Фоточувствительный материал

 

ОПЙСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ (, 11 5О8827

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 12.07.74 (21) 2045016/26-25 с присоединением заявки № (23) Приоритет

Опубликовано 30.03.76. Бюллетень № 12

Дата опубликования описания 05,11.76 (51) М. Кл з Н 011 31/00

В 01J 17/36

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 621.382(088.8) (72) Авторы изобретения

П. Г. Рустамов, Р. Ф. Мехтиев, О. М. Алиев, В. Г. Сафаров и С. А. Садыхова

Институт неорганической и физической химии

АН Азербайджанской ССР (71) Заявитель (54) ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ МАТЕРИАЛ

Изобретение относится к области фоточувствительных материалов для фоторезисторов, Известны фоточувствительные материалы на основе селенида галлия, работающие при малых освещенностях.

Однако такие материалы обладают низкой фоточувствительностью в видимой области спектра.

С целью повышения фоточувствительности при малых освещенностях предложено материал на основе селенида галлия легировать

В45ез, причем оптимальный состав соответствует формуле (GaSe) < > — (В45ез), где х—

0,003 — 0,01.

Материалы могут быть получены путем сплавления исходных селенидов в эвакуированных кварцевых ампулах (до 10 — мм рт. ст.) при 980 С в течение трех часов с последующей выдержкой при 720 С в течение

5 двух часов.

Формула изобретения

Фоточувствительный материал на основе

10 селенида галлия для работы при малых освещенностях, отл ич а ю щи и ся тем, что, с целью повышения фоточувствительности, он легирован В45ез, при этом состав соответствует формуле (GaSe)1 — (В45ез), где х—

15 0,003 — 0,01.

Фоточувствительный материал 

 

Похожие патенты:
Наверх