Источник эрозионной плазмы

 

О П И С А Н И Е ц537586

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

И АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (6!) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 18,04.75 (21) 2125822/25 (51) М. Кл.

H 05Н 1/00 с присоединением заявки ¹

ГосУдаРственный комит т (23) 11риоритет (43) Опубликовано 30.10.78, Бюллетень № 40 (53) УДК 533.9(088.8) (45) Дата опубликования описания 03.10.78 по делам изобретений и открытий (72) Авторы изобретения В, А. Агеев, А. В. Колесник, А. Д. Широканов и А. А. Янковский (71) Заявитель

Ордена Трудового Красного Знамени институт физики

AH Белорусской ССР (54) ИСТОЧНИК ЭРОЗИОННОЙ ПЛАЗМЫ

Изобретение относится к физике и технике получения плазмы и может использоваться в качестве технологического плазмотрона, где необходим определенный состав плазмы, и в качестве источников света высокой яркости с излучением, близким к излучению абсолютно черного цвета.

Известны источники плазмы, в которых плазменная струя образуется посредством выхода плазы из небольшого отверстия в стенке разрядной камеры, где установлены электроды.

Химический состав такой плазмы неоднороден и состоит из продуктов распыления материала разрядной камеры, электродов и 15 наполняющего камеру газа, что делает невозможным примененис источника в качестве источника света с определенным спектральным составом.

Известен источник эрозионной плазмы и 20 света, содержащий диэлектрическую пластину со сквозным отверстием и электроды, установленные с разных сторон пластины.

Однако в этом источнике имеет место слияние электродного факела с потоком плаз- 25 мы, истекающим из полости в диэлектрике.

Это приводит к изменению пространственной ориентации потока плазмы во времени, что, в свою очередь, вносит изменения в компонентный состав, спектроскопические, 30 теплофизические и динамические характеристики эрозионной плазменной струи. На спсктрограммах излучения эрозионной плазмы появляются линии поглощения, присущие материалу электродов, что затрудняет и сужает область ее применения.

Цель изобретения — уменьшение загрязнения плазмы компонентами материала электродов.

Это достигается тем, что в предлагаемом источнике плазмы электроды установлены внутри пластины изолированно от отверстия и имеют открытые плоские рабочие поверхности, расположенные нормально по отношению к оси отверстия.

На чертеже показан предлагаемый источник плазмы, общий вид.

Источник состоит из полости 1 в диэлектрическом материале 2, в качестве которого может использоваться оргстекло, текстолит, тефлон и другие материалы, химический состав которых содержит только элементы, необходимые для эрозионной плазмы. Внутри диэлектрического материала, в котором изготовлена полость, установлены электроды 3, изолированно от отверстия, причем открытые плоские поверхности электродов расположены нормально по отношению к оси отверстия. Такая установка электродов обеспечивает пространственное раз537586

Формула изобретения

Составитель В, Рыжков

Техред Н. Рыбкина

Корректоры: В. Дод и О. Данишева

Редактор Т. Колодцева

За каз 2224/11 Изд. № 687 Тираж 950 Подписное

НПО Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 деление электродного факела и потока плазмы.

При электрическом разряде внутри полости образуется токопроводящий разрядный канал. Соприкосновение канала разряда с 5 внутренней стенкой полости приводит к нагреву и испарснию материалов стенки с ооразованием эрозионной плазмы, истекающей из выходных отверстий: Исследования динамических характеристик, спектрально- 10 го состава излучения и процесса истечения потока плазмы показали, что данная установка электродов сводит к минимуму взаимное влияние потоков и обеспечивает необходимый состав эрозионной плазмы с от- 15 сутствием компонентов материалов электродов. Если поверхности электродов установлены таким образом, что нормали этих поверхностей не пересекают оси отверстия и не образуют с ней скрещивающихся пря- 20 мых, то эта установка также приводит к разделению потоков.

Изменение материала диэлектрика, геометрических размеров и формы полости приводит к изменению спектральных, теплофизичсских и динамических характеристик потока эрозионной плазмы. Улучшение чистоты эрозионной плазмы, точное знание се компопснтного состава и возможность изменения ее характеристик исключает затраты па аппаратуру для диагностики и повышает эксплуатационные свойства источников эрозионной плазмы.

Источник эрозионной плазмы, содержащий диэлектрическую пластину со сквозным отверстием и электроды, установленные с разных сторон пластины, о тл и и а юшийся тем, что, с целью уменьшения загрязнения плазмы компонентами материала электродов, электроды установлены внутри пластины изолированно от отверстия и имеют открытые плоские рабоч!; поверхности, расположенные нормально по отношению к оси отверстп».

Источник эрозионной плазмы Источник эрозионной плазмы 

 

Похожие патенты:

Бетатрон // 526230

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх