Индукционно-плазменная плавильная установка

Авторы патента:

H05B5 - Электрический нагрев; устройства электрического освещения, не отнесенные к другим классам (устройства специального назначения см. в соответствующих рубриках, например A47J,B21J,B21K,C21,C22,C23, F21,F24,F27)

H05B11H05B7 -

F27B14/06 - с электронагревом, например индукционные, в том числе тигельные печи, в которых кроме электронагрева используется какой-нибудь другой вид нагрева ( F27B 14/04 имеет преимущество)

О П И C=- À -Н-И Е

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (»1 46232Q (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 08.05.73 (21) 1921011,24-7 с присоединением заявки № (51) М. Кл. Н 05Ь 11, 00

Н 05Ь 7/00

F 27Ь 14/06

Г Уд Р нный комитет (23) Приоритет

Совета Министров СССР

Опубликовано 28.02.75. Бюллетень ¹ 8

Дата опубликования описания 14.04.75 (53) УДК 621.365.69 (088.8) по делам изобретений и открьпий (72) Авторы изобретения Г. Д. Зайцев, В. С, Малиновский, А. А. Простяков и Н. И. Фомин (71) Заявитель (54) ИНДУКЦИОННО-ПЛАЗМЕННАЯ ПЛАВИЛЬНАЯ УСТАНОВКА

Предмет изобретения

Изобретение относится к области электрометаллургии, в частности к комбинированному индукционно-дуговому нагреву.

Известна индукционно-плазменная установка, состоящая из индукционной печи с источником питания и по крайней мере одного плавильного плазмотрона. Недостатком такой установки является наличие дополнительного источника питания плазмотрона.

Предложенная установка отличается от известной тем, что с целью увеличения производительности и уменьшения установленной мощности плазмотрон подключен к источнику питания последовательно с индуктором.

На фиг. 1 показана схема включения одного плазмотрона; на фиг. 2 вЂ” схема включения двух плазмотронов.

Вокруг плавильной емкости 1 установлен индуктор 2. Над плавильной емкостью размещены плазмотроны 3, В варианте установки с одним ила змотроном используется подов ый электрод 4.

Установка имеет один источник питания 5.

Установка работает следующим образом: по известной схеме зажигается дежурная дуга между электродом и соплом плазмотрона 3, Перемещением плазмотрона добиваются касания факела дуги шихты и затем включается источник питания 5. Электрическая цепь замыкается через индуктор, плазмотрон, подовый электрод (фиг. 1) или через шихту (фиг. 2).

В начальный момент плавления мощность в металл передается в основном от плазменной

5 дуги. Источник питания загружен в основном активной нагрузкой, а индуктор кроме функции передачи мощности выполняет роль индуктивного сопротивления.

После оседания шихты мощность металлу

10 передается в основном индуктором, а плазмотроны можно оставить работающими на малых напряжениях.

При такой схеме работы от начала и до конца передается максимальная активная

15 мощность, за счет чего уменьшается время плавки. Достигается высокий коэффициен г загрузки источника питания.

Индукционно-плазменная плавильная установка, содержащая плавильную емкость, ичдуктор, подключенный к источнику питания, и питаемый переменным током IID кражей ме25 ре один плазмотрон, о тл и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью увеличения производительности и уменьшения установленной мощности, плазмотрон включен последовательно с индуктором и указанным источником.

Фиг

Составитель Н. Голипецкнй

Техред А. Камышникова Корректор Л. Денисова

Редактор В. Левитов

Типография, пр. Сапунова, 2

Заказ 937/14 Изд. ¹ 1145 Тираж 869 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4, 5