Установка для электрохимическойобработки проволоки

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Саеетскии

Сецналнстмческмк

Ресвублнк

i»>812859

Ф:

К АВТОРСКОМУ СВИДНЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свнд-ву— (22) Заявлено 050379 (23) 2733729/22-02 с присоединением заявки Мо (23) Приоритет

Опубликовано 150.щ1 Бюллетень 89 10

Дата опубликования описания 150381 (51)м. кл.з

С 25 F 7/00

С 25 0 7/06

Государственный комитет

СССР но делам нзобретеннв н открытнй (53) УДЫ 62 1. 357 . 8 (088 ° 8) (72) Авторы изобретения

Э.Г.Чекунрв, С.Я.Семочкин, М.A.Ãðîìûêî, Б.М.Панов и Ю.A.Ìàòâååâ «р у @- * ой"Революции

Московский ордена Ленина и ордена Октяб авиационный институт им. Серго Орджоник (71) Заявитель

ЫИй .: . (54) УСТАНОВКА ДЛЯ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ

ПРОВОЛОКИ

Изобретение относится к электрохимической обработке проволоки.

Известна установка для злектрохимической обработки проволоки, содержащая электролизер с диафрагмой, систему подачи и слива раствора, электроды (13 °

В этой установке относительное выравнивание плотности тока достигается лишь по периметру обрабатываемой проволоки, но не по ее длине, что является значительно более важным. Неравномерное распределение плотности тока приводит к уменьшению производительности установки и к некачественно- 5

Му покрытию.

Цель изобретения — повышение произ« водительности установки и улучшение качества покрытий. укаэанная цель. достигается тем, 20 что диафрагма выполнена с переменной толщиной по длине, определяемой формулой

2P s 2

Рд = уД4ք— 4 - «Риии гдео — удельное сопротивление ди ин афрагмы в дальнем от токо- э

Щ%- НМ( подвода сечении ванны, 1 - .

Диафрагма может быть пористой, щелевой, перфорированной и т.д.

На Фиг. 1 изображена схема установки, на фиг. 2 - варианты исполнения диафрагмы (а и б); на Фиг. 3 графики распределения плотностей .тока.

Установка состоит из ванны 1, электрода 2, токоподводящего ролика Рпо . +

25 Г<1 (Рд 9зл где Н вЂ” толщина диафрагмы, мм;

Н вЂ” толщина диафрагмы в дальнем мкн от тонов:>двола сечении ванны мм 30 удельное сопротивление провоПР локи Ом.ии м ширина ванны, мм; расстояние от токоподвода до расчетного сечения, мм;

L — длина электролизера, мм д — диаметр обрабатываемой проволоки, мм, удельное сопротивление дна*

Фрагмы ю удельное сопротивление электзл ролита, †оМ- ми>

Кроме того, диафрагма выполнена с переменным удельным сопротивлением по длине,определяе>ым формулой

812859

3 для обрабатываемой проволоки, сливного бачка 4 и насоса 5 для циркуляции электролита, вспомогательных роликов

6, выполненных из диэлектрика и диафрагмы 7 с переменной толЧиной по длине.

Токоподводящий ролик расположен с той стороны электролизера, где толщина диафрагмы и ее удельное сопротивление наибольшие.Для поддержания равномерной концентрации электролита в электролиэере и для повышения производительности процесса предусмотрена система циркуляции электролита, состоящая иэ трубопроводов, сливного бачка 4 и насоса 5.

Работа установки осуществляется следующим образом.

Сначала электролиэер заполняется электролитом, затем включается насос

5, подается напряжение и включается механизм протягивания обрабатываемой 20 проволоки.

Преимуществом этой установки является равномерное распределение плотности тока по длине обрабатываемого участка проволоки, что позволит увели-щ чить производительность и улучшить качество покрытий.

На фиг. 2 даны варианты диафрагмы, выполненной с постоянной толщиной.

Удельное сопротивление диафрагмы переменно по ее длине (а-щелевая диафрагма, б- перфорированная диафрагма) . В этих случаях переменное удельное сопротивление диафрагмы достигается изменением ее сечения по длине.

В промышленных ваннах, как показы- З вают измерения, вблизи токоподвода плотность тока в несколько раэ превышает таковую на дальнем от токоподвода участке проволоки.

На Фиг. 3 прямая соответствует 40 предельно допустимой плотности тока превышение которой приводит к ухудшению качества покрытия и уменьшению выхода по току. Кривые Н и !Н показывают распределение плотности тока в промышленных установках. Причем кривая И соответствует проволоке леньшего диаметра. Чем меньше диаметр, тем неравномерность распределения. плотности тока больше и больше превышения предельно допустимой плотности тока.

Для того, чтобы получить качественные покрытия, в промышленных установках заведомо занижают среднюю плотность тока (кривая iv), что резко снижает производительность установки, которая определяется площадью под кривыми Н и !И

Предлагаемая установка обеспечивает равномерное распределение плотности тока по всей длине обрабатываемого участка проволоки, что позволяет поднять среднюю плотность тока до предельно допустимой, тем самым увеличив производительность в 2-4 раза в зависимости от диаметра обрабатываемой проволоки.

Формула изобретения

1. Установка для электрохимической обработки проволоки, содержащая электролизер с диафрагмой, систему подачи и слива раствора, электроды, ю т л и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью повышения производительности путем выравнивания плотности тока по длине электролизера, диафрагма выполнена с перменной толшиной по длине, определяемой по формуле

%а (р -ф „ " н»нн где Н вЂ” толщина диафрагмы, мм;

Н. — толщина диафрагмы в дальнем им от токоподвода сечении -ванны, мм — удельное сопротивление пропп

ОИ И 2 волоки, †—, ширина ванны, мм;

 — расстояние от токоподвода до расчетного сечения, мм; длина электролизера, мм;

Й вЂ” диаметр обрабатываемой йроволоки мм, удельное сопротивление диаД фрагмыт р — удельное сопротивление элект3h ролита, 2. Установка по и. 1, о т л и ч а ю щ а я с я тем, что диафрагма выполнена с переменным удельным сопротивлением по длине, определяемым по формуле А = дд.н ("- ) Р е 9 2 где p — удельное сопротивление диайин

Фрагмы в дальнем от токо рдвода сечении нанни, » »-.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР

k.324309 кл. С 25 2 7 р6, 1970.