Способ изготовления электрофотографического материала

 

О П И С А Н И Е () 957157

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

- Союз Советских

Социалистических

Республик . (6! ) Дополнительное к авт. сви(т-ву— (22) Заявлено 20. О1. 81 (21) 3238705/28-12 (51) Щ. Кд.

3 с присоединением заявки Лев

G 03 G 5/00

С 03 0 5/08

3ЪсуяврственныИ «юмитет

СССР ао делам «зобретекнй и открыт«й (23) Приоритет

Опубликовано 07.09.82. Бюллетень Юя 33

Дата опубликования описании 09 . 09 .82 (53) УДК772. .93(O88.8) (72) Авторы изобретения

Б.N. Петретис, Р.Л. Ринкунас и А.А. Тракимавич1о3.3

Вильнюсский ордена Трудового Красного Знаменй" и--в

Дружбы народов государственный университет им. В. Капсукаса (71) Заявитель (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЗЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКОГО

МАТЕРИАЛА

Изобретение относится к электрофотографии, в частности к способам изготовления слоев из неорганических фотопроводников, используемых для приема зарядов в электрографическом процессе.

Известен способ изготовления электрофотографического материала, включающий напыление селена на подогретую подложку с последующим охлаждением С1 3.

Однако в таком электрофотографическом слое наблюдаются механические натяжения, которые ухудшают электрофотографические свойства слоя и качество проявленного изображения, а также уменьшают кристаллизационную стойкость селена.

Целью изобретения является улучшение качества электрофотографичесного материала. о

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу изготовления, электрофотографического слоя, включающему напыление селена на по2 догретую подложку с последующим охлаждением, перед подогревом на подложку наносят слой полимера, температура стеклования которого ниже.температуры слоя селена во время его напылео ния на 1-20 К, а слой селена .наносят на слой полимера, причем толщина слоя полимера в 20-100 раз меньше толщины слоя селена.

Пример -1. На дюралюминиевую подложку путем полива раствора полистирола (tg=810С) в дихлорэтане наносят пленку толщиной 1 мкм. Подложку с полистироловой пленкой нагревают до 85оС и в вакууме напыляют слой селена толщиной 50-60 мкм, После напыления слоя в течение 1-2 мин электрофотографический слой охлаждают при помощи продувания поверхности фотопроводникового слоя воздухом до окружающей среды.

Пример 2. Способ изготовления электрофотографического слоя аналогичен примеру 1, только в качестве по3 95715 лимера используют поливинилхлорид (у=80 С) из раствора в циклогексано-; ле.

Пример 3. Способ изготовления электрофотографического слоя по примеру 1. Берут подложку из лавсановой пленки, покрывают пленкой поливинилбутираля (tg=51 С) из спиртового раствора, а подложку нагревают до 65оС.

1О

Предлагаемый способ технологически прост, не требует дополнительного оборудования (например шаблонов) и применяется для изготовления электрофотографических слоев на любых подложках, в том числе и на барабанах и гибких подложках. Способ исключает механические натяжения в фотопроводниковом слое, а также создает воз" можность исключения их, возникших в процессе эксплуатации слоя. Для этого достаточно электрофотографический слой прогреть при температуре стеклования полимерного. слоя

s течение 1-2 мин и охладить с поверхности фотопроводникового слоя струей воздуха. Предлагаемый способ существенно увеличивает кристаллизационную стойкость аморфного селена в области подложки с полимерной пленкой - фотопроводниковый слой.

В результате этого инкубационный период кристаллизации увеличивается

7 4 до 100 раз по сравнению со слоем селена без полимерной пленки. При этом способ устраняет неоднородности свойств электрофотографических слоев в плоскости подложки, что улучшает качество проявленного изображения. Кроме того, способ увеличиваеТ адгезию слоя селена с подложкой и холодостойкость электрофотографических слоев.

Формула изобретения

Способ изготовления электрофотографического материала, включающий напыление селена на подогретую подложку с последующим охлаждением, отличающийся тем, что, Ф с целью улучшения качества электрофотографического материала, перед. подогревом на подложку наносят слой полимера, температура стеклования которого ниже температуры плавления селена во время его напыления на 1-20 К, а слой селена наносят на слой полимера, причем толщина слоя полимера в 20-100 раз меньше толщины слоя селена.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР

N 826865, кл. 6 03 G 5/00, 1981.

Составитель И. Волкова

Редактор Н. Пушненкова Техред С.Иигунова Корректор О. Билак

Заказ 595/35 Тираж 88 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035 Иосквв, 3-35, Раушская наб. д. 4/5

Филиал ППП Патент", г. Ужгород, ул. Проектная,