через стенки корпуса.

1. Узел катода магнетронного распылителя, содержащий мишень с внешней поверхностью и внутренней поверхностью, закрепленную в стенках корпуса, установленных на основании, соединительными винтами, первый электростатический экран, установленный с внешней стороны стенок корпуса и основания, выполненный идентичным их форме, закрепленный на основании крепежными болтами и электрически изолированный от него изоляторами, внешние магниты, расположенные на периферии основания, теплопередающий элемент и трубопровод охлаждения, отличающийся тем, что он снабжен центральным магнитом, установленным на основании по его продольной оси симметрии, пластиной, вторым электростатическим экраном и прижимными винтами, при этом пластина установлена со стороны внутренней поверхности мишени, выполнена по форме, идентичной форме мишени толщиной от 1 до 4 мм и плотно прижата к ней и стенкам корпуса соединительными винтами, причем между пластиной и верхней плоскостью внешних магнитов образован теплоизоляционный зазор шириной от 0,5 до 2 мм, при этом общая толщина пластины с мишенью не превышает 12 мм, второй электростатический экран установлен внутри первого электростатического экрана, выполнен идентичным его форме, электрически изолирован от основания изоляторами и закреплен на нем крепежными болтами с образованием между стенками корпуса, вторым электростатическим экраном и первым электростатическим экраном зазоров от 2 до 4 мм, при этом теплопередающий элемент расположен на основании, выполнен в виде вкладыша продолговатой формы и прижат своей верхней плоскостью к пластине прижимными винтами и боковыми торцами к внешним магнитам, при этом теплопередающий элемент содержит внутреннюю проточку, в которой расположен центральный магнит и выполненную идентичной форме центрального магнита, внешние проточки, в которых установлен трубопровод охлаждения с патрубками подачи и отвода охлаждающей жидкости, при этом внешние проточки выполнены идентичными форме трубопровода охлаждения таким образом, что он плотно прижат к пластине, и отверстия, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости, выполненные идентичными форме поперечного сечения патрубков подачи и отвода охлаждающей жидкости, причем трубопровод охлаждения выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного поперечного сечения, которое выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000.

2. Узел катода по п. 1, отличающийся тем, что пластина и теплопередающий элемент выполнены из немагнитных материалов с высокой теплопроводностью.

3. Узел катода по п. 1, отличающийся тем, что второй электростатический экран выполнен из немагнитного материала с низким значением коэффициента черноты.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к установке магнетронного напыления тонких пленок из карбидов или нитридов кремния на подложку, выполненную из полупроводникового материала, керамики или стекла.

Изобретение относится к области машиностроения, в частности к устройствам для синтеза и осаждения износостойких покрытий на изделиях в вакуумной камере. Устройство содержит вакуумную камеру, планарный магнетрон с плоской мишенью и источник питания разряда, соединенный положительным полюсом с вакуумной камерой и отрицательным полюсом с мишенью.

Изобретение относится к способу ионно-плазменного нанесения износостойкого и коррозионностойкого покрытия на изделия из алюминиевых сплавов. Поверхность очищают ионами аргона в плазме тлеющего разряда при напряжении разряда до 700 В, мощности до 1,5 кВт и рабочем давлении 1 Па в течение 10 мин.
Изобретение относится к способу получения тонких аморфных пленок халькогенидных стеклообразных полупроводников с эффектом фазовой памяти и может быть использовано в качестве рабочего слоя в устройстве энергонезависимой фазовой памяти для электронной техники.

Изобретение относится к стеклу с оптически прозрачным покрытием и способу его изготовления и может быть использовано при изготовлении оптических элементов космических аппаратов.
Изобретение относится к напылению теплозащитных покрытий и может быть использовано в авиастроении и других областях машиностроения при производстве деталей турбинных двигателей и установок.
Изобретение относится к напылению теплозащитных покрытий и может найти применение в авиастроении и других областях машиностроения при производстве деталей турбинных двигателей и установок.
Изобретение относится к напылению теплозащитных покрытий и может быть использовано в авиастроении и других областях машиностроения при производстве деталей турбинных двигателей и установок.
Изобретение относится к напылению теплозащитных покрытий и может быть использовано в авиастроении и других областях машиностроения при производстве деталей турбинных двигателей и установок.

Изобретение относится к способу магнетронного напыления многослойного равнотолщинного покрытия и установке для его осуществления и может быть использовано для получения оптических покрытий на поверхности оптических подложек.

Изобретение относится к многослойному покрытию, сформированному на подложке из слоев твердых материалов, и к способу его формирования. В вакуумируемой рабочей камере (2), имеющей катодно-дуговой источник-испаритель (Q1) с испаряемым материалом (M1) и источник (Q2) магнетронного разряда с высвобождаемым при магнетронном разряде материалом (М2), работающий в режиме высокоионизированного импульсного магнетронного распыления (HIPIMS), на поверхности подложки (1) формируют по меньшей мере один контактный слой (S1), содержащий испаряемый материал (Ml), посредством вакуумного катодно-дугового испарения. На упомянутом контактном слое (S1) формируют по меньшей мере один промежуточный слой (S2) в виде наноструктурированного смешанного слоя или в виде слоя нанокомпозита, содержащего испаряемый материал (M1) и высвобождаемый при разряде материал (М2), с помощью одновременного реактивного осаждения материалов посредством вакуумного катодно-дугового источника-испарителя (Q1) и источника (Q2) магнетронного разряда. Затем формируют по меньшей мере один верхний слой (S3), содержащий материал (М2), посредством источника (Q2) магнетронного разряда, работающего в режиме HIPIMS. Обеспечивается формирование многослойного покрытия, которое сочетает в себе преимущества обоих способов нанесения покрытий, а именно – вакуумного катодно-дугового испарения и процесса магнетронного разряда в режиме HIPIMS, и имеет меньшую шероховатость, чем многослойное покрытие принципиально того же химического состава, которое изготовлено известными из уровня техники способами. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 табл.

Использование: для изготовления микро- и наномеханических балок, обладающих заданным изгибом. Сущность изобретения заключается в том, что способ включает нанесение жертвенного слоя на подложку, последовательное нанесение двух или более слоев материала балки, отличающихся величиной внутренних механических напряжений, формирование балки на поверхности жертвенного слоя с помощью фотолитографии и травления материала балки, удаление жертвенного слоя из-под балки, нанесение слоев материала балки выполняют методом высокочастотного магнетронного распыления мишени, а разные внутренние механические напряжения в слоях обеспечивают за счет разных значений напряжения постоянного смещения на подложке, при которых наносят слои, при этом заданный изгиб балки достигают путем подбора толщин слоев материала балки, значений напряжения смещения и количества слоев. Технический результат заключается в расширении возможностей изготовления МЭМС/НЭМС балок с заданным изгибом. 2 з.п. ф-лы, 7 ил.

Изобретение относится к плазменной технике, в частности к магнетронным распылительным системам, и может быть использовано для нанесения покрытий методом магнетронного распыления металлической мишени в вакууме. Устройство содержит в корпусе-аноде (1) катодный узел, включающий в себя плоскую мишень-катод (2). В катодном узле за плоскостью мишени-катода (2), которая электрически соединена с электродом (3), расположена система магнитов (4) с магнитопроводом (5). Инжектор электронов (6) размещен в катодном узле. Через отверстие в мишени-катоде (2) электроны инжектируются в прикатодный слой магнетронного разряда. В результате получают значительную дополнительную энергию, соответствующую катодному падению потенциала, и производят эффективную ионизацию рабочего газа вблизи поверхности распыляемой мишени в условиях пониженного давления, когда самостоятельная форма горения магнетронного разряда затруднительна или даже невозможна. Техническим результатом данного изобретения является снижение давления рабочего газа в пространстве дрейфа потока распыленных атомов между мишенью и подложкой. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к технологии тонких пленок и может быть использовано при отработке технологии получения пленок, когда необходимо определить скорости напыления пленок в зависимости от расстояния источника материала-подложка.Техническим результатом изобретения является ускорение процесса контроля толщины скорости формирования пленки за счет упразднения дополнительных операций: вакуумизации камеры, перемещения подложки на новое расстояние мишень-подложка, формирование пленки, разгерметизация камеры. 2 ил.

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме. Устройство содержит плоскую мишень, установленную на основании, первую магнитную систему, расположенную внутри корпуса с первым каналом водяного охлаждения, источник питания электрического разряда и источник ионов газа. Основание установлено на корпусе. Источник ионов газа содержит внутренний полюсный наконечник с первой стенкой, внешний полюсный наконечник со второй стенкой, кольцевой анод со вторым каналом водяного охлаждения, плиту с третьим каналом водяного охлаждения, вторую магнитную систему и высоковольтный источник питания. Первая стенка и вторая стенка расположены напротив друг друга и образуют выходную апертуру, расположенную со стороны плоской мишени, а внутренний полюсный наконечник и внешний полюсный наконечник охватывают корпус с внешней стороны и отделены от него изолятором. В результате снижается рабочее давление и повышается качество наносимых покрытий. 2 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к технологии нанесения нанопленок в вакууме и может быть использовано в производстве изделий микроэлектроники. Устройство содержит вакуумную камеру, магнетрон с кольцевой зоной эрозии мишени и связанные кинематически с реверсивным электроприводом вакуумный ввод с поводковым зацепом и платформу с подложкодержателями. Подложкодержатели кинематически связаны посредством оси с роликами и установлены на платформе со смещением к центру мишени относительно зоны эрозии параллельно поверхности мишени. Ролики опираются на кольцевую направляющую, опорная поверхность которой имеет скос. В центре платформы, в нижней части оси, закреплена заслонка, выполненная в виде диска с отверстиями, размер которых не менее размера подложек. В верхней части оси, над платформой, установлен поводок, связанный с поводковым зацепом. На платформе установлены стопоры для возможности поворота заслонки в противоположные стороны. Изобретение направлено на снижение неравномерности толщины и повышение качества пленок. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к способу и системе для нанесения покрытий на подложку. В системе узел нанесения покрытия расположен внутри вакуумной камеры. Узел нанесения покрытия включает источник паров, обеспечивающий наносимый на подложку материал, подложкодержатель, удерживающий подложку, на которую наносят покрытие, таким образом, чтобы они располагались перед источником паров, узел катодной камеры и удаленный анод. Узел катодной камеры включает катод, необязательный первичный анод и экран, изолирующий катод от вакуумной камеры. Указанный экран имеет отверстия для пропускания тока электронной эмиссии от катода в вакуумную камеру. Источник паров расположен между катодом и удаленным анодом, а удаленный анод соединен с катодом. Система включает первичный источник питания, присоединенный между катодом и первичным анодом, и вторичный источник питания, присоединенный между узлом катодной камеры и удаленным анодом. Способ включает генерирование первичной дуги в испускающем электроны катодном источнике между катодной мишенью и первичным анодом, генерирование удаленной дуги, удерживаемой в зоне нанесения покрытия между узлом катодной камеры и анодом, соединенным с катодной мишенью, и генерирование потока паров металла из источника паров металла по направлению к по меньшей мере одной подложке, предназначенной для нанесения покрытия. Получаемые покрытия имеют улучшенную адгезию, гладкость, сверхтонкую микроструктуру, высокую плотность, низкую концентрацию дефектов и пористость и, соответственно, высокие функциональные характеристики.2 н. и 34 з.п. ф-лы, 29 ил.

Изобретение относится к плазменно- дуговому устройству для формирования покрытий и может быть эффективно использовано при формировании защитных и биосовместимых слоев дентальных и ортопедических имплантатов, при изготовлении технологических слоев электролитических ячеек тонкопленочных интегральных аккумуляторов и в химических реакторах, которые работают в агрессивных средах и в условиях высоких температур. В вакуумной камере (1) с вертикально расположенной продольной осью O-O1 осесимметрично размещены катод (3), охватывающий его анод (4) и экранирующий электрод (5) катодного узла (2). Устройство также содержит магнитную систему, держатель (21) подложки (22) и источник питания (25. Катод (3) выполнен из электропроводящего материала, а экранирующий электрод (5) расположен между катодом (3) и анодом (4). Магнитная система состоит из последовательно размещенных первой электромагнитной катушки (10) с торцевой поверхностью (11), расположенной в плоскости, перпендикулярной продольной оси О-O1 камеры(1), и второй электромагнитной катушки (15). Источник питания (25) подключен к аноду (4) и катоду (3) с обеспечением возникновения между ними электрической дуги. Катодный узел (2) снабжен первым приводным механизмом (30) с первым силовым блоком (42) и вторым приводным механизмом (33). Катод (3) установлен в камере (1) с расположением его рабочей поверхности (35) в плоскости, перпендикулярной продольной оси O-O1 камеры и с возможностью перемещения вдоль продольной оси O-O1 камеры, посредством первого приводного механизма с обеспечением совмещения плоскости размещения рабочей поверхности (35) катода (3) с плоскостью размещения торцевой поверхности (11) первой электромагнитной катушки (10), и с возможностью вращения катода (3) вокруг продольной оси O-O1 камеры посредством второго приводного механизма (33). В результате любой степени выработки рабочей поверхности катода, изобретение позволяет сохранять условия оптимальности положения катода по отношению к магнитным полям, что делает процесс нанесения покрытий контролируемым, а характеристики покрытий стабильными. 7 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к узлу катода магнетронного распылителя. Узел содержит мишень 1, закрепленную в стенках корпуса 4, первый электростатический экран 7, установленный с внешней стороны стенок корпуса 4 и основания 5. Со стороны внутренней поверхности 3 мишени 1 установлена пластина 10, выполненная по форме, идентичной форме мишени 1 толщиной от 1 до 4 мм, и плотно прижатая к ее внутренней поверхности 3. На основании 5 по центру установлен центральный магнит 11, а на периферии основания 5 расположены внешние магниты 12. На основании 5 расположен теплопередающий элемент 13 с внутренней проточкой 15, в которой расположен центральный магнит 11 и с внешними проточками 16, в которых установлен трубопровод охлаждения 17. Трубопровод охлаждения 17 выполнен в виде прямоугольной рамки со скошенными углами из труб прямоугольного сечения и содержит патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18. При этом в теплопередающем элементе 13 выполнены отверстия 19, в которые вставлены патрубки подачи и отвода охлаждающей жидкости 18. Поперечное сечение трубопровода охлаждения 17 выбрано из условия обеспечения эффективного охлаждения с турбулентным режимом течения охлаждающей жидкости, характеризующимся числом Рейнольдса не менее 8000. Технический результат заключается в повышении эффективности охлаждения и надежности работы узла катода магнетронного распылителя. 2 з.п. ф-лы, 4 ил.

Наверх