Установка для нанесения покрытий из газовой фазы

 

ОПИСАНИЕ „(цыц

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалксткческии

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 23. 01. 81 (21) 3238993/22-02 {54) М. Кп.з

С 23 С 11/02

С 23 С 13/08 с присоединением заявки N9— . (23) Г)РиоРитет - 02, 01 у9

Государственный комитет

СССР по делам изобретений н открытий

tS3) УДК 621. 793. . 14 (088.8) Опубликовано 230882, Бюллетень Мо 31

Дата опубликования описания 23.08 ° 82

A.Á. Димант, A.Á. Куркин, Ф.A. Глускин, В. C-;Èóðýèí.,., Д.П.Воронин и В.Г.Хлапов (72) Авторы изобретения

Научно-исследовательский и экспериментапьный институт. . автомобильного электрооборудоВания и автоприборов (71) Заявитель (54) УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИИ

ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий осаждением из газовой фазы. .Известна установка для нанесения покрытий, содержащая рабочую камеру, камеру загрузки иэделий, поворотное транспортное устройство и корпус с промежуточной камерой для перемещения изделий, причем указанные камеры снабжены автономными системами откачки. Установка позволяет производить смену иэделий в камере нанесения покрытий без ее разгерметизации P).

Однако конструкция указанной установки не обеспечивает оптимальных условий при осаждении покрытий из газовой фазы.. Отсутствие шлюзовых устройств внутри .промежуточной камеры ведет к ухудшению качества покрытия, так как детали, охлаждаемые в промежуточной камере, могут сопри-. касатъся с парами исходного соединения и продуктами их разложения.

Наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемо му результату является установка для нанесения покрытий из газовой фазы, содержащая камеру"металлизации с входным отверстием, загрузочно-разгруэочную камеру с поворотным транспортером и толкателем для перемещения изделий в камеру металлизации, систему откачки, соединенную с камерой металлизации и загрузочно-разгрузочной камерой $2) .

Однако такая установка при осаждении покрытий из .газовой фазы не обеспечивает требуемого качества, поскольку изделия, транспортируемые в загрузочно-разгрузочную камеру, могут соприкасаться с парами исходного соединения и продуктами их разложения.

Целью изобретения является повышение качества покрытий.

Поставленная цель достигается тем, что установка, содержащая камеру металлизации, загрузочно-разгрузочную камеру с поворотным транспортером и толкателем для перемещения иэделий в камеру металлизации,систему откачки,соединенную с камерой металлиэации и разгрузочно-загрузочной камерой, снабжена заслонкой, установленной между камерой .металлизацни и загрузочно-разгрузочной камерой,и нагревателем, установленным на толкателе, торцовая часть которого выполнена в виде заглушки для пере953003 крытия входного отверстия камеры металлизации.

Такое конструктивное выполнение установки обеспечивает повышение качества покрытий, так как в мо-, мент металлизации заглушка на торцовой части толкателя разобщает камеру металлиэации и загрузочно1разгруэочную камеру. Пары исходного химического соединения при этом не проникают иэ камеры металлизации в загрузочно-разгрузочную камеру и не попадают на изделия.Толкатель выполняет и функции держателя изделий,так: . как вместо держателя иэделий в камере металлиэации толкатель снабжен 15 нагревателем, предназначенным для перемещения изделий. Нет необходимости иметь бункер для готовой продукции, потому что металлизированные изделия возвращаются в загрузочно-разгрузочную камеру. Кроме того, при опущенном толкателе камеру металлизации и эагрузочноразгрузочную камеру разобщает заслонка при выходе на режим, смене 25 деталей и т.п. При этом также предотвращается попадание паров исходного соединения и продуктов их распада на изделия.

На чертеже показана принципиальная схема предлагаемой установки.

Она содержит загрузочно-разгрузочную камеру 1 с транспортером 2 и толкателем 3, торцовая часть которого выполнена в виде заглушки 4 с резистивным нагревателем 5, предназначенным для перемещения изделия 6, шлюзовое устройство 7 с заслонкой 8, камеру 9 металлизации, помещенную в промежуточную камеру 10, причем камера 9 металлизации снабжена испа- 40 ряющим устройством 11. Промежуточная камера 10 соединена с шлюзовым устройством 7, установленным на верхней части камеры 1. Поворотный транспортер 2 предназначен для перемещения кассет с изделиями 6. Испаряющее устройство 11, входное.отверстие 12 камеры 9 металлизации, шлюзовое устройство 7 и толкатель 3 с заглушкой 4 расположены соосно и вер- 5 тикально, причем заглушка 4 толкателя 3 в верхнем положении перекрывает входное отверстие 12 камеры 9 металлиэации. Камера 1 имеет люк 13 для загрузки и выгрузки изделий. . Установка работает следующим образ ом.

Через люк 13 иэделия 6 загружают в кассеты транспортера 2. Затем люк

13 закрывают и создают в загрузочно-разгрузочной камере .1 вакуум.

Одновременно при закрытой заслонке 8 шлюзового устройства 7 образуется вакуум в камере 9 металлиэации, затем производят ее термостатирование до требуемой температуры. После этого 65 открывают заслонку 8 шлюзового устройства 7 и.поднимают толкатель 3.

Освобожденная заглушка 4 перемещается и в крайнем верхнем положении упирается в нижний фланец камеры 9 металлиэации, полностью перекрывая ее входное отверстие 12, при этом обрабатываемое изделие 6 оказывается в камере 9 металлиэации в зоне индукционного нагрева. В камеру подают пары исходного металлоорганического соединения (MOC), которые равномерно обтекают нагретую поверхность изделия 6, разлагаются на этой поверхности и образуют покрытия и летучие продукты разложения. .,Через заданный промежуток времени прекращают выход паров из испаряющего устройства 11 в камеру 9 металлиэации. Затем толкатель 3 с заглушкой 4 и размещенным на ней изделием 6 опускают в крайнее нижнее положение. При выходе заглушки 4 с изделием 6 заслонку 8 закрывают. При опускании толкателя 3 иэделие 6 с покрытием выводится иэ зоны действия толкателя 3 и остывает в находящейся под вакуумом камере 1 при отсутствии паров МОС, а другое изделие без покрытия оказывается над толкателем. После этого цикл повторяется.

По окончании обрабстки всех иэделий закрывают заслонку 8 шлюзового устройства 7, производят разгерметизацию загрузочно-разгрузочной камеры 1 и выгрузку обработанных изделий 6 и загрузку новых изделий.

Использование изобретения позволяет повысить качество покрытий и обеспечить безопасность процесса.

Формула изобретения

Установка для нанесения покрытий из газовой фазы, содержащая камеру металлизации с входным отверстием, загрузочнб-разгрузочную камеру с поворотным транспортером и толкателем для перемещения изделий в камеру металлиэации, систему откачки, соединенную с камерой металлизации и загрузочно-разгрузочной камерой, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества покрытий, она снабжена заслонкой, установленной между камерой металлизации и загрузочно-разгрузочной камерой, и нагревателем, установленным на толкателе, торцовая часть которого выполнена в виде заглушки для перекрытия входного отверстия камеры металлизации.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Патент CIIIA.9 3915117, кл. 118-49, 1975.

2. Патент CIIIA Р 3856654, кл. 204-298, 1971.

953003

Составитель Л.ВУРлинова

Техред М. Рейвес Корректор М.Демчик

Редактор А.Шишкина

Заказ 6221/45 Тираж 1053 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Установка для нанесения покрытий из газовой фазы Установка для нанесения покрытий из газовой фазы Установка для нанесения покрытий из газовой фазы 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области полупроводниковой нанотехнологии, к области тонкопленочного материаловедения, а именно к устройствам для нанесения тонких пленок и диэлектриков

Изобретение относится к оборудованию для получения слоев из газовой фазы при пониженном давлении (ХОГФПД) и может быть использовано при формировании и диэлектрических, полупроводниковых и проводящих слоев в производстве

Изобретение относится к оборудованию для нанесения покрытий из газовой фазы

Изобретение относится к нанесению покрытий в контролируемой атмосфере и может быть использовано для получения металлсодержащих пленок из паров химических соединений, Цель изобретения - повышение качества покрытий путем обеспечения равномерного нагрева и распределения газовой смеси

Изобретение относится к области высоковольтной техники, к силовым полупроводниковым устройствам и, в частности, к способу и устройству для одностадийного двустороннего нанесения слоя покрытия из аморфного гидрогенизированного углерода на поверхность кремниевой пластины, а также к держателю подложки для поддержки кремниевой пластины. Используют кремниевую пластину (4), содержащую первую большую сторону с первым скосом по кромке первой большой стороны и вторую большую сторону с центральным участком и вторым скосом по кромке второй большой стороны, окружающей центральный участок, причем вторая большая сторона противоположна первой большой стороне, помещают кремниевую пластину (4) на опору (31) для подложки держателя (3) подложки, причем опору (31) для подложки выполняют с возможностью обеспечения контакта лишь центрального участка второй большой стороны пластины (4) с опорой (31) для подложки. Затем помещают держатель подложки с пластиной (4) в реакционную камеру (8) плазменного реактора, в которой на первый и второй скосы одновременно воздействуют плазмой (6), для получения осажденного слоя (7) из аморфного гидрогенизированного углерода. Обеспечивается возможность одностадийного двухстороннего нанесения пассивирующего слоя, обеспечивающего электрическую неактивность участка полупроводниковой пластины. 3 н. и 14 з.п. ф-лы, 5 ил.

Изобретение относится к устройству и способу осаждения атомных слоев на поверхность листообразной подложки. Устройство содержит инжекторную головку, включающую осадительное пространство, оснащенную впуском для прекурсора и выпуском для прекурсора. Указанные впуск и выпуск предназначены для создания потока газообразного прекурсора от впуска для прекурсора через осадительное пространство к выпуску для прекурсора. Осадительное пространство локализовано инжекторной головкой и поверхностью подложки. Инжектор опорного газа предназначен для нагнетания опорного газа между инжекторной головкой и поверхностью подложки. Опорный газ создает газовую подушку. Конвейерная система обеспечивает относительное перемещение подложки и инжекторной головки вдоль плоскости подложки для формирования плоскости транспортирования, вдоль которой перемещают подложку. Напротив инжекторной головки размещают опорную деталь. Опорная деталь скомпонована для создания газовой подушки с профилем давления, которая уравновешивает газовую подушку инжекторной головки в плоскости транспортирования так, что подложка поддерживается без опоры указанной газовой подушкой с профилем давления между инжекторной головкой и опорной деталью. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 10 ил.

Изобретение относится к реакторам атомно-слоевого осаждения, в которых материал наносят на поверхности при последовательном использовании самоограниченных поверхностных реакций. Способ нанесения тонкопленочного покрытия на поверхность полотна атомно-слоевым осаждением (АСО) включает подачу покрываемого полотна в реакционное пространство реактора атомно-слоевого осаждения, формирование для покрываемого полотна в реакционном пространстве траектории с повторяющейся конфигурацией и обеспечение доступности покрываемого полотна в реакционном пространстве для подачи прекурсоров разделенными во времени импульсами для нанесения на указанное полотно материала посредством последовательных самоограниченных поверхностных реакций. Импульсы прекурсоров подают со стороны реакционного пространства в горизонтальном потоке газов прекурсоров. Аппарат для нанесения тонкопленочного покрытия на поверхность полотна АСО содержит входной шлюз, сконфигурированный с возможностью вводить движущееся покрываемое полотно в реакционное пространство реактора для нанесения материала, элементы для задания траектории, сконфигурированные с возможностью формировать для покрываемого полотна в реакционном пространстве траекторию с повторяющейся конфигурацией, и узел подачи паров прекурсоров, сконфигурированный для обеспечения доступности покрываемого полотна в реакционном пространстве для подачи прекурсоров разделенными во времени импульсами для нанесения на указанное полотно упомянутого материала. Узел подачи паров прекурсоров содержит по меньшей мере один распределитель потока, выполненный с возможностью обеспечения горизонтального потока газов прекурсоров. Распределитель потока расположен со стороны реакционного пространства. Производственная линия для нанесения тонкопленочного покрытия на поверхность полотна АСО содержит в качестве одного из модулей упомянутый аппарат с возможностью нанесения покрытия упомянутым способом. Обеспечивается возможность настройки реактора АСО на требуемую скорость производственной линии для обработки покрываемого полотна. 3 н. и 11 з.п. ф-лы, 6ил.

Изобретение относится к установке для вакуумной обработки изделий и способу вакуумной обработки с использованием упомянутой установки. Заявленная установка предназначена для обработки изделий, закрепленных на карусели (205), размещенной на карусельных салазках (201). Указанная карусель содержит вакуумную камеру (303) с дверцей (305) и привод (101). Вакуумная камера имеет по меньшей мере один задний упор (309) и по меньшей мере один передний упор (311), которые при полном введении карусельных салазок (201) в вакуумную камеру (303) и при закрытой дверце (305) обеспечивают кинематическую связь привода (101) карусели с каруселью (205). Привод (101) карусели расположен в вакуумной камере (303) на ее стенке, противолежащей дверце (305). Упомянутый способ включает введение карусельных салазок (201) с размещенной на них каруселью (205) в открытую дверцу (305) вакуумной камеры (303), закрытие дверцы (305) вакуумной камеры (303), ее откачку и осуществление вакуумной обработки. Карусельные салазки (201) с размещенной на них каруселью (205) с закрепленными на ней изделиями предварительно помещают на рельсы тележки и подводят эту тележку с размещенной на ней упомянутой каруселью к открытой дверце (205) вакуумной камеры (303). После закрытия указанной дверцы (305) карусельные салазки (201) фиксируют посредством упомянутых по меньшей мере одного заднего упора (309) и по меньшей мере одного переднего упора (311). Обеспечивается простое подсоединение карусели к ее приводу. 2 н. и 2 з.п. ф-лы, 4 ил.

Изобретение относится к СВЧ технике и может быть использовано для изготовления держателей для подложек, на которых формируют методом плазменного парофазного химического осаждения пленки или покрытия различных материалов, в частности углеродные (алмазные) пленки или покрытия. Держатель подложки выполнен в виде диска из тугоплавкого высокотемпературного переходного металла, при этом верхняя поверхность держателя, выполнена шлифованной, а нижняя поверхность держателя содержит кольцевые пазы, образованные концентрическими окружностями. Между кольцевыми пазами образованы внешний и средний теплоотводящие элементы в виде кольцевых выступов и центральный теплоотводящий элемент, представляющий собой выступ в виде круга. Обеспечивается повышение однородности распределения температурного поля по поверхности держателя, обеспечивающего однородность роста пленки по толщине. 10 з.п. ф-лы, 3 ил., 2 пр.

Изобретение относится к реакторам атомно-слоевого осаждения, в которых материал наносят на поверхности при последовательном осуществлении самоограниченных поверхностных реакций. Способ атомно-слоевого осаждения материала на партию подложек включает загрузку партии подложек в держатель подложек, находящийся в загрузочной камере реактора для нанесения материала, с формированием в держателе подложек вертикальной стопы горизонтально ориентированных подложек, в которой подложки расположены одна на другой, и разворот держателя подложек для получения горизонтальной стопы вертикально ориентированных подложек, в которой подложки расположены одна за другой, и опускание держателя подложек в реакционную камеру указанного реактора для нанесения материала посредством последовательных самоограниченных поверхностных реакций путем воздействия на партию подложек разделенными во времени импульсами подачи прекурсоров. Аппарат для осуществления упомянутого способа содержит механизм разворота, выполненный для разворота держателя подложек для получения горизонтальной стопы вертикально ориентированных подложек, в которой подложки расположены одна за другой, и подъемник, выполненный для опускания держателя подложек в реакционную камеру указанного реактора, для нанесения материала посредством последовательных самоограниченных поверхностных реакций путем воздействия на партию подложек разделенными во времени импульсами подачи прекурсоров. Обеспечивается система загрузки сверху реактора для нанесения материалов с вертикальным потоком газов, позволяющая загружать подложки, ориентированные горизонтально, а также устраняется необходимость в развороте каждой подложки по отдельности за счет разворота держателя подложек в целом и минимизация перемещения подложек при их загрузке в кластер реакторов. 2 н. и 11 з.п. ф-лы, 6 ил.

Изобретение относится к системе токоприемника для устройства обработки подложек и/или пластин, снабженной камерой обработки, ограниченной, по меньшей мере, двумя стенками и, по меньшей мере, одним нагревательным соленоидом

Изобретение относится к аппаратурному оформлению процесса осаждения из газовой фазы кристаллических слоев на кристаллическую подложку

Изобретение относится к способу выращивания пленки нитрида металла группы (III) химическим осаждением из газовой фазы с удаленной плазмой, устройству для осуществления способа и пленке нитрида металла группы (III) и может найти применение при изготовлении светоизлучающих диодов, лазерных светодиодов и других сверхвысокочастотных транзисторных приборов высокой мощности

Изобретение относится к устройству и способу управления температурой поверхности, по меньшей мере, одной подложки, лежащей в технологической камере реактора CVD

Изобретение относится к устройствам для получения пиролизом монофиламентных карбидокремниевых волокон

Изобретение относится к устройствам для получения борных волокон
Наверх