Устройство для электрофоретического нанесения покрытий на металлические изделия

 

.кают через пористую сторону 4 катода 3 и концентрируются в полом объеме электрода

3. Пористая сторона 4 катода 3 задерживает суспсндированныс частицы стсклоэмалн. Накодящнеся в суспс!,зии катионы и агент (!3;), и) проникают через пор;!сту;о сторону .(и пол) к) 13cTI> K3òoä3 3 как llPli !13. 1ожспип ili! эл KTроды 3,1cктри iccKQI I 0K3, ТÇK ii ilpil прекра!цснип последнего.

В случае, еc.ill удельная элсктpoilf)of(0;(— ность суспснзии Выше Оп имаг!Вно((, T!) до начала процесса электроосаждсlli!H !срез па ру()oK 6 ilPll помо!ци его KP3ll3 Уд(!Г!5!с (с)(аг(!iò (!)Ода I Выщслоч !ill!>i(поп!.!) i!3 iio loll сти катода 3, кран 1!атрубка 5 13д,;(пном случае должен быть закрыт. При этом 13 электрофоретичсскую ванну дооавляют В()ду д;) пскодного урои!я суспензии и до достижения оптимальной электропроводностп суспензип.

Прп электрофоретнческом формировании стеклоэмалевы. . покрытий копце(прация ВыHJg.>10 !Снп(i((iiO!10I3 И СО(УГ!(ЕТС !(С! I!!0 УДС. I I II I H

ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТ!> PВС 1 !3<>P;t (((ОД!>i) 13 (1<) . 10. (! 00 Ь(i!Ñ ЭЛ(KТРОД

33 (1 <. я, 11ри пс«ба<>ди мостll умен! (Всil! I)I к )i! IJ((тр((Il i ill и О В(п3 13 () б I><. I с на (0Ä;t,! !(p(. .(Il;! Ã!) мб(>к (> llO;I i!!ОТ (30Д> В Об Ii(i i! I Cc

o!) 1>(м с !i!i)illoт (ср«з ii;!òpóбок 0>, tt;tx()дяп(ий 51 >

В Il il rl< tt(ll (;1(."! И К;(ТОД(1,).

1 с 111;llio;i,-и:<д(lll(н обкодпм() (ок(>ь, ГI)

С обCI!>(TO f)0! I, ТО 13 !33!! I ((. ДЛЯ !3 è . CC!11! H (((>К f)Û Cfi!1 . >IO>K i! И Р((.3(ССТI! Гl ДВ(! И ° I (I lI((K<>, I !iÊÎ катодов 3.

ИСПО. 1 ЬЗО В а И I I(ПРОД. . 3 i <1 С >(О! !) C J) 0 !i CTI(3

Вьп одно отличается 0Т прототи 13, так как уп. рощается конструкция, т. е. крепление пористой мембраны в ванне и создание катодного пространства, повышас ся -ффсктпв;(Ость le> li0it1i33iI1i И СМСПЕ!3.31!И, 3 1 3 КЖС CTBHOI)IITC)t 1303. моя;пым регулирование концентрации выщс,!Оченпык ионов 13 сусii«!içïï и соответ«твепно ес )дел(ни)й электропроводности нсзависиМО OT РВООТЫ )Л(. (:ТРО(()ОРЕ Гlf IССКОй !3li!.

Ф О Р ч(;,i 1 О t 3 !!(J1i151 ПОКРЫТИЯ i!3 )!С l 3,!.Ill (ЕСKI!< !IЗДСГ: i!H, 1> содержа!цес 13((((пу и эл(ктроды, о т i; а ющ е с с я тем, что, с целью упрощ !!!15! ко:(стрмкипп, по!(ыпlепия эф(1)(ктпвнОсти д J!0311133It!I ii 1(В 03. i! îæÍÎÑ Г(i P (. I \, II P OВ а 11115! < ;((. I li! l о li

3 Л С к т р 0 11 р 0 13 Од и! ) С Г l I С м С i! С 1;3 i (11 0 д l i! 1 !1:3 Э. 1(к т)(3 родов Выполне,i !3 виде полого (ела,;(:>веркi iOCTli KOTOP0 i 0 0(>Р<3!!1(!I i! 3 Я К;I J) > <,"03(\ Э ° (СКЗ роду, пзго (о((лги(1 I!;:I(>pi!((ого токаи f)0!3 >дяIlia .i o матсриа i;!. ,) стР<>йс Г13() по I! 1 < > (л I . >I 3 I<> и! (с и — > Т(>I, I ГО ii(), I l>ill Э (кТр(>Д (tl<)(>)K(:I (1(! I p < б « t hl Jt

Д, 15(п(>д(1 !! i и С.! i I) С1 it.

:) У(IÐoécòl!(> !0:(., (> i ..I (;(;(> ((, (с H т(((, !! () I! i! l р(<>(>к д. i!i с.! В<>;(.кпдк<>(i ll >pi! » <(. !()I r> >.((К1 J>0;I;! !

3() 11 To I;i!IKII и(!фор !;! (Ви, .(;(((И(I!J)!I ЭК ll(Р Гll!(. :

I. «. (и!Сг((31! (,(м;(!и((. >О(. ict(IEI(fl >. (.III X, (97 !, б)(,З. с. 21(>- 217.

). 113 TC! l т Г, 1 Р;(() 00>20 (, к. t !к (,),,> 00, гя> 1973.

Г,и : н:!illa ll> И. С i!лоно

Толре,(Л. Брахнннн

3. Тнрноон;! (I c . нннt!1) 3. Ходнлоьа

Тнногрнфнн, !!ii. (.нн, н нн.

Зало« (672 2 ((од, о fj2Ц Тн(н:! 6, 1 1 1

Ц!1111(Г111 Г!i,, лоро. ненного кон, готн Со:н", н (оно,: Т-г 1

tI!) .Нлнон ноо011ст illlil н Оган,>1 l . lli

l I I0:3,), .Л1!)(i!iа, jV,-35, Ро,но к:» нн; . н ()

Устройство для электрофоретического нанесения покрытий на металлические изделия Устройство для электрофоретического нанесения покрытий на металлические изделия Устройство для электрофоретического нанесения покрытий на металлические изделия 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области электрохимии, в частности к коллоидной химии, электрохимии дисперсий и гелей, и может быть использовано в электронной промышленности для формирования элементов топологии электронных компонент: люминесцентных слоев на активных и пассивных матрицах, оксидных слоев, смешанных оксидных слоев и керамики, нанесения и отверждения смол, связующих компонентов, биндеров, красителей, полимерных материалов, защитных и пассивирующих слоев, тонких пленок, светофильтров на экранных стеклах дисплеев, в создании цветных устройств индикации, телевизионной и дисплейной техники, а также экранных узлов к ним с матричной топологией элементов

Изобретение относится к электрофоретическому осаждению диэлектрических покрытий и может быть использовано при изготовлении металлодиэлектрических подложек в микроэлектронике

Изобретение относится к области металлургии, а именно к способам получения покрытий с использованием магнетронного распыления металлов, и может быть использовано для получения износостойких покрытий металлических деталей трения, в частности для компрессора газотурбинных двигателей и установок. Способ получения износостойкого покрытия на поверхности металлического изделия включает нанесение покрытия из сплава системы NiCrAlY с последующим нанесением на него керамического слоя магнетронным распылением мишени из сплава циркония, содержащего редкоземельные элементы, в среде аргона и кислорода. Осуществляют нанесение керамического слоя на основе стабилизированного оксида циркония со столбчатой структурой и открытыми порами, который насыщают дисульфидом молибдена или вольфрама в процессе катафореза. Нанесение керамического слоя магнетронным распылением мишени осуществляют из сплава циркония, содержащего, мас.%: иттрий 2-7,5, гадолиний 2-7,5, цирконий - остальное. Увеличивается износостойкость насыщенных сульфидами покрытий. 1 з.п. ф-лы, 1 табл., 2 пр.

Изобретение относится к области получения керамических материалов и может быть использовано для изготовления высокоплотной, в том числе оптической, керамики. Технический результат изобретения - снижение дефектности компактов и, соответственно, керамики при исключении использования дорогостоящего прессового оборудования. В способе изготовления высокоплотной, в том числе оптической, керамики получают слабоагрегированные наночастицы оксидов методами высокоэнергетического физического диспергирования, например методом лазерного испарения материала или методом электрического взрыва проводника. Из порошка наночастиц готовят суспензию в неводном растворителе с концентрацией от 0,1 до 10 вес.%, обрабатывают ультразвуком и после центрифугирования формируют компакты электрофоретическим осаждением (ЭФО) при напряженности электрического поля, регулируемой от 50 до 300 В/см, и при плотности тока, выбираемой от 0,05 мА/см2 до 5 мА/см2, в течение от 1 до 200 мин в зависимости от необходимой толщины заготовки. Полученные компакты сушат и спекают. Для ЭФО компактов толщиной до нескольких миллиметров используют импульсное напряжение с изменением полярности, при этом напряжение обратной полярности составляет не более 20% от напряжения прямой полярности, а длительность импульсов регулируется от 1 мс до 10 с. 5 з.п. ф-лы, 1 пр.
Наверх