Регулярная насадка для контактирования газа с жидкостью

 

ОП ИКАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ПА 1 ЕНСУ

Союз Соеетсннк

Соцнапнстнчесннк

Республни (61) 1ополпи гольный к патенгу (22) ЗаивлЕно 270375 (21) 2116860 i23 26 (23) 11риоритет (32) 05.04,74 (31) 4 844/7 4 (33) швейцария о (51) И. Кл.

В 01 D 53/20

Государственный комитет

СССР ио делам изобретений и открытий

Опубликовано 050879. Бюллетень ¹ 29 (53) УДК66.074.513 (088. 8) Дата опубликования описания 080879 (72) Автор изобретения

Иностранец

Фолкер Фаттингер (Австрия) Иностранная фирма Циба-Гейги АГ (Швейцари я) (71) Заявитель (54) РЕГУЛЯРНАЯ НАСАДКА ДЛЯ КОНТАКТИРОВАНИЯ ГАЗА

С ЖИДКОСТЬЮ

Формула и з обре те ни я

80

Изобретение относится к области аппаратурного оформления тепломассообменных процессов, протекающих в системе газ (пар) жидкость.

Известна регулярная насадка для контактирования газа с жидкостью, содержащая пакет, образованный из параллельно установленных контактных элементов fl), Недостатком известной насадки является низкая эффективность массопереноса.

Цель изобретения — интенсификация процесса массопереноса за счет увеличения поверхности контакта фаз.

Поставленная цель достигается тем, что высота контактных элементов уменьшается от центра к периферии, а каждый элемент может быть выполнен с переменным диаметром, увеличивающимся к его центру.

На фиг.l изображена насадка,продольный разрез; на фиг.2 — разрез

А A фиг. 1.

Насадка содержит контактные элементы 1 круглого сечения, диаметр которых плавно увеличивается к центру, а их длина уменьшается от центра к периферии насадки, опорные элементы 2-5, выполненные в виде колец, и перемычки 6, скрепляющие опорные элементы.

Переменность по длине контактных элементов 1 позволяет создавать насадку шаровой или эллипсоидальной формы.

Насадка, установленная в аппарате работает следующим образом.

Жидкость поступает в верхнюю

10 часть аппарата, орошая насадку, с образованием движущихся жидкостных пленок,стекающих вниз по элементам 1.

Поднимающийся снизу газ (пар)

15 взаимодействует с жидкостными пленками.

Изменяющаяся высота и диаметр элементов создают высокоразвитую поверхность контакта фаз.

1. Регулярная насадка для г онтактирования газа с жидкостью, вь тючающая пакет, образованный из параллельно установленных контактных элементов, отличающаяся тем, что, с целью повышения эффективности процесса массопереноса за счет увеличе670! 13 айаг.2

ЦНИИПИ Заказ 4414/53 Т".раж 877 Подписное

Филиал ППП Патент, г.ужгород, ул,Проектная,4 ния поверхности контакта фаз, высота контактных элементов уменьшается от центра к периферии.

2. Насадка по п.1, о т л и ч а ющ а я с я тем, что каждый элемент выполнен с переменным диаметром, увеличивающимся к его центру.

И.то !ники и:!Формации, принятые во внимание при:экспертизе

1. Касаткин А.Г. Основные процессы и аппараты химической технологии.

Москва, Химия,1971,стр.471,рис.Х1—

5 15,ж.

Регулярная насадка для контактирования газа с жидкостью Регулярная насадка для контактирования газа с жидкостью 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к энергетике, а более конкретно к вспомогательным системам парогенерирующей установки атомной электростанции, а также может быть использовано в выпарных установках для упаривания перегретых солесодержащих жидкостей в металлургической, химической и других отраслях промышленности

Изобретение относится к способу получения раствора и, в частности к способу получения раствора целлюлозы в N-оксиде третичного амина

Изобретение относится к ионной технологии и может быть использовано в медицине, машиностроении, на транспорте, в том числе речном и морском, в автомобильной промышленности, сельском хозяйстве, авиации, космической технике, металлургии, энергетике

Изобретение относится к способу извлечения твердых остатков, находящихся в суспензии или в растворе текучей среды, которая включает в себя быстроиспаряющиеся компоненты, в частности воду

Изобретение относится к высокодисперсному сыпучему анионному поверхностно-активному веществу для моющих и/или очистительных средств, которое имеет микропористую структуру без пылеобразующих долей, причем его насыпная плотность составляет минимум 150 г/л, а содержание в нем остаточной воды - максимум 20 мас

Изобретение относится к оборудованию для выпаривания жидкости и может быть использовано в сахарной и других отраслях промышленности

Изобретение относится к производству оборудования для химической, пищевой, медицинской и биотехнологий, в частности вакуум-выпарных установок
Наверх