Стекло для стеклокристаллического материала

 

Стекло для стеклокристаллического материала, включающее SiO2, Al2O3, Li2O, ZnO, K2O, P2O5, F, Cs2O, ZrO2, отличающееся тем, что, с целью снижения температуры оплавления и угла смачивания, а также повышения качества покрытий на коваре и кремнии, оно дополнительно содержит Yb2O3, Nd2O3, Gd2O3 при следующем соотношении компонентов, вес.%: SiO2 - 55 - 65 Al2O3 - 10 - 15 Li2O - 10 - 15 ZnO - 1 - 10 K2O - 1 - 5 P2O5 - 2 - 3 F - 0,5 - 2 Cs2O - 0,5 - 4 ZrO2 - 0,2 - 1
Yb2O3 - 0,01 - 0,1
Nd2O3 - 0,01 - 0,1
Gd2O3 - 0,01 - 0,1



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области получения стеклокерамических материалов, т.е
Изобретение относится к производству слюды

Изобретение относится к огнеупорным материалам, которые могут быть использованы в промьшшенности строительных материалов и других отраслях

Изобретение относится к усовершенствованным диэлектрическим изоляторам и может быть использовано в свечах зажигания в камерах сгорания автомобилей. Предложенный изолятор имеет следующий керамический состав, мас.%: SiO2 25-60; R2О3 15-35, причем R2О3 представляет собой В2О3 3-15% и Аl2О3 5-25%; MgO 4-25% + Li2O 0-7%, причем общее количество MgO+Li2O составляет примерно 6-25%; R2О в количестве 2-20% (причем R2O представляет собой Na2O 0-15%, K2О 0-15%, Rb2O 0-15%) Rb2O 0-15%; Cs2O 0-20% и F 4-20% и содержит кристаллические зерна, ориентированные проходящими в первом (круговом) направлении и в направлении (радиальном), перпендикулярном первому направлению, а также первую область, где действует сжимающее напряжение, и вторую область, где действует растягивающее напряжение. Технический результат изобретения - повышение механической и электрической прочности изолятора. 4 н. и 11 з.п. ф-лы, 11 ил., 2 табл.

Изобретение относится к составу и технологии производства слюдокристаллического материала на основе фторфлогопита. Слюдокристаллический материал на основе фторфлогопита включает оксиды кремния, алюминия, магния, калия и фтор, при этом он содержит указанные ингредиенты при следующем соотношении, масс.%: оксид кремния - 39,0-43,0, оксид алюминия - 9,0-12,0, оксид магния - 27,1-30,0, оксид калия - 7,1-9,0 и фтор - 8,0-12,0. Способ производства слюдокристаллического материала на основе фторфлогопита включает приготовление шихты из следующих компонентов, масс.%: кварцевый песок - 33,5-34,5, глинозем - 9,5-10,5, периклазовый порошок - 29,5-30,5, кремнефторид калия - 25,5-26,5. Брикеты плавят при температуре 1600-1800°C в течение 1,5-3,5 часов. Техническим результатом изобретения является повышение прочности и повышение срока службы футеровочного материала. 2 н. и 2 з.п. ф-лы, 1 пр.

Изобретение относится к оптически прозрачным стеклокристаллическим наноматериалам. Технический результат изобретения - создание прозрачной оксифторидной стеклокерамики, обладающей свойством преобразования инфракрасного излучения в видимое и характеризующейся высокой интенсивностью желтой ап-конверсионной люминесценции. Люминесцирующая наностеклокерамика включает, мол.%: SiO2 35.0-40.0; GeO2 7.5-12.7; PbO 15.0-18.5; PbF2 30.0-38.5 и Er2O3 1.0-1.5. 2 табл., 1 ил.

Изобретение относится к оптически прозрачным стеклокристаллическим наноматериалам. Ап-конверсионно люминесцирующая наностеклокерамика содержит, мол. %: Eu2O3 1.0-1.5; SiO2 30.0-34.5; PbO 27.5-30.0; PbF2 21.5-25.5; CdF2 9.0-15.0; YbF3 1.5-2.5. Техническая задача изобретения - создание прозрачной оксифторидной наностеклокерамики, обладающей свойством преобразования инфракрасного излучения в видимое оранжевое и характеризующейся высокой интенсивностью оранжевой ап-конверсионной люминесценцией. 2 табл., 1 ил.

Изобретение относится к ап-конверсионно люминесцирующей оксифторидной наностеклокерамике. Люминесцирующая наностеклокерамика включает следующие компоненты, мол. %: SiO2 41.5-43.5; YbF3 1.0-2.5; PbO 12.0-14.5; PbF2 32.5-35.0; CdF2 7.0-7.5; Tb2O3 1.0-1.5 и Tm2O3 0.1-0.4. Техническая задача изобретения - создание прозрачной люминесцирующей нанофазной стеклокерамики, осуществляющей ап-конверсионное преобразование инфракрасного излучения в видимое сине-зеленое при снижении температур синтеза и термической обработки стекла. Область применения - оптоэлектроника, фотоника, лазерное приборостроение. 2 табл., 1 ил.
Наверх