Устройство для непрерывной л\еталлизации цилиндрических оснований резисторов

 

УБ4

382770

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства ¹â€”

1 М. Кл. С 23с 13/08

Н Olc 17/00

Заявлено 20.!.1971 (¹ 1618241j22-1) с присоединением заявки №вЂ”

Приоритет—

Опубликовано 23.Ч.1973. Бюллетень № 23

Дата опубликования описания 14.VIII.1973

Комитет по делам изобретений и открытий при Секете Иииистров

СССР

УД К 621.793.14.002.51 (088.8) Авторы изобретения

M. Б. Гвильман и Л. Г. Серапин

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НЕПРЕРЫВНОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ

ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ ОСНОВАНИЙ РЕЗИСТОРОВ

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано при производстве металлопленочных резисторов.

Известно устройство для непрерывной металлизации цилиндрических оснований резисторов, содержащее вакуумную камеру, внутри которой укреплены механизм транспортировки и испаритель, и загрузочное устройство.

Однако в известном устройстве осуществляется лишь поступательное движение цилиндрических оснований резисторов над испарителем в процессе напыления, что затрудняет получение однородного покрытия на всей поверхности основания.

Предлагаемое устройство отличается тем, что механизм транспортировки выполнен в виде вращающейся спирали, смонтированной в кожухе с вырезом вдоль ее оси.

Такое выполнение повышает однородность покрытия.

На фиг. 1 изображена предлагаемая конструкция устройства; на фиг. 2 — конструкция механизма транспортировки.

Устройство состоит из вакуумной камеры

1, внутри которой укреплены механизм травспортировки -и испаритель 2, загрузочного устройства 8, причем механизм транспортировки выполнен в виде вращающейся спирали 4, смонтированной в кожухе 5 с вырезом б вдоль ее оси, емкости 7 для размещения оснований резисторов 8, входHblx шлюзов 9, зыходных шлюзов 10, направляющего цилиндрического лотка 11. Спираль 4 закреплена во втулках 12 и приводится во вращение приводом 18, который может быть выполнен в виде цилиндра с насаженной шестеренкой. Испаритель 2 длительного действия в виде ленточного транспорте ра с ячейками 14, расположен

10 под механизмом- транспортировки. Нагревательные элементы 15 и 16 предназначены для прогрева и испарения сплава соответственно.

Дозатор 17 служит для подачи определенны. порций сплава в ячейки 14 испарителя 2. Зкран 18 предохраняет основания резисторов 8 от осаждения на них паров сплава прп их прохождении пад нагревательным элементом

15. Конструкция загрузочного устройства 8 обеспечивает высокую скорость ввода основа 0 íий резисторов 8 в камеру 1.

Устройство работает следующим образом.

Из емкости 7 основания резисторов 8 по.даются в загрузочное устройство 8, которое„ ориентируя их, подает через направляющий лоток 11 и входные шлюзы 9 в спираль 4 механизма транспортировки, который сообщает основаниям 8, следующим друг за другом внутри спирали 4, совместное вращательное движение вокруг собственной оси и дополниЗС тельное поступательное движение вдоль оси

382770

Предмет изобретгния

4 5

1!,Г уг |г

1 7

2 18 т 1á

Фиа.1

Фиь 7

Составитель Л. Анисимова

Техред T. Курилко Короектор С. Сатагулова

Редактор Л. Лаврова

Заказ 428/1267 Изд. М 585 Тираж 826 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, УК-85. Раушская наб., д. 4/5

Тип. Харьк. фнл. пред. «Патент» с1гирал11 4 (основное поступательное движение осноган71ем о сообщается загрузочным

УCTPOIICTBOii 8) .

Основания 8, проходя над ". Iãifêaiifff 14 испарите7я 2, В которые нг рг1эывно пода!о i с11 опргделенные порции сн-ilfià з .Ioaa lope !7 и которые движутся с определенной скоростью, равномерно мета7лизнруются. Прн этом, в связи с тем, что условия 11анесгння токопроводящего слоя одинаковы для всех ос1онаний 1О

8, получаются металлизированны: основания резисторов, обладающие одинаковыми э7гктрическими свойствами. I1oñëå прохождения камеры 1 мета 7лизи1рованныг ос;1ования В выводятся в приемное уст;>oifcrso, pacfio.7u?Kf iflIoL ьч1г установки (на чертеже не пока RcfffO) .

Ус-ройство для нопрерыз 1ой металлизации цилиндрических оснований резисторов, содгржащее вакуумную камеру, внутри которой укреплены механизм транспортировки и испаритель, и загрузочное устройство, отличаюи ееся тем, что, с целью повышения однородност.:1 покрытия, механизм транспортировки выполнен в виде вра1цающейся спирали, смонтированной в кожухе с вырезом вдоль ее осн.

Устройство для непрерывной л\еталлизации цилиндрических оснований резисторов Устройство для непрерывной л\еталлизации цилиндрических оснований резисторов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме и направлено на снижение неравномерности толщины пленки
Наверх