Установка для лазерной обработки материалов

 

УСТАНОВКА ДЛЯ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ, содержащая оптический квантовый генератор, фокусирующий линзу и полусферическое отИзобретение относится к оборудованию для лазерной обработки материалов. Целью изобретения является повышение качества обработки путем стабилизации энерговложения. На чертеже изображена схема установки . Установка содержит оптический квантовый генератор 1, фокусирующую линзу 2 и полусферическое отражающее зеркало 3 с отверстием 4 для прохода луча. Установка также снабжена по крайней мере двумя дополнительными фокусирующими линзами 5 ибо отражающими зеркалами 7 и 8. В полусферическом зеркале 3 выполнены по крайней мере два дополнительных отверстия 90 и 10, Дополнительные линзы 5 и 6 установлены с выпуклой стороны пблусферического отражающего зеркала 3 соосно дополнительным отверстиям 9 и 10, Отражающие зеркала 7 и 8 наклонены к осям дополнительных отверстий 9 и 10 навстречу друг Другу. ражающее зеркало с отверстием для прохода луча, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества обработки путем стабилизации энерговложения, она снабжена по крайней мере двумя дополнительными фокусирующими линзами с отражающими зеркалами, в полусферическом зеркале вы .полнены по крайней мере два дополнительных отверстия, дополнительные линзы установлены с выпуклой стороны полусферического отражающего зеркала соосно дополнительным отверстиям, а отражающие зеркала наклонены к осям дополнительных отверстий навстречу одно другому. СО с Установка работает следующим образом . Излучение оптического квантового генератора 1 фокусируется линзой 2 и через о отверстие 4 в отражающем зеркале 3 нач правляется на обрабатываемую деталь 11. 00 1 00 СлЭ Зеркально отраженное излучение проходит через отверстие 9, линзу и зеркалами 8, 7 направляется на линзу 5, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 10 на обрабатываемую деталь 11, которую устанавливают обрабатываемой поверхностью нормально к оси линзы 5. Зеркальная составляющая вторично отраженного излучения проходит отверстие 10, линзу 5 и зеркалами 7, 8 направляется на линзу 6, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 9 на обрабатываемую деталь 11. Далее зеркально отраженное излучение через отверстие 4 уходит в направлении оптического квантового генератора 1. Поворачивая деталь 11 таким образом, чтобы первоначально зеркальное отражение излучения оптического

Фф" " % у + .. ф

Сgl()3 СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РгеСГ1УБЛИК

c5t)1 В 23 К 26/00

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3303373/27 (22) 11.06,81 (46) 23.12.92. Бюл.1че 47 (72) K3.B.Ëàêèçà, А.А.Малащенко и А.В,Мезенов (56) Николаев Г.А, и Ольшанский Н.А, Специальные методы сварки. М„Машиностроение, 1975, с.141.

Патент США М 375078, кл. В 23 К 27/00, 1975. (54)(57) УСТАНОВКА ДЛЯ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ, содержащая оптический квантовый генератор, фокусирующий линзу и полусферическое отИзобретение относится к оборудованию для лазерной обработки материалов.

Целью изобретения является повышение качества обработки путем стабилизации энерговложения, На чертеже изображена схема установки.

Установка содержит оптический квантовый генератор 1, фокусирующую линзу 2 и полусферическое отражающее зеркало 3 с отверстием 4 для прохода луча. Установка также снабжена по крайней мере двумя дополнительными фокусирующими линзами 5 и 6 с отражающими зеркалами 7 и 8. В полусферическом зеркале 3 выполнены по крайней мере два дополнительных отверстия 90 и 10. Дополнительные линзы 5 и 6 установлены с выпуклой стороны пблусферического отражающего зеркала 3 соосно дополнительным отверстиям 9 и 10. Отражающие зеркала 7 и 8 наклонены к осям дополнительных отверстий 9 и 10 навстречу друг другу

„„. О„„978483 А1 ражающее зеркало с отверстием для проходалуча,отличающаясятем,что,сцелью повышения качества обработки путем стабилизации энерговложения, она снабжена по крайней мере двумя дополнительными фокусирующими линзами с отражающими зеркалами, в полусферическом зеркале вы.полнены по крайней мере два дополнительных отверстия, дополнительные линзы установлены с выпуклой стороны полусферического отражающего зеркала соосно дополнительным отверстиям, а отражающие зеркала наклонены к осям дополнительных отверстий навстречу одно другому, Установка работает следующим образом.

Излучение оптического квантового генератора 1 фокусируется линзой 2 и через отверстие 4 в отражающем зеркале 3 направляетсяя на об рабаты ваемую детал ь 11.

Зеркально отраженное излучение проходит через отверстие 9, линзу и зеркалами 8, 7 направляется на линзу 5, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 10 на обрабатываемую деталь 11. которую устанавливают обрабатываемой поверхностью нормально к оси линзы 5.

Зеркальная составляющая вторично отраженного излучения проходит отверстие 10, линзу 5 и зеркалами 7, 8 направляется на линзу 6, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 9 на обрабатываемую деталь 11. Далее зеркально отраженное излучение через отверстие 4 уходит в направлении оптического квантового генератора 1. Поворачивая деталь 11 таким образом, чтобы первоначально зеркальное отражение излучения оптического

978483 новка позволяет осуществить два или три возврата зеркально отраженного излучения и многократный возврат излучения, отраженного диффузно, стабилизирует энерговложение, что повышает качество обработки, Составитель Н. Соколова

Редактор Т. Шарганова Техред M,Mîðråíòàë Корректор Л. Ливринц

Заказ 566 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", r, Ужгород, ул.Гагарина, 101 квантового генератора 1 было направлено s отверстие 10, получают дополнительный третий возврат зеркально отраженного излучения. В этом случае зеркально отражаемое деталью 11 излучение проходит путь: отверстие 10 — линза 5 — зеркала 7, 8 — линза

6 — отверстие 9 — обрабатываемая деталь 11 — полусферическое зеркало 3 (в направлении ОА) — обрабатываемая деталь 11 — отверстие 9 — линза 6 — зеркала 8, 7 — линза 5 — отверстие 10 — обрабатываемая деталь 11 — отверстие 4 - линза 2 и уходит в направлении генератора 1. Таким образом, устаУстановка позволяет обеспечить повышение стабильности энерговложения, иэбе"0 жать выплесков и испарений материала, например, при лазерной сварке деталей, что приведет к повышению качества и надежности соединений.