Способ обезгаживания элементов электронных приборов
ОП ИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
Il А ТОРСКОМУ СВИДИТВЛЬСТЭУ
Союз Сьветскик
Соц>еалмст»»ческнх
Ресаублнк (11) :.,511646 (61)Дополнительное к авт. свщ -ву (®) 3® 846 0 12.02.74(2i} 1998608/25 (б!) М. Кл
Н 01 9/38 с присоединением заявки ¹
Гееударстееккый кенетет рамте Мееетреа CCO ае делам кзеервтамк» а еткрмткй (23) Приоритет (43) Опубликована25.04.7643вллетень М15 (4б) Дата опубликования описания 02.09.76 (72) Авторы изобретения
В. В. Гухомлинов и А. И. Шимко (71) Заявитель (54) СПОСОБ ОБЕЗГАЖИВАНИЯ 3ЛЕМЕНТОВ
ЭЛЕКТРОННЫХ ПРИБОРОВ
Я восходит массу электронов и в силу малой (скорости при нвличии высокочастотного поля
I они не достигают очишаемых поверхностей, ! в результате чего устраняется их распыление.
Изменение мошностн генератора, создвкМ шего высокочастотное поле, приводит к перЕ мещэнию зоны разряда вдоль обрабатываемых поверхностей, что улучшает условия обеэгв» живания приборов.
Формула изобретения
Способ обеэгаживания элементов электронных приборов, например, коаксиального резонатора, в вакууме при возбуждении газо вого разряда» о т л и ч в ю ш и и с я тем, что, с целью устранения. распыления материала обрабатываемых деталей, возбуждают
IBb»coKoчас гентный вторично-электронный резонансный разряд в интервале давлю ии » 10 мм Рте сто
Изобретение Р оснтся(к электронной тех нике и, в .юстности, к области очистки и обеея.вживания элементов электронных при° ° » боров. Известный способ обезгвживвния, ушествляемьтй в вакууме при возбуждении газового разряда»- сопровождается распылезм очишвемых поверхностей.
Цель изобретения - устранить распыление риатериала обрабатываемых деталей.
Это достигается тем, что возбуждают »в высокочастотный вторичнс -электронный резонансный разряд в интервале давлений 10
j10 мм рт. ст.
При возбуждении высокочастотного втс
1ричнсэлектронного резонансного разряда oc- новную роль в процессе обезгаживания обра батываемьтх;элементов : электронных приборов играют электроны с энергиями--в--диапазоне
I 50-1500 эв, в образуюаиеся в процессе раз-. ряда ионы практически в очистке не участ;руют, поскольку их масса значительно пре(бз) УДУ(621.385(088.8)
