Способ изготовления прозрачной рассеивающей подложки осид и полученная подложка

Авторы патента:

H01L51/56 - Приборы на твердом теле, предназначенные для выпрямления, усиления, генерирования или переключения или конденсаторы или резисторы по меньшей мере с одним потенциальным барьером или поверхностным барьером; с использованием органических материалов в качестве активной части или с использованием комбинации органических материалов с другими материалами в качестве активной части; способы или устройства специально предназначенные для производства или обработки таких приборов или их частей (способы или устройства для обработки неорганических полупроводниковых тел, включающей в себя образование или обработку органических слоев на них H01L 21/00,H01L 21/312,H01L 21/47)

C03C17/04 - оплавлением (спеканием) стеклянного порошка

Владельцы патента RU 2638050:

СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС (FR)

Изобретение относится к способу изготовления прозрачной рассеивающей подложки органического светоизлучающего диода (ОСИД), содержащему следующие последовательные этапы: (a) шлифование одной поверхности или обеих поверхностей плоской светопропускающей стеклянной подложки толщиной 0,1-5 мм абразивной суспензией для получения плоской стеклянной подложки по меньшей мере с одной шероховатой поверхностью, имеющей профиль шероховатости со среднеарифметическим отклонением R_a 0,1-2,0 мкм, предпочтительно 0,15-1,5 мкм, (b) покрытие шероховатой поверхности или одной из шероховатых поверхностей стеклоприпоем с высоким показателем преломления, обладающим показателем преломления предпочтительно 1,7-2,2, (c) нагрев покрытой подложки до температуры выше температуры плавления стеклоприпоя с высоким показателем преломления и ниже температуры размягчения нижележащей подложки для образования эмали с высоким показателем преломления на одной из шероховатых поверхностей. Количество стеклоприпоя является достаточным для полного покрытия профиля шероховатости шероховатой поверхности после расплавления упомянутого припоя. Технический результат изобретения – обеспечение более пологого профиля шероховатости поверхности подложки с возможностью изготовления подложки в ходе одного этапа как с внутренним, так и с внешним светоизвлечением, упрощение обработки светорассеивающих подложек. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 1 пр., 1 табл.

Настоящее изобретение относится к новому способу изготовления светопропускающих, светорассеивающих подложек для органических светоизлучающих диодов (ОСИД) и к подложкам, получаемым таким способом.

ОСИД представляют собой оптоэлектронные элементы, содержащие пакет органических слоев с флуоресцентными или фосфоресцентными красителями, нанесенными между двумя электродами, по меньшей мере один из которых является светопропускающим. При приложении к электродам напряжения электроны, инжектируемые из катода, и дырки, инжектируемые из анода, рекомбинируют в органических слоях, приводя к излучению света из флуоресцентных/фосфоресцентных слоев.

Обычно известно, что извлечение света из стандартных ОСИД происходит достаточно слабо, и большая часть света улавливается за счет полного внутреннего отражения в органических слоях с высоким показателем преломления и прозрачных проводящих слоях (TCL). Полное внутреннее отражение происходит не только на границе между TCL с высоким показателем преломления и нижележащей стеклянной подложкой (показатель преломления примерно 1,5), но также и на границе между стеклом и воздухом.

Согласно оценкам в стандартных ОСИД, не содержащих никаких дополнительных светоизлучающих слоев, примерно 60% света, излучаемого из органических слоев, улавливается на границе TCL/стекло, дополнительная доля в 20% улавливается на поверхности раздела стекло/воздух и лишь примерно 20% выходит из ОСИД в воздух.

Известен способ решения этой проблемы посредством светорассеивающего слой между TCL и стеклянной подложкой. Такие светорассеивающие слои обладают высоким показателем преломления, близким к показателю преломления TCL, и содержат множество светорассеивающих элементов.

Также известен способ повышения выхода света за счет создания текстурированной границы раздела между стеклом и слоями с высоким показателем преломления в ОСИД.

Оба эти средства «внутреннего» светоизвлечения, также обычно называемые «слоями внутреннего светоизвлечения» (IEL), содержат шероховатости, которые необходимо выравнивать перед нанесением TCL или пакета органических слоев.

Кроме того, известен способ снижения улавливания света на границе раздела стекло/воздух посредством «слоя внешнего светоизвлечения» (EEL), состоящего, например, из текстурированной пленки из пластмассы, оптически связанной с внешней поверхностью стеклянной подложки.

В WO 2011/089343 раскрыты подложки ОСИД, содержащие по меньшей мере одну выровненную текстурированную поверхность с покрытием в виде стекла с высоким показателем преломления. Подложки описаны как текстурированные путем кислотного травления. В травлении стекла с использованием сильных кислот, в частности HF, обычно используют способ текстурирования стеклянных поверхностей. Однако такой способ жидкостной химической обработки представляет собой сложный процесс при его осуществлении на тонком стекле (толщина <1 мм). Эта технология позволяет осуществлять травление только одной из двух поверхностей за один технологический этап, поскольку стеклянную пластину в ходе этапа травления необходимо поддерживать в горизонтальном положении. Кроме того, параметры профиля шероховатости сложно оптимизировать, и все приведенное выше использование HF приведет к серьезным проблемам с безопасностью для окружающей среды и для людей, работающих рядом.

Идея, лежащая в основе настоящего изобретения, состоит в замене этапа химического придания шероховатости на куда менее опасный этап механического придания шероховатости, позволяющий лучше контролировать профиль шероховатости и дающий возможность одновременно делать шероховатыми обе стороны подложек, с получением, в ходе одного этапа, слоев как с внутренним, так и с внешним светоизвлечением (IEL и EEL) стеклянной подложки прозрачного ОСИД.

Этап шлифования, реализуемый в качестве первого этапа способа согласно настоящему изобретению, легко осуществляется на более тонких стеклянных подложках, обладающих толщинами менее 2 мм и даже менее 1 мм. Технологические параметры, такие как твердость и размер частиц абразива, давление шлифования, скорость и время, предусматривают легкое регулирование и контроль профиля шероховатости.

При сопоставлении шероховатых подложек, полученных путем химического травления и механического придания шероховатости, Заявители, кроме того, обнаружили, что для данного желаемого диапазона матовости примерно 85-95% профиль шероховатости подвергнутых механической обработке стеклянных поверхностей можно легко настраивать путем регулировки меша взвеси (гранулометрического состава взвеси), а следовательно, он может быть значительно менее глубокий, чем профиль для поверхностей, подвергнутых кислотному травлению. Это означает, что для удовлетворительного заполнения и сглаживания шероховатостей светорассеивающего профиля будет достаточным наличие покрытия в виде более тонкого стекла с высоким показателем преломления, что, таким образом, приводит как к снижению затрат на производство, так и к более тонкому конечному продукту.

Широко известно использование шлифования с последующей полировкой для утончения и выравнивания стеклянной подложки для индикаторных панелей, в частности для панелей жидкокристаллических дисплеев (ЖКД). В таких применениях требуется низкая матовость и низкие профили шероховатости. На этапе полировки сглаживание шероховатых поверхностей достигается путем использования крайне тонких и однородных абразивов. Отполированная поверхность обычно известна как «зеркальная поверхность».

В настоящем изобретении процесс выравнивания прерывают перед началом этапа тонкой полировки. Стеклянные подложки подвергают этапу одностороннего или двустороннего шлифования. После достижения подходящей шероховатости поверхности (Ra) одну сторону затем сглаживают не путем полировки тонкими абразивными частицами, как в уровне техники, а путем заполнения и нанесения покрытия на результирующий шероховатый профиль в виде стеклоприпоя с высоким показателем преломления и последующего расплавления, с образованием однородной плоской стеклянной эмали, лишенной каких-либо выступающих стеклянных пиков. Сторона, снабженная эмалью с высоким показателем преломления, образует слой внутреннего светоизвлечения (IEL) и будет в дальнейшем вмещать прозрачный проводящий слой (анод). В случае, когда этап шлифования осуществляют на обеих сторонах, вторая, не сглаженная поверхность, будет действовать как слой внешнего светоизвлечения (EEL).

Способ согласно настоящему изобретению представляется очень интересным, поскольку он подходит для стекла достаточно низкой марки, такого как флоат-стекло, имеющее дефекты поверхности (верхнее лужение, верхние пятна, …), поверхностные трещины или насечки, химическую модификацию поверхности, вызванную выветриванием или старением стекла после его хранения при высокой температуре и высокой влажности в течение длительного периода времени. Эти поверхностные дефекты будут исключены в ходе этапа шлифования. Более того, объемные дефекты, такие как пузырьки, будут становиться невидимыми из-за матовой поверхности, обеспеченной процесса шлифования. Использование стекла низкой марки предусматривает дальнейшее снижение себестоимости производства.

Таким образом, настоящее изобретение обеспечивает безопасный и достаточно простой процесс для изготовления тонких, дешевых светорассеивающих подложек для ОСИД. Три основных этапа процесса (шлифование плоской стеклянной подложки - нанесение покрытия из стеклоприпоя - расплавление покрытия из стеклоприпоя) хорошо известны из уровня техники и могут быть реализованы с помощью существующего или известного технического оборудования.

Однако, как хорошо известно заявителям, до сих пор эти этапы не были скомбинированы способом, описанным и заявленным ниже, для получения подложек для ОСИД.

Способ изготовления прозрачных рассеивающих подложек ОСИД согласно настоящему изобретению содержит следующие последовательные этапы:

(a) шлифования одной поверхности или обеих поверхностей плоской светопропускающей стеклянной подложки абразивной суспензией для получения плоской стеклянной подложки по меньшей мере с одной шероховатой поверхностью, имеющей профиль шероховатости со среднеарифметическим отклонением R_a, равным 0,1-2,0 мкм, предпочтительно 0,15-1,5 мкм, более предпочтительно от 0,2 до менее 1,0 мкм и наиболее предпочтительно 0,25-0,8 мкм,

(b) покрытия шероховатой поверхности или одной из шероховатых поверхностей стеклоприпоем с высоким показателем преломления, обладающим показателем преломления по меньшей мере 1,7, предпочтительно 1,7-2,2, причем количество стеклоприпоя с высоким показателем преломления является достаточным для полного покрытия профиля шероховатости шероховатой поверхности после расплавления упомянутого припоя;

(c) нагревания покрытой подложки до температуры выше температуры плавления стеклоприпоя с высоким показателем преломления и ниже температуры размягчения нижележащей подложки, для образования эмали с высоким показателем преломления на одной из шероховатых поверхностей.

Шлифовальная взвесь может представлять собой любую из известных взвесей, содержащих керамические абразивные частицы, обладающие достаточно высокой твердостью и подходящим размером частиц.

Предпочтительно, чтобы твердость по Кнупу абразивных частиц составляла по меньшей мере 1800 HK, предпочтительно по меньшей мере 2000 HK. Абразивные частицы выбраны, например, из группы, состоящей из оксида алюминия (включающего в себя белый корунд), карбида кремния, в частности черного и зеленого SiC, оксида циркония, легированного, например, Mg, Y или Ce, нитрида бора и смесей этих частиц и композитных частиц со структурой ядро-оболочка, таких как оксид алюминия, покрытый SiC.

Наиболее предпочтительными являются частицы белого корунда (2160 HK) и частицы зеленого SiC (2600 HK).

Предпочтительно, чтобы средний размер частиц абразива находился в диапазоне 500-5000 меш, более предпочтительно 800-3500 меш, даже более предпочтительно 1000-3200 меш и наиболее предпочтительно 2000-3000 меш.

Абразивные взвеси с более тонкими частицами (средний размер частиц >5000 меш) будут приводить к получению недостаточно шероховатых поверхностей и избыточно длительным периодам шлифования. При использовании избыточно крупных частиц (<500 меш) обрабатываемая стеклянная поверхность будет слишком шероховатой, что потребует наличия нежелательно высокого количества стеклоприпоя для сглаживания.

Подходящие абразивные взвеси выпускаются и продаются, например, компанией G&P Technology Company.

Как разъяснялось выше, предпочтительно, чтобы этап (a) шлифования выполнялся одновременно на обеих поверхностях плоской стеклянной подложки, что приводит к идентичному профилю шероховатости на обеих сторонах. Можно, конечно, рассмотреть шлифование обеих сторон по отдельности при различных условиях шлифования, но в том, чтобы так поступать, нет никаких особых преимуществ.

Среднеарифметическое отклонение R_a задано в ISO 4287. Оно может быть измерено путем растровой электронной микроскопии (РЭМ) поперечных сечений образца путем измерения профиля поверхности или путем трехмерной лазерной микроскопии. В настоящем изобретении большая часть экспериментальных результатов было получено путем конфокальной лазерной сканирующей микроскопии (микроскоп Keyence VK-X100, с размером лазерного пятна 0,26 мкм × 0,26 мкм, при анализе на поверхности 270 × 202 мкм). Среднюю ширину элементов профиля RS_m, таких как заданные в ISO 4287, можно измерить с помощью того же самого оборудования, но она может быть получена из линейного сканирования.

Плоские светопропускающие стеклянные подложки, поступающие на этап (a), как правило, имеют толщину 0,1-5 мм, предпочтительно 0,3-1,6 мм.

Предпочтительно, чтобы они были заблаговременно подвергнуты торцевой шлифовке, поскольку от стеклянных кромок, подвергнутых торцевой шлифовке, могут откалываться стеклянные кусочки, намного большие, чем абразивные частицы, и они могут привести к образованию неприглядных насечек на стеклянной поверхности.

Этап (a) шлифования может быть осуществлен на известных лабораторных или промышленных шлифовальных машинах, таких как полировальное оборудование в производстве ЖКД или более дешевое оборудование, предназначенное для оптических применений, требующих одновременной двусторонней полировки, такое как полировальная машина SpeedFam 22B (от компании SpeedFam Inc., Тайвань).

Предпочтительно, чтобы давление шлифования составляло 1,38-6,89 кПа (0,2-1,0 psi (фунт/дюйм²)), предпочтительно 2,1-5,5 кПа (0,3-0,8 psi), и поддерживалось в течение времени (времени шлифования), составляющего 3-60 минут, предпочтительно 5-30 минут и более предпочтительно 10-20 минут. Как правило, не обязательно выполнять два или более последовательных этапов шлифования, начиная с более крупных абразивов и заканчивая более тонкими абразивами. В предпочтительном варианте выполнения способ согласно настоящему изобретению содержит только один этап шлифования с использованием одиночного типа абразивной суспензии.

Плоская стеклянная подложка, полученная на этапе (a), у которой либо одна, либо обе ее поверхности являются шероховатыми, как правило, обладает матовостью, составляющей 75-98%, предпочтительно 85-97% и более предпочтительно 87-95%. Значение матовости может быть измерено с использованием оптических спектрофотометров, таких как PE Lambda 950 или Varian Carry 5000, но также с использованием специально предназначенного более быстрого и боле дешевого устройства, такого как прибор для измерения мутности BYK.

На следующем этапе тонкий слой стеклоприпоя с высоким показателем преломления наносят на шероховатую поверхность или на одну из шероховатых поверхностей подложки. Предпочтительно, чтобы такое покрытие было нанесено путем трафаретной печати, нанесения покрытия распылением, нанесения покрытия с удалением излишков с помощью планки, нанесение покрытия с помощью валка, нанесения покрытия с помощью щелевого автомата и возможно нанесения покрытия путем центрифугирования водной или органической суспензией частиц стекла. Описание подходящих стеклоприпоев с высоким показателем преломления и способов для нанесения покрытия и их отжига может быть обнаружено, например, в EP 2 178343.

Стеклоприпой следует выбирать таким образом, чтобы он имел точку плавления, составляющую 450-570°C, и его использование должно приводить к образованию эмали, обладающей показателем преломления 1,7-2,2.

Предпочтительные стеклоприпои обладают следующим составом:

Bi₂O₃: 55-75 вес.%;

BaO: 0-20 вес.%;

ZnO: 0-20 вес.%;

Al₂O₃: 1-7 вес.%;

SiO₂: 5-15 вес.%;

B₂O₃: 5-20 вес.%;

Na₂O: 0,1-1 вес.%;

CeO₂: 0-0,1 вес.%.

В типичном варианте выполнения частицы стеклоприпоя (70-80 вес.%) смешивают с 20-30 вес.% органического разбавителя (этилцеллюлозы и органического растворителя). Полученную припойную пасту затем наносят на текстурированную стеклянную подложку путем трафаретной печати или путем нанесения покрытия с помощью щелевого автомата. Полученный слой высушивают путем нагрева при температуре 120-200°C. Органическое связующее (этилцеллюлоза) сгорает при температуре 350-440°C, и этап отжига, приводящий к образованию конечной эмали, осуществляют при температуре 450-570°C.

Полученные эмали показали шероховатость поверхности со среднеарифметическим отклонением R_a (ISO 4287) менее 0,5 нм, при измерении с помощью атомно-силового микроскопа (AFM) на поверхности 10 × 10 мкм.

Одним из преимуществ настоящего изобретения является достаточно пологий профиль шероховатости шлифованных поверхностей. Поскольку шлифованные поверхности могут иметь более низкую среднюю высоту профиля элементов (ISO 4287:1997, 4,1,4), чем подложки, подвергнутые кислотному травлению, минимальное количество для полное покрытия текстуры может быть снижено.

В настоящем изобретении количество стеклоприпоя с высоким показателем преломления, нанесенного на шероховатую поверхность на этапе (b), как правило, составляет 15-100 г/м², предпочтительно 20-90 г/м², более предпочтительно 25-80 г/м²и наиболее предпочтительно 30-70 г/м².

В конце этапа отжига эмаль может содержать небольшие поры, заполненные газом, захваченным внутри затвердевшего покрытия. Такие поры преимущественно действуют как дополнительные светорассеивающие элементы. Концентрацию этих пор можно регулировать путем настройки размера частиц припоя и условий отжига, и предпочтительно, чтобы она составляла 0,1-2 об.%, более предпочтительно 0,5-1,8 об.%.

Предпочтительно, чтобы в стеклоприпое, используемом в настоящем изобретении, и в полученной из него эмали, по существу, отсутствовали бы твердые рассеивающие частицы, такие как частицы кристаллического SiO₂ или TiO₂. Такие частицы обычно используют в качестве рассеивающих элементов в рассеивающих слоях с высоким показателем преломления, но, как правило, для них требуется дополнительное сглаживание слоя с повышением, таким образом, общей толщины покрытия с высоким показателем преломления. В настоящем изобретении пологий профиль шероховатости, наряду с отсутствием твердых рассеивающих элементов, предусматривает наличие покрытий в виде очень тонкого стекла с высоким показателем преломления.

Отшлифованные и сглаженные стеклянные подложки, полученные на этапе (c), являются особо пригодными в качестве подложек для ОСИД с излучением вниз. Прозрачный проводящий слой следует наносить поверх эмали с высоким показателем преломления, перед нанесением пакета органических светоизлучающих слоев.

Поэтому, в предпочтительном варианте выполнения, способ согласно настоящему изобретению содержит, кроме того, дополнительный этап (этап (d)) покрытия эмали с высоким показателем преломления, полученной на этапе (c), прозрачным проводящим слоем, предпочтительно прозрачным проводящим оксидом.

Прозрачные проводящие слои, которые могут быть использованы в качестве анодов для ОСИД, хорошо известны из уровня техники. Большая часть обычного используемого материала представляет собой ITO (Indium Tin Oxide, оксид индия и олова). Прозрачный проводящий слой должен обладать пропусканием света по меньшей мере 80% и показателем преломления 1,7-2,2. Его общая толщина обычно составляет 50-200 нм.

Как хорошо известно заявителям, прозрачная подложка ОСИД, получаемая способом согласно настоящему изобретению, содержит:

- плоскую светопропускающую стеклянную подложку, имеющую на одной стороне или на обеих сторонах профиль шероховатости, описанный выше, и

- эмаль с высоким показателем преломления, обладающую показателем преломления по меньшей мере 1,7, предпочтительно 1,7-2,2, полностью покрывающую профиль шероховатости шероховатой поверхности, и при необходимости

- прозрачный проводящий слой, нанесенный на эмали с высоким показателем преломления, который еще не был описан в работах согласно уровню техники и поэтому также являющийся объектом настоящего изобретения.

Это, конечно, также применимо для органического светоизлучающего диода, содержащего такую прозрачную подложку ОСИД, предпочтительно на его анодной стороне.

Пример

Восемнадцать стеклянных пластин (200 × 200 мм, флоат-стекло), имеющих толщину 0,7 мм, были подвергнуты шлифованию на шлифовальное оборудование, что предусматривает одностороннее и одновременное двустороннее шлифование.

Было использовано четыре различных абразивных взвеси, выпускаемые компанией G&P Technology Company, имеющие размеры частиц соответственно 500 меш, 1000 меш, 2000 меш и 3000 меш. Для одностороннего и для двустороннего шлифования были использованы тончайшие абразивные взвеси (2000 меш и 3000 меш). Каждое шлифование было совершено троекратно, т.е. проведено на трех стеклянных пластинах.

В конце этапа шлифования образцы были очищены путем ультразвуковой обработки для устранения частиц, все еще прилипающих к поверхности, подвергнутой обработке абразивом.

Поверхности, подвергнутые обработке абразивом, были затем исследованы с помощью трехмерной лазерной микроскопии (микроскоп Keyence VK-X100, размер лазерного пятна 0,26 × 0,26 мкм, λs=0,8 мкм, λc=0,25 мм) для определения профиля и параметров шероховатости. На каждом образце были проведены три анализа крупной области (270 × 202 мкм), и из девяти серий исходных данных (из трех анализов на каждом из трех образцов) были рассчитаны средние значения.

В таблице, приведенной ниже, показано среднеарифметическое отклонение (Ra), максимальная высота профиля (Rz) и средняя ширина элементов профиля (RSm) для оцениваемых профилей. В таблице также представлены данные для сравнительного образца (SATINOVO®), полученного травлением HF.

Результаты, приведенные в Таблице 1, представленной ниже, показывают, что для данного удовлетворительного диапазона матовости, составляющего примерно 88-94% (образцы, подвергнутые односторонней шлифовке), профили, полученные на этапе (a) способа настоящего изобретения, имеют значительно более низкие параметры шероховатости (Ra), чем параметры шероховатости шероховатой стеклянной подложки согласно уровню техники (SATINOVO®), подвергнутой HF-травлению. Максимальная высота профиля (Rz), например, 1, полученная с помощью самой крупной абразивной взвеси (абразив #500), аналогична образцу SATINOVO®согласно уровню техники, но для всех Примеров, полученных с помощью более тонких абразивных взвесей, значения Rz будут значительно ниже, чем для SATINOVO®.

Таблица 1
Пример	Способ придания шероховатости	Ra (мкм)	Rz (мкм)	RSm (мкм)	Матовость (%)
1	Одностороннее шлифование абразивом #500	1,52	17,8	N/A	93,1
2	Одностороннее шлифование абразивом #1000	0,65	8,9	45,3	90,6
3	Одностороннее шлифование абразивом #2000	0,34	4,5	36,0	88,8
4	Одностороннее шлифование абразивом #2000	0,34	4,5	36,0	96,1
5	Одностороннее шлифование абразивом #3000	0,31	4,4	34,6	88,4
6	Одностороннее шлифование абразивом #3000	0,31	4,4	34,6	94,7
Сравнительный образец (SATINOVO®)	Одностороннее травление HF	2,40	16,9	N/A	88,0

Минимальное количество стеклоприпоя с высоким показателем преломления для удовлетворительного сглаживания подложки согласно Примерам 1, 2, 3, и 5 составляло соответственно 90 г/м², 65 г/м², 60 г/м² и 55 г/м², тогда как для образца SATINOVO® требовалось примерно 110 г/м².

Вышеприведенные результаты показывают, что способ согласно настоящему изобретению обеспечивает достаточно простое, дешевое и эффективное средство для изготовления тонких светорассеивающих стеклянных подложек, подходящих для изготовления ОСИД со слоями внутреннего и внешнего светоизвлечения.

1. Способ изготовления прозрачной рассеивающей подложки органического светоизлучающего диода (ОСИД), содержащий следующие последовательные этапы, на которых:

(a) шлифуют одну наружную поверхность или обе поверхности плоской светопропускающей стеклянной подложки абразивной суспензией для получения плоской стеклянной подложки по меньшей мере с одной шероховатой поверхностью, имеющей профиль шероховатости со среднеарифметическим отклонением R_a, составляющим 0,1-2,0 мкм, предпочтительно 0,15-1,5 мкм, более предпочтительно от 0,2 до менее 1,0 мкм и наиболее предпочтительно 0,25-0,8 мкм,

(b) покрывают шероховатую поверхность или одну из шероховатых поверхностей стеклоприпоем с высоким показателем преломления, обладающим показателем преломления по меньшей мере 1,7, предпочтительно 1,7-2,2, причем количество стеклоприпоя с высоким показателем преломления является достаточным для полного покрытия профиля шероховатости шероховатой поверхности после расплавления упомянутого припоя;

(c) нагревают покрытую подложку до температуры выше температуры плавления стеклоприпоя с высоким показателем преломления и ниже температуры размягчения нижележащей подложки для образования эмали с высоким показателем преломления на одной из шероховатых поверхностей.

2. Способ по п. 1, в котором абразивная суспензия согласно этапу (a) содержит абразивные частицы, обладающие твердостью по Кнупу по меньшей мере 1800 HK, предпочтительно по меньшей мере 2000 HK.

3. Способ по п. 2, в котором абразивные частицы выбраны из группы, состоящей из оксида алюминия (включающего в себя белый корунд), карбида кремния (SiC), в частности черного и зеленого SiC, оксида циркония, легированного, например, Mg, Y или Ce, нитрида бора, смесей этих частиц и композитных частиц со структурой ядро-оболочка, таких как оксид алюминия, покрытых SiC, в частности из частиц белого корунда или зеленого SiC.

4. Способ по любому из пп. 2 и 3, в котором абразивные частицы обладают средним размером частиц, находящимся в диапазоне от 500 до 5000 меш, предпочтительно от 800 до 3500 меш, более предпочтительно от 1000 до 3200 меш и наиболее предпочтительно от 2000 до 3000 меш.

5. Способ по п. 1, в котором этап (a) шлифования осуществляют одновременно на обеих поверхностях плоской стеклянной подложки.

6. Способ по п. 1, в котором давление шлифования на этапе (a) составляет 1,38-6,89 кПа.

7. Способ по п. 1, в котором время шлифования на этапе (a) составляет 3-60 мин, предпочтительно 5-30 мин, более предпочтительно 10-20 мин.

8. Способ по п. 1, в котором матовость плоской стеклянной подложки с одной или двумя шероховатыми поверхностями, полученными на этапе (a), составляет 85-97%, предпочтительно 87-96%.

9. Способ по п. 1, в котором количество стеклоприпоя с высоким показателем преломления, нанесенного на шероховатую поверхность на этапе (b), составляет 15-100 г/м², предпочтительно 20-90 г/м², более предпочтительно 25-80 г/м² и наиболее предпочтительно 30-70 г/м².

10. Способ по п. 1, в котором стеклоприпой и полученная эмаль, по существу, не содержат рассеивающих частиц, таких как частицы SiO₂ или TiO₂.

11. Способ по п. 1, в котором плоская светопропускающая стеклянная подложка, поступающая на этап (a), обладает толщиной 0,1-5 мм, предпочтительно 0,3-1,6 мм.

12. Способ по п. 1, дополнительно содержащий этап, на котором покрывают эмаль с высоким показателем преломления, полученную на этапе (c), прозрачным проводящим слоем, предпочтительно прозрачным проводящим оксидом.

13. Способ по п. 1, в котором стеклоприпой с высоким показателем преломления имеет следующий состав, вес.%:

Bi₂O₃	55-75
BaO	0-20
ZnO	0-20
Al₂O₃	1-7
SiO₂	5-15
B₂O₃	5-20
Na₂O	0,1-1
CeO₂	0-0,1

14. Прозрачная подложка органического светоизлучающего диода (ОСИД), получаемая способом по любому из пп. 1-11.

15. Органический светоизлучающий диод (ОСИД), содержащий прозрачную подложку по п. 14.

Изобретение относится к области приборов на твердом теле с использованием органических материалов в качестве активной части, в частности к микродисплеям, изготовленным по OLED-технологии, и может быть использовано при создании дисплеев нового поколения, включая дисплеи объемного изображения, а также в оптических приемо-передающих устройствах.

Высоковольтное органическое люминесцентное устройство // 2631015

Изобретение относится к области полупроводниковых светоизлучающих приборов, а именно - к электролюминесцентным устройствам на основе органических светоизлучающих диодов.

Устройство на органических светодиодах и его изготовление // 2626996

Использование: для изготовления OLED устройства. Сущность заключается в том, что способ содержит этапы предоставления электропроводящей несущей подложки с первой несущей поверхностью и второй несущей поверхностью, компоновки по меньшей мере первой несущей поверхности со структурированным слоем изоляционного материала в интегральной области, причем слой изоляционного материала сформирован в виде структуры с множеством отверстий так, что электрический доступ к первой несущей поверхности возможен от верхней поверхности слоя изоляционного материала, противоположной первой несущей поверхности, компоновки структурированного проводящего покрытия на изоляционном материале на его верхней поверхности так, что проводящее покрытие входит в отверстия и покрывает изоляционный материал в интегральной области, причем проводящее покрытие структурируют так, что в проводящем покрытии образуется ряд отдельных первых электродных областей, нанесения органического светоизлучающего слоя поверх по меньшей мере одной первой электродной области, нанесения второго электродного слоя поверх органического светоизлучающего слоя.

Производные карбазола для органических электролюминисцентных устройств // 2626977

Изобретение описывает производные карбазола формулы (1), где Υ представляет собой в каждом случае, одинаково или различно, CR; X является выбранным из C(R1)2; которые характеризуются тем, что присутствует, по крайней мере, одна группа R, которая означает, одинаково или различно в каждом случае, группу следующей формулы (2), и/или тем, что присутствует, по крайней мере, одна группа R1, которая означает следующую группу формулы (3), в частности, для применения в качестве триплетных материалов матрицы в органических электролюминесцентных устройствах.

Электролюминесцентный гибкий источник света мини-неон // 2624915

Изобретение относится к электролюминесцентным источникам света. Электролюминесцентный протяженный гибкий источник света (ЭПГИС) состоит из последовательно расположенных: центрального электрода, выполненного из медной проволоки; слоя титаната бария; электролюминофора в полимерных связующих; прозрачного проводящего слоя; по меньшей мере двух токопроводящих электродов; полимерного слоя и внешнего полимерного слоя.

Донорно-акцепторные сопряженные молекулы и способ их получения // 2624820

Изобретение относится к новым донорно-акцепторным сопряженным молекулам общей формулы (I), .Технический результат: новые соединения, отличаются растворимостью в органических растворителях, высокой термической стабильностью и эффективным поглощением света в длинноволновой области спектра, кроме того, способ их получения технологичен.

Устройство освещения // 2624265

Изобретение относится к устройству освещения, размещенному в фюзеляже самолета, и касается органических электролюминесцентных (ЭЛ) устройств освещения. Устройство содержит органическую ЭЛ панель и схему возбуждения панели.

Способ приготовления полимерных пленок для солнечных батарей (варианты) // 2623717

Изобретение относится к способу изготовления полимерных пленок для солнечных батарей с использованием органических фотовольтаических ячеек. Способ представляет собой приготовление мезопористого донорного полимерного слоя темплатным методом с применением неорганических микро/наночастиц в качестве темплатов, которые удаляют из композитной пленки путем обработки кислотами или щелочами, с последующим заполнением пористого пространства полимера акцепторным органическим материалом.

Способ изготовления пластины маски и подложки матрицы // 2619817

Использование: для изготовления пластины маски и подложки матрицы. Сущность изобретения заключается в том, что пластина маски включает рисунок веерных проводников, имеющий некоторое число линий веерного тиснения, при этом эффективная длина каждой линии веерного тиснения равна, и каждая линия веерного тиснения имеет заданную ширину линии, и каждая из нескольких линий веерного тиснения имеет по меньшей мере одну кривую часть, при этом у одной линии веерного тиснения, имеющей две или больше кривых частей, эти несколько кривых частей имеют S-образную форму и расположены непрерывно, и у одной линии веерного тиснения ширина линии по меньшей мере в одной кривой части меньше, чем заданная ширина линии веерного тиснения.

Инкапсулирующая барьерная многослойная структура // 2618824

Изобретение относится к барьерным полимерным пленкам и касается инкапсулирующей барьерной многослойной структуры, способной инкапсулировать изделие, чувствительное к влаге и/или кислороду.

Способ декорирования стеклоизделий // 2637538

Изобретение относится к области декорирования стеклоизделий. Способ декорирования стеклоизделий включает операции накладывания трафарета из медной или алюминиевой фольги на стеклоизделие, установку стеклоизделия на вращающуюся турнетку, подачу стеклопорошка в плазменную горелку, плазменное напыление стеклопорошка, снятие трафарета и контроль качества.

Способ и установка для лазерной обработки поверхности ситалла // 2463267

Изобретение относится к области обработки поверхности керамических материалов лазерным излучением для получения наноструктурных аморфизированных пленок, преимущественно из ситалла.

Диэлектрическая композиция для антибликового покрытия и способ его формирования // 2272329

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использована в производстве газоразрядных индикаторных панелей, а именно в получении антибликового покрытия.

Диэлектрическая композиция для антибликового покрытия, паста на ее основе и способ формирования антибликового покрытия // 2196365

Способ формирования антибликовой поверхности индикатора // 2152912

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано в производстве индикаторов. .

Способ эмалирования твердых деталей стеклянных плиток в электростатическом поле // 164946

Способ окрашивания стеклоизделия // 128993

Способ глазурования листовых стекол // 2640617

Изобретение относится к глазурованию листовых стекол. Техническим результатом является ускорение процесса глазурования листовых стекол. Способ глазурования листовых стекол включает в себя подачу стеклопорошка в плазменную горелку, подогрев изделий отходящими плазмообразующими газами, напыление стеклопорошка на лицевую поверхность изделий и контроль качества. При этом осуществляется двухсторонний подогрев листового стекла отходящими плазмообразующими газами при одновременном напылении стеклопорошка. Мощность работы плазмотрона 9 кВт. Расход порошка глазури 2,5-2,75 г/с. Скорость прохождения плазменной горелки по поверхности листового стекла составляет 0,20 м/с. 4 табл., 1 пр.

Осветительное устройство с полимером, содержащим люминесцирующие фрагменты // 2640780

Изобретение относится к осветительному устройству, включающему источник света для генерирования излучения источника света и конвертер света. Конвертер включает матрицу из первого полимера. Матрица включает дискретные зоны, содержащие второй полимер с люминесцентной функциональностью, представляющий ароматический сложный полиэфир, содержащий люминесцирующие фрагменты. Причем первый полимер химически отличается от ароматического сложного полиэфира. Дискретные зоны занимают объем в диапазоне 0,5-50% от объема конвертера. Описываются также конвертер для преобразования света в люминесценцию и способ получения указанного конвертера. Изобретение обеспечивает повышение стабильности люминофора и увеличение срока службы конвертера. 3 н. и 9 з.п. ф-лы, 6 ил., 1 пр.

Полимерное соединение и его применение в фотовольтаических устройствах // 2640810

Изобретение относится к полимерному соединению, к вариантам композиций, предназначенных для изготовления полимерных фотовольтаических, светоизлучающих устройств и органических транзисторов, а также к способу получения полимерного соединения и его применению. Полимерное соединение имеет общую формулу (I), где n - целое число от 2 до 2000 и представляет собой количество повторяющихся мономерных звеньев в полимерной цепи, которые могут быть идентичными или различными, R1, R2, R3, R4 - одинаковы или отличны друг от друга и представляют собой атом водорода, галогена, алкильную группу, алкоксильную группу, тиоалкильную группу, арильную группу, арилоксигруппу, тиоарильную группу, арилалкильную группу, арилалкоксигруппу, арилалкилтиогруппу, арилалкенильную группу, арилалкинильную группу, одновалентную гетероциклическую группу, гетероциклическую тиогруппу, аминогруппу, замещенную аминогруппу, силильную группу, замещенную силильную группу, ацильную группу, ацилоксигруппу, иминный остаток, амидную группу, кислотно-имидную группу, карбоксильную группу, замещенную карбоксильную группу, цианогруппу или нитрогруппу, R5, R6 - одинаковы или отличны друг от друга и представляют собой алкильную группу С1-С20; X представляет собой группу где Y=N-R7, или CR8R9, или SiR8R9, где R7, R8, R9 одинаковы или отличны друг от друга и представляют собой алкильную группу С1-С20 или принимают те же значения, что и R1, R2, R3, R4, R5 или R6, EG-1 и EG-2 - концевые группы полимерного соединения, не зависящие друг от друга и представляющие собой атом водорода, галогена, триалкилстаннил (-Sn(Alkyl)3), остаток борной кислоты (-В(ОН)2), эфир борной кислоты (-B(OAlkyl)2), арильный или гетероарильный фрагмент. Композиция содержит хотя бы одно полимерное соединение общей формулы (I) и по крайней мере один материал, выбранный из группы, включающей дырочно-транспортный материал, электрон-акцепторный материал, электрон-транспортный материал и светопоглощающий материал. По второму варианту композиция содержит хотя бы одно полимерное соединение общей формулы (I) и хотя бы одно фуллереновое соединение. Способ получения полимеров общей формулы (I) заключается в том, что проводят реакцию поликонденсации Стилле или Сузуки для связывания исходных мономеров вместе, с образованием сопряженного полимера. Полимеры формулы (I) применяют для изготовления фотовольтаических преобразующих устройств, предпочтительно солнечных ячеек, солнечных батарей, солнечных модулей и оптических сенсоров. Изобретение позволяет повысить электронные свойства полимеров и улучшить фотовольтаические свойства преобразующих устройств. 5 н. и 10 з.п. ф-лы, 8 ил., 1 табл., 4 пр.

Полимерное соединение и его применение в фотовольтаических устройствах // 2641103

Изобретение относится к полимерному соединению, к вариантам композиций, предназначенных для изготовления различных органических или гибридных оптоэлектронных изделий, структур и устройств, в том числе органических фотовольтаических устройств и органических светоизлучающих транзисторов, а также к способу получения полимерного соединения и его применению. Полимерное соединение имеет общую формулу (I), где n - целое число от 2 до 2000 и представляет собой количество повторяющихся мономерных звеньев в полимерной цепи, которые могут быть идентичными или различными, R1, R2, R3, R4 представляют собой атом водорода; R5, R6 одинаковы или отличны друг от друга и представляют собой алкильную группу С1-С20; X представляет собой группу где Y=N-R7, или CR8R9, или SiR8R9, где R7, R8, R9 одинаковы или отличны друг от друга и представляют собой алкильную группу С1-С20, EG-1 и EG-2 - концевые группы полимерного соединения, не зависящие друг от друга и представляющие собой атом водорода, галогена, триалкилстаннил (-Sn(Alkyl)3), остаток борной кислоты (-В(ОН)2), эфир борной кислоты (-B(OAlkyl)2), арильный или гетероарильный фрагмент. Композиция содержит хотя бы одно полимерное соединение формулы (I) и по крайней мере один материал, выбранный из группы, включающей дырочно-транспортный материал, электрон-акцепторный материал, электрон-транспортный материал и светопоглощающий материал. По второму варианту композиция содержит хотя бы одно полимерное соединение формулы (I) и хотя бы одно фуллереновое соединение. Способ получения полимеров формулы (I) заключается в том, что проводят реакцию поликонденсации Стилле или Сузуки для связывания исходных мономеров вместе с образованием сопряженного полимера. Полимеры формулы (I) применяют в изготовлении фотовольтаических преобразующих устройств, предпочтительно, солнечных ячеек, солнечных батарей солнечных модулей и оптических сенсоров. Изобретение позволяет получить полимер с оптимальными электронными свойствами, имеющий ширину запрещенной зоны 1,2-1,7 эВ, который можно использовать при изготовлении фотовольтаических преобразующих устройств с более высокими эффективностями фотоэлектрического преобразования света. 5 н. и 11 з.п. ф-лы, 9 ил., 1 табл., 8 пр.