Установка для электронно-лучевой обработки

 

Союз Советских

Социалистических

Республик

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ПАТЕНТУ

<в837311 (61) Дополнительный к патенту (22) Заявлено 010678 (21) 2626697/25-27 (23) Приоритет — (32) 0Ц)Ю7 (31) Р 2724778.5 (33) ФРГ

Опубликовано 07.06.81. Бюллетень Мо 21 .Дата опубликования описания 07.06,81 (51)м. к .

B 23 К 15/00

Государственный комитет

СССР но делам изобретений и открытий (53) УДК 621.791.72, .03 (088 8) Иностранец

Зигвальт Харт (ФРГ) (72) Автор изобретения

Иностранная фирма

"Штайгервальд Штральтехник ГмбХ" (ФРГ) (71) Заявитель (54) УСТАНОВКА ДЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ

ОБРАБОТКИ

Изобретение касается электроннолучевой обработки, а именно установок для электронно-лучевой обработки.

Известна установка для электронно-лучевой обработки, содержащая вакуумную камеру и электронный излучатель, размещенный на одной из стенок вакуумной камеры; противоположная электронному излучателю стенка выполнена сплошной $1) .

Недостатком этой установки является то, что при случайном облучении стенки вакуумной камеры электронным пучком она в случае повреждения (прожога) должна быть заменена другой стенкой, что экономически невыгодно.

Для предотвращения прожогов применяются защитные металлические пластины значительной толщины, которые занимают значительный объем (вынуждая увеличивать размеры вакуумной камеры) и усложняют обслуживание установки.

Наиболее. близким техническим решением к предлагаемому является установка для электронно-лучевой обработки, содержащая вакуумную ка2 меру и электронный излучатель, размещенный на одной из стенок вакуумной камерыт противоположная элек тронному излучателю стенка выпол

5 нена с.окном (2).

При работе этой установки также применяют защитные металлические пластины значительной толщины со всеми присущими им недостатками, 10 но наличие окна в стенке исключает необходимость в замене стенки при прожиге защитной пластины.

Целью изобретения является уменьшение габаритов вакуумной камеры

15 и упрощение обслуживания установки.

Указанная цель достигается тем, что вакуумная камера снабжена герме20 тичной замкнутой емкостью, размещенной на противоположной электронному излучателю стенке и выполненной с возможностью соединения с атмосферой или с газовой средой

25 повышенного давления.

На фиг.1 и 2 представлены различные конструктивные варианты герметичной замкнутой емкости;

3Q на фиг.3 - схема установки с ва837311 куумной камерой, выполненной согласно изобретению.

На фиг.1 представлена емкость, образованная пластиной 1, вакуумплотно перекрывающей окно 2 в стенке 3 вакуумной камеры. Уплотнение обеспечивается винтами 4 и уплотнением 5.

Окно 2 снаружи закрыто навинченным экраном б со свинцовой обкладкой 7, защищающей переокал от рентгеновского облучения. Стенки ок" на .2 пластина 1 и экран б образуют герметичную замкнутую емкость, внутренний объем 8 которой через лабиринтный зазор 9 соединен с атмосферой и обычно находится под атмосферным давлением.

Электронный пучок может подхо- дить к пластине 1 в зоне, ограниченной кругом 10.

На фиг. 2 представлена емкость образованная плоским поддоном 11, вакуумно закрытым крышкой 12 (с помощью уплотнений 13.и винтов 14) .

Расстояние между внутренней поверхностью крышки 12 и дном 15 поддона может составить, например, 5 мм.

Поэтому высота емкости невелика и может составить, например, около

15 мм. Вся емкость может быть размещена внутри вакуумной камеры.

«На фиг ° 3 приведена схема уста< новки с вакуумной càìåðoé 16, в которой размещен рабочий стол 17, на котором может быть установлена свариваемая деталь с возможностью двукоординатного перемещения.

Установка снабжена электронным излучателем 18, формирующим горизонтальный электронный пучок 19.

На противоположной электронному излучателю 18 стенке размещена емкость с плоским поддоном 11 и крышкой 12 (см. фиг.2). В данном случае емкость через шланг или газопровод 20 соединена с газовым баллоном 21. Баллон 2) снабжен клапаном 22, который автоматически срабатывает уже при незначительной разности давлений. Баллон 21 обеспечивает сохранение заданного давления в емкости даже в том случае, если часть газа (воздуха) уходит из емкости в вакуумную камеру через неплотности уплотнений. (Емкость, представленную на фиг.2, можно размещать и на наружной поверх- ности стенки вакуумной камеры).

Роль емкости состоит в следующем.

Если, например, ток электронного

Формула изобретения

Установка для электронно-лучевой обработки, содержащая вакуумную камеру и электронный излучатель, размешенный на одной из стенок вакуумной камеры, о т л и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью уменьшения габаритов вакуумной камеры и упрощения обслуживания установки, вакуумная камера снабжена герметичной замкнутой емкостью, размещенной на противоположной электронному излучателю стенке и выполненной с возможностью соединения с атмосферой или с газовой средой повышенного давления.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Чвертко А.И. и др. Оборудование для электронно-лучевой сварки.

Киев, Наукова Думка, с. 10-11 и рис.1.

2. Чвертко А.И. и др. Оборудование для электронно-лучевой сварки.

Киев, Наукова Думка, с. 10-11 и рис. 16. пучка включен без свариваемой детали, то пучок может попадать в зону 10 пластины 1 (или крышки 12), проплавляя в ней отверстие.

Через это .отверстие воздух (газ) с большой скоростью проходит из объема 8 в объем вакуумной камеры, расфокусируя электронный пучок и предотвращая дальнейшее расширение проплавленного отверстия, а затем срабатывает обычная (в технологических электронно-лучевых установках) система блокировки, отключающая высокое напряжение источника питания.

При соответствующем выборе ма-!

5 териала и толщины пластины 1 обеспечивается то, что проплавляемое в ней отверстие оказывает значительное сопротивление газовому потоку (т.е. оно достаточно узкое или длинное), а обслуживающий персонал в достаточной мере защищен от рентгеновского облучения и от прямого воздействия эпектронов пучка.

Технико-экономическая эффективность изобретения обусловлена лучшим использованием внутреннего объема вакуумной камеры и большим удобством при обслуживании оборудования.

837311

Составитель В. Мамутов

Редактор T. Зубкова Техред Н.Келушак Корректор М. демчик

Заказ 3213/47 Тираж 1148 . Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж«35, Раушская наб., д.4/5

Филиал ППП Патент, r.Óæãîðîä, ул.Проектная, 4