Устройство для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде

 

О П И С А Н И Е ()6769И

ИЗОБРЕТЕН И Я

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (01) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 20.02.76 (21) 2330513/18-12 с присоединением заявки ¹â€” (23) Приоритет— (43) Опубликовано 30.07.79. Бюллетень № 28 (45) Дата опубликования описания 01.08,79 (51)М,Кл.2 601 N 21/00

В 08 B 3/10

Гасударственный комитет

СССР.(53) УДК, 621.7.024 (088.8) ло делам изобретений и открытий (72) Авторы кзобретеетия И. М. Грач, Г. С. Мельникер, Г. П. Кончук, Г. А. Качурин и Б. Д. Строганов (71) З,а,явитель

Фрунзенский политехнический институт (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ

ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ ИСПЫТАНИЙ

В ВАКУУМНОЙ СРЕДЕ

Изобретение относится к области высокотемпературной вакуумной металлографии и может использоваться в различного рода установках для наблюдения за нагретыми телами, расположенными в герметических объемах.

Известна установка для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде, в которой на пути испаряющихся частей был создан электронный поток, пролетая через который нейтральные частицы заряжаются и затем отклоняются в магнитном поле от смотрового стекла, осаждаясь на крышке вакуумной камеры (1).

Недостатком указанной установки является с„o HO Tb c03 t HH H 3Me eHH »алом зазоре электронного потока большой интенсивности магнитного поля со значением магнитной индукции 10 Т при больших температурах и конструктивная сложность устройства, осуществляющего очистку смотрового стекла.

Известны также устройства для очистки подложек в пленочной микроэлектронике (21

Однако электронная бомбардировка неприменима из-за загрязнения очищаемой поверхности испаряющимися с катода летучими окислами вольфрама и продуктами разложения паров углерода, очистка тлеющим разрядом невозможна из-за высокого вакуума при металлографических исследованиях (10-4 — 10 — тор), очистка с помощью квантовых генераторов применима только для обработки очень маленьких уча стков.

Наиболее близкой к предлагаемому устройству является вакуумная установка с механической защитой смотрового стекла кварцевыми стеклами, перемещающимися с помощью привода и толкателя по лотк, из магазина с чистыми стеклами в магазин с грязными стеклами (31.

Недостатками данной вакуумной установки являются наличие сложного устройства для защиты смотрового стекла от сублимата, необходимость большого количества дорогостоящих защитных кварцевых стекол, которые после каждого эксперимента надо извлекать нз установки и подвергать химической очистке.

Цель изобретения — упростить конструкцию устройства.

У.вмазанная цель достигается тем, что г, 25 устройстве, в котором внутри вакуумной камеры перед смотровым стеклом расположено защитное стекло, закрепленное в держателях и снабженное средством для очистки от сублимата, последнее представляет соЗ0 бой помещенные между защитным стех

676911 лом и держателями токопроводящие прокладки, концы которых выступают на поверхность защитного стекла и имеют овальную форму, а держатели выполнены в виде токопроводящих зажимов и соединены с источником высоковольтного напряжения.

На чертеже показана принципиальная схема предлагаемого устройства для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде.

Устройство содержит металлографиче ский микроскоп 1, вакуумную камеру 2 со смотровым стеклом 8. B вакумной камере

2 размещены исследуемый образец 4, защитная шторка 5 и защитное кварцевое стекло б. Защи6ное кварцевое стекло б с двух сторон зажато держателями 7, выполненными в виде токопроводящих зажимов, подключенных к источнику высокого напряжения. Между поверхностью защитного кварцевого стекла 6 и держателями 7 поме: щены токопроводящие прокладки 8, выполненные, например, из аллюминиевой фольги.

Часть токопрсьодящих прокладок 8 выступает .на поверхность защитного кварцевого стекла б из-под дсржателей 7 и имеет овальную форму.

При проведении исследоваHпй частицы, йспарившиеся с поверхности исследуемого образца 4, через огверстие в шторке 5, попадают на защитное кварцевое стекло б, образуя токопроводящую пленку. Одновременно на токопроводящую прокладку 8 через держатель 7, выполненный в виде токопроводящих контактов, подают от высоковольтного генератора напряжение.

Таким образом, к держателям 7 подводят ток высокой частоты 3 — 4 кГц, при которой процесс очистки защитного кварцевого стекла 6 идет с максимальным выделением тепловой энергии в пленке.

Тонкая токопроводящая пленка 8 из алюминиевой фольги служит для создания направленного протекания разрядного тока через осевшую при испарении пленку, а овальный конец фольги — для выравнивания разрядного тока по ширине пленки. По мере напыления частиц и образования проводящей пленки создается возможность для протекания тока между держателями 7.

При протекании высокоча|стотного тока частицы сублимата отлетают с поверхности защитного кварцевого стекла за счет явления термического расширения и. магнитного взаимодействия.

Применение предлагаемого устройства

1о для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде позволяют значительно упростить существующую установку и практически мгновенно очистить поверхность защитного кварцевого стекла от

15 пленок из осевших частиц сублимата, толщина снимаемой пленки при этом колеблется от 30 до 2000 A.

Формула изобретения

Устройство для проведения высокотемпературных испытаний в вакуумной среде, содержащее вакуумную камеру со смотровым стекло;I, внутри которой пер д смотро25 вым стеклом расположено защитное стекло, которое закреплено в держателях и снабжено средством для очистки от сублимата, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью упрощения конструкции средство для очистки от

ЗО сублимата представляет собой помещенные между держателями и защитным стеклом токопроводящпе прокладки, концы которых выступают на поверхность защитного стекла и имеют овальную форму, а держатели

35 выполнены в виде токопроводящих зажимов и соединены с источником высоковольтного напряжения.

Источники информации, принятые во

40 внимание при экспертизе:

1. Авторское свидетельство СССР

Ne 129864, кл. G 01 N 33/20, 1963.

2. Слуцкая В. Б, «Тонкие пленки в технике сверхвысоких частот», 1962, 45 3, «Техническое описание и инструкция по эксплуатации установки ИМАШ-5Ц, 69» — завод контрольно-измерительных приборов, г. Фрунзе, 1960.

Редактор М. Дмитриева

Составитель Т. Казинова

Техред Е. Жаворонкова

Корректор И. Симкина

Заказ 696/939 Изд. № 445 Тираж 1090 Подписное

14ПО «Поиск» Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Тип. Харьк. фил. пред. «Патенть