Способ управления стехиометрическим составом кристаллов полупроводниковых соединений цинка,содержащих металлоиды у1 группы

 

1. СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ СТЕХИО- МЕТРИЧЕСКИМ СОСТАВОМ КРИСТАЛЛОВ ПОЛУ-

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (59 4 С 30 В 31 00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н ABTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 2470682/23-26 (22) 06.04.77 (46) 30.08.87. Бюл. М 32 (71) Томский институт автоматизированных систем управления и радиоэлектроники, Томский медицинский институт и Физический институт им. П.Н.Лебедева (72) А. Н. Георгобиани, M. Б. Котляревский, А.В.Лавров, В. Н.Михаленко и Б.Г.Урусов (53) 621.315.592(088.8) (56) Крегер Ф. Химия несовершенных кристаллов. М., "Мир", 1969, с. 77-78. (54) (57) 1. СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ СТЕХИОМЕТРИЧЕСКИМ СОСТАВОМ КРИСТАЛЛОВ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ ЦИНКА, СОДЕРЖАЩИХ МЕТАПЛОИДЫ VI ГРУППЫ, включающий отжиг кристаллов в парах металлоида при давлении 0,01-3 атм и температуре 200-1200 С, о т л и ч а— ю шийся тем, что, с целью получения кристаллов дырочного типа проводимости за счет увеличения содержания металлоида в кристаллах вьппе стехиометрического состава, в процессе отжига пары металлоида подвергают фотолизу.

2. Способ по п.1, о т л и ч а ю— шийся тем, что при использовании в качестве металлоида серы, фотолиз ведут при длине волны света 25516 21

280 нм и потоке квантов 10 -10" с х х см 2.

684810

Техред M.Äèäûê

Редактор П.Горькова

Корректор В.Гирняк

Заказ 3986/3 Тираж 369 Подписное

ВНИИНИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, r. Ужгород, ул. Проектная, 4

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и может быть использовано для управления стехиометрическим составом кристаллов полупроводниковых соединений цинка, содержащих металлоиды VI группы.

Известен способ управления стехио. метрическим составом кристаллов полу проводниковьгх соединений цинка, содержащих металлоиды VI группы, включающий отжиг кристаллов в парах металлоида при давлении 0,01-3 атм и температуре 200-1200 С.

Недостатком указанного способа является то, что он не позволяет получать кристаллы полупроводниковых соединений цинка, содержащих металлоиды

UI группы, с проводимостью. дырочного типа даже при максимально возможном при данной температуре отжига давлении паров металлоида.

Целью изобретения является получение кристаллов дырочного типа проводимости за счет увеличения содержания металлоида в кристаЛлах выше стехиометрического состава.

Цель достигается тем, что в процессе отжига пары металлоида подвергают фотолизу. При использовании в качестве металлоида серы фотолиз ведут при длине волны света 255-280 нм и потоке квантов 10 -10 с см .

Это способствует диссоциации молекул металлоида на атомы и вследствие этого повышению степени взаимодействия пара с кристаллом, что и приводит ð к увеличению содержания металлоида в кристалле и получению кристаллов дырочного типа проводимости.

Пример 1. Отжигают кристаллы

ZnS п-типа проводимости с удельным

)б сопротивлением 10 Ом см при темперан о туре 750 С и давлении серы 1 атм в течение 10 ч при воздействии на паровую фазу ксеноновой лампой. Отожженные кристаллы обладают дырочным типом

20 проводимости с удельным сопротивленив ем 10 Ом см и подвижностью дырок

5 см /Вс.

Пример 2. Отжигают кристаллы

ZnS и-типа проводимости при темперао

25 туре 800 С в течение 4 ч и давлении серы 1 атм при воздействии света. Получены кристаллы с дырочным типом проводимости и удельным сопротивле нием 19 Ом.см.

Способ управления стехиометрическим составом кристаллов полупроводниковых соединений цинка,содержащих металлоиды у1 группы Способ управления стехиометрическим составом кристаллов полупроводниковых соединений цинка,содержащих металлоиды у1 группы 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройству для термического окисления пластин кремния, которые находят широкое применение в технологии полупроводниковых материалов

Изобретение относится к способам синтеза монокристаллов алмаза (МКА) из низкомолекулярных углеродсодержащих соединений при высоких температурах в гетерогенных селикатных средах

Изобретение относится к технологическим приемам получения искусственных кристаллов алмаза из углеродсодержащего сырья, при высокой температуре и в атмосфере сжатого газа, относительно низкого давления
Изобретение относится к области производства синтетических драгоценных камней
Изобретение относится к области технологии получения и легирования неорганических веществ и может быть использовано в микроэлектронике, полупроводниковом приборостроении

Изобретение относится к области легирования твердых тел путем облучения ионами фазообразующих элементов и может быть использовано для ионной модификации структуры и физико-механических свойств металлов, полупроводников и сверхпроводников

Изобретение относится к технологии нейтронно-трансмутационного легирования (НТЛ) кремния при промышленном производстве на энергетических реакторах типа РБМК, широко применяемого в технологии изготовления приборов электронной и электротехнической промышленности

Изобретение относится к технологии получения сверхтвердых материалов, а именно искусственных алмазов, при непосредственном использовании высоких давлений и температур, развивающихся при детонации конденсированных взрывчатых веществ (ВВ)

Изобретение относится к электронной технике, а именно к технологии получения полупроводниковых материалов, устойчивых к воздействию радиации и температурных полей
Наверх