Патент ссср 338563

 

338563

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Фома Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 26.Ч1.1970 (№ 1452357/22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 15.Ч.1972. Бюллетень № 16

Дата опубликования описания 9.VI.1972

М. Кл. С 23с 13/08

Комитет по делам иаобретвиий и открытий при Совете Мииистров

СССР

УДК 621.793.14.002.52 (088.8) Автор изобретения

И ...."...,-. -",- - (..

1 нблио;-,;-з

Е. Д. Пронин

Заявитель

НАТЕКАТЕЛЬ ДЛЯ ВАКУУМНЫХ КАМЕР

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме.

Известный натекатель для вакуумных камер, содержащий капилляр, не обеспечивает плавную регулировку поступления газа в камеруу.

Цель изобретения — обеспечение плавной регулировки поступления газа в камеру — достигается тем, что капилляр закрыт мембраной, снабженной электромагнитом.

На чертеже изображен натекатель, общий вид.

Натекатель состоит из капилляра 1, закрытого мембраной 2, снабженной электромагнитом 8. При подаче тока в обмотку электромагнита мембрана начинает колебаться, вследствие чего капилляр 1 периодически с частотой тока открывается. Объем подаваемой порции газа зависит от частоты и амплитуды тока, проходящего через обмотку электромагнита. Винт 4 служит для поджатия пружины 5, меняющей жесткость мембраны. Изменение жесткости мембраны влияет на производительность натекания. Натекатель крепится к стенке камеры б при помощи втулки 7 через резиновое уплотнение 8.

Предмет изобретения

Натекатель для вакуумных камер, содержащий капилляр, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности плавной регулировки поступления газа в камеру, капилляр закрыт мембраной, снабженной электромагнитом.

338563

Составитель И. Резник

Техред А. Камышникова Корректор T. Китаева

Редактор Г. Бялобжеская

Заказ 1644/8 Изд. № 703 Тираж 448 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Патент ссср 338563 Патент ссср 338563 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к системам ультравысокого вакуума для обработки полупроводникового изделия, к геттерным насосам, используемым в них, и к способу обработки полупроводникового изделия

Изобретение относится к области нанесения покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к технологии вакуумно-дуговой обработки металлов, в частности к производству многослойных лент
Изобретение относится к изготовлению приборов оптоэлектроники и может быть использовано при изготовлении дисплеев, светоизлучающих диодов и затворов полупроводниковых структур типа металл-диэлектрик-полупроводник

Изобретение относится к области изготовления самонесущих тонких пленок, в частности, к способам и устройствам для получения бериллиевой и бериллийсодержащей фольги, используемых для окон при регистрации низкоэнергетических излучений, и может найти применение в прикладной физике, машиностроении, при обработке металлов и в других отраслях промышленности

Изобретение относится к промышленному транспорту, в частности к устройству для непрерывной загрузки емкостей, например пластиковых бутылок

Изобретение относится к области нанесения покрытий и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к геттерной системе для очистки газовой рабочей атмосферы в процессах физического осаждения из паровой фазы
Наверх