Способ закалки продуктов реакции приплазмохимических процессах

 

ОПИСАНИЕ .ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ ЕТВЛЬСТВУ

Союз Советскик

Социалистических

Республин

«о324491

-е (61) Дополнительное к авт. санд-ву (22) 3аявлеио 160378 (21) 2592701/18-25 с присоединением заявки Но (23) Приоритет

Опубликоваиб 2304.81. Бюллетень N9 15 (5t)NL Кл.з

Н 05 Н 1/42

Государствеииый комитет

СССР по делам изобретеиий и открытий (53) УДК 533.9 (088. 8) Дата опубликования описания 2 30481 (72) Авторы изобретения

И.A,Òèõîìèðîâ, В.И Шишковский и С.Н.Крохин

И ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССАХ

Изобретение относится к плазмохимической технологии и может быть использовано при получении продуктов плазмохнмических процессов.

Известен способ получения продуктов при плазмохнмнческих процессах, заключающийся в пнролнзе газообразных углеводородов в плазменной струе и закалкой струями воды.и бензина (1).

Недостатком этого способа является низкая скорость закалки продуктов плазмохимического пиролиза;

Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому является способ закалки продуктов. реакции при 15 плазмохимических процессах путем охлаждения продуктов реакции в закалочиом устройстве (2) .

Недостатком способа является низкая скорость закалки. 2О

Цель изобретения - увеличение скорости закалки.

Цель достигается тем, что при закалке продуктов s плазменную струю в эакалочном устройстве вводят элект- 25 рофильные вещества в количестве 20ЗОВ от объема продуктов, например фреон.

Введение электрофильиых веществ резко снижает концентрацию электро ЭО нов в плазме вследствие прилипания электронов к молекулам и атомам этих веществ .. Резкое уменьшение концентрации электронов в закалочном устройстве ведет к уменьшению частоты столкновений электронов с молекулами плазмообразующего газа, т.е. к резкому снижению подогрева плазмообразующего газа в плазменной струе. Это приводит к увеличению скорости релаксации.газовой температуры газовой; струи. Изменяя концентрацию примесей электрофильных веществ в закалочном устройстве меняют скорость релаксации газовой температуры, тем саум задают канал селективной плазмохимнч ской реакции.

fl р н м е р . Проводилось получение металлов 1У грулпы переработкой в плазменной струе, генерируемой, например, ВЧ плазмотроном газообразных галогенидов этих металлов. Нагретые в плазменной струе галогеннды металлов 1У группы диссоциируют при температурах порядка 1000-4000. К на пары металлов и галогены.

При введении в закалочное устройство до 30 объемных процентов элект.рофильного газа - фреона 12 {СС1еуа) концентрация электронов уменьшается

824491

Составитель Н. Ермохин

Редактор Л.Ееви Техред A. Вабинец Корректор Н.Бабинец

» »»»» г»

Заказ 453/85 Тираж 889 Подписное.

ВИИИПИ Государственного комитета СССР по делам Изобретений и открытий

113035, Мосина, Ж-35, Раущская иаб., д.4/5

»ю» филиал ППП Патент, г.ужгород, .ул.Проектная, 4 иа три порядка и скорость закалки достигает 10э град/с, что эплоне достаточно для проведения эакалочных операций в плазмохимических процессах.

Использование изобретения позволяет увеличить скорость закалки до

108 град/с, что является достаточным для проведения закалочных операций э плазмохимических процессах. Кроме . того, при испольэевании этого спосо- ба возможна регулировка скорости закалки путем изменения концентрации примесей злектрофильных веществ в эакалочном устройстве.

Формула .изобретения

l. Способ закалки продуктов реакции при плаэмохимических процессах путем охлаждения продуктов реакции в эакалочном устройстве, о т л ич а ю шийся тем, что, с целью увеличения скорости закалки„ в пЛазменную струю в эакалочном устройстве вводят злектрофильные вещества э количестве 20-30% объема продуктов.

2. Способ по п.2, о т л и ч а юшийся тем, что в эакалочное устройство нводят фреон.

Источники информации, принятые во. внимание при экспертизе

1. Патент . Великобритании

В 1316668, кл. Н 1 D, опублик.1971..

2. Sroufin В.L Havlett R.é.

15 Industrl.ai Engineering Chemistry, .Fundamentals, 1966, р.472 (прототип) .

Способ закалки продуктов реакции приплазмохимических процессах Способ закалки продуктов реакции приплазмохимических процессах 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области техники, использующей низкотемпературную газоразрядную плазму для осуществления преимущественно электрохимических процессов в газовой и парогазовой фазе, и может быть использовано в качестве реактора, например, для электросинтеза озона с помощью диффузного разряда из неосушенного и неочищенного кислородосодержащего газа

Изобретение относится к ионным ускорителям и может быть использовано для очистки и обработки поверхности ионным пучком, для распыления тугоплавких металлов с целью нанесения покрытий и получения тонких пленок

Изобретение относится к области технических применений высокотемпературной плазмы, получающейся при электрическом разряде в газе и может быть использовано для создания источников импульсных нейтронного и рентгеновского излучений

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх