Моющая азеотропная композиция

Авторы патента:

А. П. Гиндис, Д. Т. Костин, Т. Н. Андриевска , Е. А. Гербеева

H05K3/26 - очистка и(или) полировка токопроводящей схемы

C11D7/22 - органические соединения

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

37225I

Союз CBBBTBKHI

Социалистические

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 05.VI I.1971 (№ 1682549/26-9) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 01:111.1973. Бюллетень № 13

Дата опубликованйя описания 15.V.1973

М. Кл. С lid 7/22

Н 051с 3/26

Комитет по делам изобретений и открытий ори Совете Министров

СССР

УДК 661.185:621.396.6. .049.75 (088.8) Авторы изобретения

А. П. Гиндис, Д. Т. Костин, Т. Н. Андриевская и E. А. Гербеева

Заявитель

МОЮЩАЯ АЗЕОТРОПНАЯ КОМПОЗИЦИЯ

Предмет изобретения

Изобретение относится к технике очистки различных изделий, в частности элементов;радиоэлектронной аппаратуры (в том числевЂ” плат печатного монтажа), от жанровых, механических загрязнений, остатков канифольных флюсов и т. д.

Известная азеотропная композиция, содержащая 1,1,2-трифтортрихлорэтан и изопропиловый спирт, недостаточно активна по отношению к флюсовым загрязнениям. Кроме того, после ее использования остаются белые отложения.

Указанные недостатки моющей азеотропной композиции устранены благодаря тому, что в ее состав введен тетрафтордибромэтан, а компоненты взяты в следующем соотношении (в об. %):

1,1,2-Трифтортр ихлорэтан 56,5 вЂ” 61,5

Изопропиловый спирт 3 вЂ” 4

Тетрафтордибромэтан 35 вЂ” 40

Предлагаемая моющая композиция высокоэффективна, имеет узкую температурную область кипения (45 вЂ” 46 С), может быть использована при различных способах очистки (химической, ультразвуковой и т. д,), Регенерацию этой азеотропной композотции можно проводить при непрерывном процессе очистки.

Моющая азеотропная композиция для очи10 стки элементов радиоэлектронной аппаратуры, в частности плат печатного монтажа, от каннфольных флюсов, жировых и механических загрязнений, содержащая 1,1,2-трифтортрихлорэтан я изопропиловый спирт, отличаю15 итаяся тем, что, с целью повышения качества очистки от канифольных флюсов, она дополнительно содержит тетрафтордибромэтан при следующем соотношени|и компонентов (в об.

%):

2О 1,1,2-Трифтортрихлорэтан 56,5 вЂ” 61,5

Изопропиловый спирт 3,0 вЂ” 4,0

Тетрафтордибромэтан 35 вЂ” 40

Патент 235235 // 235235

Способ приготовления белковой основы для клеящих, моющих и красочных препаратов // 75512

Средство отбеливающее, моющее и дезинфицирующее // 2161186

Изобретение относится к отбеливающим, моющим и дезинфицирующим средствам, в частности к приготовлению и хранению растворов гипохлорита натрия

Моющее средство // 2445352

Изобретение относится к радиоэлектронике и может быть использовано, например, для отмывки печатных узлов от остатков флюса после пайки или припойной пасты после ее оплавления

Жидкая очищающая композиция // 2445353

Изобретение относится к созданию жидкой очищающей композиции, используемой в радиоэлектронике для поверхностного монтажа с помощью трафаретной печати электрорадиоэлементов и интегральных схем ответственных соединений, а также для жестких условий эксплуатации

Моющая азеотропная композиция // 380695

Состав для чистки твердой поверхности "эгата // 771150

Состав отбеливающий, моющий и дезинфицирующий // 2533418

Изобретение относится к отбеливающим, моющим и дезинфицирующим составам. Описывается состав, содержащий, мас.%: гипохлорит натрия в расчете на активный хлор 10,0-12,0, гидроокись натрия 1,5-2,0, карбонат натрия 1,1-1,4, 2,6-дитретбутил-4-метилфенол или 2,6-дитрет-бутилфенол 0,05-0,3, вода остальное. Технический результат - повышение эффективности состава, а также стабильности гипохлорита натрия и стабильности предлагаемого состава при хранении. 2 табл., 4 пр.

Композиция для очистки после химико-механического полирования (после - смр), содержащая конкретное содержащее серу соединение и сахарный спирт или поликарбоновую кислоту // 2631870

Очищающая композиция после химико-механического полирования (после-СМР), содержащая: (А) соединение, представляющее собой цистеин, N-ацетилцистеин, тиомочевину или их производное, (В) эритрит, (С) водную среду и (Е) по меньшей мере одно поверхностно-активное вещество, и ее применение для удаления остатков и загрязнений с поверхности полупроводниковых подложек, содержащих электропроводящие слои (такие как медные слои), электроизолирующие диэлектроизолирующие диэлектрические слои (такие как слои диэлектриков с низкой или сверхнизкой диэлектрической проницаемостью) и барьерные слои (такие как слои тантала, нитрида тантала, нитрида титана или рутения), т.е. изобретение относится к применению очищающей композиции после СМР для удаления остатков и загрязнений, содержащих бензотриазол после СМР. 6 н. и 20 з.п. ф-лы, 5 табл., 3 ил.

Многоцелевой ферментный детергент и способы стабилизации применяемого раствора // 2642077

Изобретение относится к области композиций моющих средств. Описана многоцелевая твердая детергентная композиция, содержащая: от 60 до 85 мас.% источника щелочности карбоната щелочного металла; от 0,1 до 5 мас.% фермента протеазы; от 0,1 до 30 мас.% азотсодержащего или растворимого крахмального или полисахаридного стабилизирующего агента, и воду, где из детергентной композиции получают твердый детергентный блок, применяемый раствор композиции имеет рН по меньшей мере 9, и фермент протеаза сохраняет 40% ферментной активности при температуре по меньшей мере 65°C в применяемом растворе в течение по меньшей мере 20 мин. Технический результат – предотвращение повторного осаждения белковых загрязнений, снижение пенообразования. 3 н. и 20 з.п. ф-лы, 10 табл., 6 пр., 5 ил.

Средство для химической очистки металлических поверхностей // 2644157

Изобретение относится к химическим средствам и может быть использовано для обработки воды оборотных систем охлаждения технологического, теплоэнергетического и теплообменного оборудования. Конкретно, для эксплуатационной очистки и защиты от накипно-коррозионных отложений (НКО) различных металлических теплопередающих поверхностей из черных и цветных металлов, используемого в металлургической промышленности технологического, теплоэнергетического и теплообменного оборудования. Описано средство для химической очистки металлических поверхностей, содержащее комплексон и цинковый комплекс, дополнительно содержит дисперсант, калия гидроокись, натрия гидроокись, 1,2,3-Бензотриазол и ингибитор, причем в качестве цинкового комплекса оно содержит оксид цинка, в качестве дисперсанта оно содержит сополимер акриловой кислоты /2-акриламидо-2-метил-1-пропансульфоновой кислоты, в качестве ингибитора оно содержит ингибитор «PuroTech 43», а в качестве воды - воду деминерализованную, при этом компоненты используют в следующем соотношении (мас.%): комплексон 2,0-10,0, оксид цинка 0,5-1,0, сополимер акриловой кислоты /2-акриламидо-2-метил-1-пропансульфоновой кислоты 3,0-10,0, калия гидроокись 0,3-1,0, натрия гидроокись 0,1-1,0, 1,2,3-Бензотриазол 0,05-0,1, ингибитор «PuroTech 43» 25,0-40,0, деминерализованная вода остальное. Технический результат – повышение качества состава за счет улучшения ее растворяющей способности и снижения скорости коррозии.1 з.п. ф-лы, 3 табл.

Способ получения фотошаблонных заготовок // 2208920

Изобретение относится к электронной промышленности, в частности к способам получения фотошаблонных заготовок (ФШЗ), одного из основных материалов микроэлектроники

Способ очистки изделий из бериллиевой керамики от примеси углерода // 2258331

Изобретение относится к способам очистки керамических изделий от примесей, в частности к способу очистки поверхности и объема изделий из керамики ВеО от примеси углерода, в том числе подложек для микросхем и мощных резисторов, транзисторов, окон для СВЧ-радаров, каналов газоразрядных лазеров, поверхности и объема вакуумно-плотных изоляторов, применяемых в камерах с магнитным обжатием-МАГО, для получения высокотемпературной замагниченной водородной плазмы

Способ получения фотошаблонных заготовок // 2269213

Изобретение относится к электронной промышленности

Способ получения фотошаблонных заготовок // 2292679

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на литографических операциях при изготовлении фотошаблонов для полупроводниковых приборов и интегральных схем

Способ производства полупроводниковых систем на основе фольгированного полиимида // 2295845

Изобретение относится к способу производства полупроводниковых систем, в частности к вскрытию контактных площадок в печатных платах, шлейфах, микросхемах, изготовленных на основе полиимидной пленки, когда необходимо удаление с контактных площадок адгезива из эпоксидной смолы, которой склеивается медная фольга с полиимидной основой

Способ производства полупроводниковых систем на полиимидном основании // 2295846

Изобретение относится к электротехнике, в частности к способу производства полупроводниковых систем, изготавливаемых на основе полиимида, где требуется вскрытие контактных площадок для соединения проводящих слоев разных уровней печатных плат

Способ получения фотошаблонных заготовок // 2308179

Изобретение относится к области электротехники, в частности к изготовлению фотошаблонных заготовок, предназначенных для формирования интегральных схем

Устройство для зачистки плоских поверхностей обрабатывающей жидкостью, преимущественно суспензией пемзового абразива // 2050710

Изобретение относится к технологии изготовления печатных плат и может быть использовано в радиотехнической, электротехнической и приборостроительной промышленности

Способ очистки отверстий печатных плат // 2074537

Изобретение относится к радиоэлектронной промышленности, а именно к очистке печатных плат