Устройство для подачи порошковых материалов

 

Сотое Ссеетских

Социалистических

Республик 3o Ф-ЕТЕH ия

Зависимое от авт. свп тетельства М

Заявлено 21.Х.1969 (№ 1368299/26-9) с присоединением заявки М—

Приоритет—

М. Кл. С 23с 13/08

Комитет тто делам изобретений и открытий при Совете министров

СССР

Опубликовано 20.Х11.1972. Бюллетень чо 3 за 1973

Дата опубликования описания 6.IV.1973

УДК 621.793.14. .002.5(088.8) Автор изобретения

Ф. А. Коледа

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОДАЧИ ПОРОШКОВЫХ МАТЕРИАЛОВ

В ИСПАРИТЕЛЬ

Изобретение относится к вакуумной технологии и может быть использовано, например, для разработок или изготовления тонкопленочных схем микроэлектроники.

Известные устройства для подачи порошковых материалов в испаритель, содержащие вращающийся подложкодержатель в виде диска, и состоящие из бункера, дозатора и механизма встряхивания бункера, потеют

c,10æ11 lo конструкпию.

В предлагаемом устройстве упрощение конструкции достигается тем, что бункер закреплен на планке, подвешенной на плоских пружинах, на конце которой закреплен ролик, взаимодс йствующий с выемками, выполненными по периферии диска подложкодержатсл я.

На фиг. 1 представлена конструктивная схема предлагаемого устройства; на фиг. 2 показано предлагаемое устройство, расположенное в камерс напылптельной установки колпакового типа.

Бункер 1, в котором находится запас порошкообразного материала, закреплен на планке 2, упруго подвешенной при помощи плоских пружин 3 и 4 к основанию 5, на котором закреплен кронштейн б, несущий перемешивающий элемент 7, находящийся в бункере 1, и лоток 8. Перемешивающий элемент 7 может представлять собой цилиндрическую пружину, нижний .îíåö которой свободен. По условиям эксплуатации бункер 1 и кронштейн б с элементом 7 могут быть смонтированы также и в обратном порядке, т. е. бункер 1 может быть б закреплен на ос .ованин 5, а кронштейн 6 с элементом 7 — на планке 2.

В нижней част.l бункера 1 над лотком 8.выполнено одно пли несколько отверстий. Зти отверстия н ттеют такие размеры, что при не10 подвижном состоянии материала он в эти отверстия не высыпается. Основание 5 снабжено планкой 9 для крепления к внутрикамерным элементам 10 вакуумной установки 11 и поворотным рычагом 12, поводок 13 которого

l5 связан тя-ой (на фиг 1, 2 не показана) с приводом упраьленпя заслонкой 14, расположенной над испарителем 15. На планке 2 имеется ролик 1б, который в нейтральном положении рычага 12 прижат пружинами 3 и 4 к перифе20 рии диска — дер>тсателя 17 подложек, снабженного зубцами 18.

При повороте рычага 12 по стрелке А ролик 16 может оыть выведен из контакта с зубцами 18. Вся конструкция описываемого

25 устройства закреплена в камере19 вакуумной установки 11 под держателем 17 над заслонкой 14. Поводок 13 соединен с приводом управления заслонкой 14 таким образом, что положение заслонки 14, при котором она задо крывает испаритель 15, соответствует отсутст362884

1 г1

/ иа. f

Фиг 2

Составитель С. Лукинская

Редактор А. Батыгин Техред T. Миронова Корректоры Е. Миронова и Г. Запорожец

Заказ 996 Изд. № 38 Тираж 404 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография ¹24 Союзпо.лиграфпрома, .Москва, .121019,,ул. Маркса — Энгельса, 14. вию контакта ролика 1б с зубцами 18.

Принцип действия устройства заключается в следующем.

После проведения известных подготовительных работ и откачки установки заслонку 14 переводят и положение, обеспечивающее закрывание испарителя 15. При этом внутрикамерное оборудование и испаритель 15 могут быть прогреты.

После включения на рабочий режим испарителя 15 и включения непрерывного вращения держателя 17 открывают заслонку 14. При этом ролик 1б взаимодействует с зубцами 18, в результате чего планка 2 совершает колебательные движения в направлении Б. Последнее вызывает равномерное перемещение и, вследствие этого, — равномерное высыпание материала из бункера 1 на лоток 8 и далее— в испаритель 15. Образованию комков препятствует имеющийся в бункере 1 и колеблющийся относительно оси перемешивающнй элемент 7.

При выоранных параметрах зубцов 18, роликов !б и пружин 8, 4 скорость высыпания материала может быть скорректирована изменением скорости вращения держателя 17, хотя такая корректировка во время процесса напыления в настоящее время не является необходимой.

Предмет изобретения

Устройство для подачи порошковых материалов в испаритель, например, для установок вакуумного напыления, содержащее вращающийся подложкодержатель в виде диска, и состоящее из бункера, дозатора и механизма встряхивания бункера, отличающееся тем, что, с целью упрощения конструкции, бункер закреплен на планке, подвешенной на плоских пружинах, на конце которой закреплен ролик, взаимодействующий с выемками, выполненны20 ми по периферии диска подложкодержателя.

Устройство для подачи порошковых материалов Устройство для подачи порошковых материалов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме
Наверх