Способ лазерного скрайбирования неметаллической пластины

Изобретение относится к способу лазерной обработки неметаллических пластин и может быть использовано для скрайбирования полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. На поверхность пластины воздействуют последовательными тремя лазерными импульсами. Плотность энергии в каждом из импульсов определяют в зависимости от удельной энергии сублимации материала пластины, показателя поглощения материала на длине волны лазерного излучения, коэффициента отражения и требуемой глубины канавки. При этом безразмерный параметр, равный произведению глубины канавки на показатель поглощения материала на длине волны лазерного излучения, больше 2,433. Технический результат изобретения заключается в снижении энергетических затрат при скрайбировании неметаллических пластин. 1 табл.

 

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для скрайбирования полупроводниковых, керамических и стеклообразных пластин.

Известен способ лазерной обработки неметаллических материалов [Патент РФ № 2486628, МПК Н01L 21/42, 27.06.2013], заключающийся в облучении их поверхности лазерными импульсами с плотностью энергии в каждом импульсе, определяемой по формуле

,

где W – плотность энергии, Дж/см2;

Q – удельная энергия сублимации материала, Дж/см3;

е – основание натурального логарифма;

χ – показатель поглощения материала на длине волны лазерного излучения, см-1;

R – коэффициент отражения материала.

При такой плотности энергии воздействующего лазерного излучения происходит сублимация поглощающего слоя материала толщиной 1/χ, причем энергетические затраты на единицу массы сублимирующего материала будут минимальны. Если при скрайбировании пластин требуется глубина канавки больше, чем 1/χ, то производят воздействие несколькими импульсами. Количество импульсов лазерного излучения определяют как отношение требуемой глубины канавки к толщине сублимирующего слоя материала пластины при воздействии одного импульса

,

где h – требуемая глубина канавки.

Общее количество воздействующих импульсов лазерного излучения определяют по формуле:

,

где L – длина канавки при скрайбировании;

d – диаметр лазерного пучка.

Недостатком способа является то, что он не позволяет проводить скрайбирование неметаллических пластин при минимальных энергетческих затратах, когда требуемое количество лазерных импульсов N1 не является целочисленным. Например, пластина из цветного оптического стекла ЖЗС12 имеет показатель поглощения на длине волны 1,06 мкм 10 см-1 [ГОСТ 9411-90 Стекло оптическое цветное. М.: Издательство стандартов. 1992. – 48 с.], а требуется глубина канавки при скрайбировании 0,12 или 0,18 см.

Известен также способ лазерного скрайбирования неметаллических пластин [Патент РФ № 2566138, МПК В23К 26/364, 20.08.2014], включающий воздействие на поверхность пластины двумя лазерными импульсами, при этом плотность энергии в первом импульсе определяют по формуле

плотность энергии во втором импульсе определяют по формуле

а глубина канавки составляет 1,46≤χh≤2.

Недостатком этого способа является существенное увеличение энергетических затрат на скрайбирование неметаллических пластин при возрастании требуемой глубины скрайбирования, когда χh>2.

Известен также способ лазерного скрайбирования неметаллических пластин, включающий воздействие на поверхность пластины двумя лазерными импульсами с плотностью энергии в каждом импульсе, определяемой по формуле

а χh>2.

Патент РФ № 2761834, МПК B23K 26/364, 13.12.2021. Прототип.

Недостатком этого способа является существенное увеличение энергетических затрат на скрайбирование неметаллических пластин при возрастании требуемой глубины скрайбирования, когда χh>2,433.

Техническим результатом изобретения является снижение энергетических затрат при скрайбировании пластин из полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов.

Технический результат достигается тем, что в способе скрайбирования неметаллической пластины, включающем воздействие на ее поверхность нескольких лазерных импульсов c плотностью энергии, зависящей от удельной энергии сублимации материала пластины, показателя поглощения материала на длине волны лазерного излучения, коэффициента отражения материала и требуемой глубины канавки, скрайбирование пластины осуществляют тремя лазерными импульсами с плотностью энергии в каждом импульсе, определяемой по формуле

где: W – плотность энергии лазерного излучения, Дж/см2;

Q – удельная энергия сублимации материала пластины, Дж/см3;

е – основание натурального логарифма;

χ – показатель поглощения материала пластины на длине волны лазерного излучения, см-1;

h – требуемая глубина канавки при скрайбировании, см;

R – коэффициент отражения материала пластины;

а безразмерный параметр χh>2,433.

Ниже приводится описание способа лазерного скрайбирования неметаллической пластины.

Сущность способа состоит в следующем. Плотность энергии лазерного излучения на поверхности пластины, удельное энерговыделение Е при поглощении лазерного излучения в материале пластины и координата х, отсчитываемая от поверхности пластины вглубь, связаны формулой

Сублимация материала произойдет на глубину х при условии E(x)≥Q. При воздействии одного лазерного импульса требуемая плотность энергии на поверхности пластины, обеспечивающая сублимацию материала на глубину h, рассчитывают по формуле

При воздействии двух лазерных импульсов с плотностью энергии в каждом, определяемой по уравнению (3), суммарная плотность энергии будет составлять

При этом глубина канавки составит h/2 в каждом импульсе и суммарно h.

При воздействии трех лазерных импульсов с плотностью энергии в каждом, определяемой по уравнению (4), суммарная плотность энергии будет составлять

При этом глубина канавки составит h/3 в каждом импульсе и суммарно h.

Определим лучший вариант воздействия с точки зрения минимизации энергетических затрат на скрайбирование. Для этого разделим уравнение (8) на уравнение (7). После простых математических преобразований получим:

Результаты расчетов по уравнению (9) в интервале значений безразмерного параметра

2≤ χh≤4 приведены в таблице.

Таблица

2 2,2 2,4 2,6 2,8 3 3,2 3,4 3,6 3,8 4
1,07 1,04 1,005 0,973 0,941 0,91 0,88 0,851 0,823 0,796 0,77

Точное значение параметра χh, при котором необходимо переходить от воздействия двух лазерных импульсов с плотностью энергии в каждом, рассчитанной по уравнению (3), к воздействию трех лазерных импульсов с плотностью энергии в каждом, рассчитанной по уравнению (4), находят из условия

Из уравнения (10) находим

Таким образом, расчеты показывают преимущества предложенного способа скрайбирования неметаллической пластины перед прототипом при значении безразмерного параметра χh>2,433.

Пример реализации способа. Перед началом скрайбирования по известным значениям требуемой глубины канавки и показателя поглощения материала пластины на длине волны лазерного излучения рассчитывают значение безразмерного параметра χh. Если χh>2,433 заданную глубину канавки получают воздействием трех лазерных импульсов с плотностью энергии в каждом импульсе, определяемой по уравнению (4). Затем перемещают пластину на расстояние, равное или меньшее диаметру лазерного пучка, и опять воздействуют тремя лазерными импульсами. Указанное перемещение повторяют необходимое количество раз для получения требуемого контура канавки.

Способ лазерного скрайбирования неметаллической пластины, включающий воздействие на ее поверхность нескольких лазерных импульсов c плотностью энергии, зависящей от удельной энергии сублимации материала пластины, показателя поглощения материала на длине волны лазерного излучения, коэффициента отражения материала и требуемой глубины канавки, отличающийся тем, что скрайбирование пластины осуществляют тремя лазерными импульсами с плотностью энергии в каждом импульсе, определяемой по формуле

,

где W - плотность энергии лазерного излучения, Дж/см2;

Q - удельная энергия сублимации материала пластины, Дж/см3;

е - основание натурального логарифма;

χ - показатель поглощения материала пластины на длине волны лазерного излучения, см-1;

h - требуемая глубина канавки при скрайбировании, см;

R - коэффициент отражения материала пластины;

χh>2,433 - безразмерный параметр.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для лазерного отжига или легирования полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Способ лазерной обработки неметаллических материалов согласно изобретению заключается в предварительном подогреве материала до начальной температуры, определяемой из условия термопрочности, связывающего прочностные, теплофизические свойства материала, длительность лазерного импульса и температуру отжига, и воздействии на материал лазерного импульса с плотностью энергии, достаточной для достижения поверхностью материала температуры отжига (плавления).

Изобретение относится к способу лазерной обработки неметаллических пластин и может быть использовано для скрайбирования полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Требуемая глубина канавки достигается за счет последовательного воздействия двух лазерных импульсов.

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для лазерного отжига пластин из полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Техническим результатом изобретения является исключение разрушения пластин термоупругими напряжениями в процессе обработки и повышение выхода годных.

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для лазерного отжига пластин из полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Cпособ лазерной обработки неметаллических пластин согласно изобретению включает предварительный нагрев пластин до температуры, определяемой из предложенного уравнения, исходя из условия термопрочности пластин, и облучение поверхности пластин непрерывным лазерным излучением с плотностью энергии, достаточной для достижения на поверхности температуры отжига.

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для лазерного отжига или легирования полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Способ лазерной обработки неметаллических материалов согласно изобретению заключается в предварительном подогреве материала до начальной температуры, определяемой из условия термопрочности, связывающего прочностные, теплофизические свойства материала, длительность лазерного импульса и температуру отжига, и воздействии на материал лазерного импульса с плотностью энергии, достаточной для достижения поверхностью материала температуры отжига (плавления).

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для лазерного отжига пластин из полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. В способе лазерной обработки неметаллических пластин, заключающемся в облучении их поверхности импульсом лазерного излучения с плотностью энергии, зависящей от температуры отжига, начальной температуры пластины, удельной теплоемкости и плотности материала пластины, а также показателя поглощения материала пластины на длине волны лазерного излучения, осуществляют предварительный нагрев пластины до определенной температуры.

Изобретение относится к способу лазерной пробивки сквозных отверстий в пластинах из полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Осуществляют разделение лазерного пучка на два.

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для лазерного отжига пластин из полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Предложен способ лазерной обработки неметаллических пластин, заключающийся в облучении их поверхности непрерывным лазерным излучением с плотностью энергии, достаточной для достижения поверхностью пластины температуры отжига.

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для лазерного отжига пластин из полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Техническим результатом изобретения является исключение разрушения пластин термоупругими напряжениями в процессе обработки и повышение выхода годных.

Изобретение относится к области технологических процессов и может быть использовано для лазерного отжига пластин из полупроводниковых, керамических и стеклообразных материалов. Техническим результатом изобретения являются исключение разрушения пластин термоупругими напряжениями в процессе обработки и повышение выхода годных.

Изобретение относится к изготовлению прозрачных компонентов часов, в частности к области часовых стёкол, выполненных из твёрдого материала, такого как сапфир, минеральное стекло и т.п. Способ резки часового стекла (1) вдоль контура (2) в пластине из прозрачного материала (3) осуществляется в соответствии со следующими этапами: выполнение на первой стороне (4) пластины (3) первой линии реза или реза (5) для формирования первой фаски (6) для каждого стекла (1) пластины (3); переворачивание пластины (3) и определение положения первых фасок (6) или ранее выполненной механически обработанной метки (4); выполнение на второй стороне (7) второй линии реза или реза (8) для формирования второй фаски (9) для каждого стекла (1); отделение стекол (1) с помощью сквозной механической обработки пластины (3) по каждому контуру (2) для формирования края (11) стекла (1).
Наверх