Электронно-лучевое испарительное устройство

 

1. ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВОЕ .ИСПАРИТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО, содержащее вакуумную камеру, электронную пушку, тигель, электромагнитные фокусирующую и отклоняющую системы , электромагниты которых защищены экраном, а полюсные наконечники отклоняющей системы размещены в вакуумной камере, отличающееся тем, что, с целью повышения качества покрытий, фокусирующая система выполнена в виде линзы с арочной геометрией-магнитного гтоля и размещена под тиглем, соосно последнему. (Л Фог. /

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

А.,80„, 980560

3(59 Н 01 Х 37/02

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ !:1, К ABTOPGHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 3002663/18-21 (22) 05.10.80 .(46) 23.07.84. Бюл. -27 (72) Н.С. Зинченко и В.А. Соколова (71) Харьковский ордена Трудового

Красного Знамени институт радиофизики и электроники .АН УССР (53) 621.791.72(088.8) (56) 1. Патент Великобритании

5-1154237, кл. Н 1 Э, 1972.

2. Патент Великобритании

11361771, кл. Н 1 D, 1971. (54)(57) 1. ЭЛЕКТРОННОЛУЧЕВОЕ

ИСПАРИТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО, содержа.щее вакуумную камеру, электронную пушку, тигель, электромагнитные фокусирующую и отклоняющую системы, электромагниты которых защищены экраном, а полюсные наконечники отклоняющей системы размещены в вакуумной камере, о т л и ч а ющ е е с я тем, что, с целью повышения качества покрытий, фокусирующая система выполнена в виде линзы с арочной геометрией магнитного поля и размещена под тиглем, соосно последнему.

980560

2. Устройство по п.1, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что электромагниты отклоняющей системы и фокусирующей линзы размещены вне ваку1

Изобретение относится к электротермии, а именно к электроннолучевым установкам для плавки, испарения и обработки материалов.

Известно .электроннолучевое испа5 рительное устройство, содержащее вакуумную камеру с расположенным в ней тиглем, электронной пушкой и электромагнитным отклоняющим устройством (1 ).

Недостатки данного устройства обусловлены расположением отклоняющего устройства вместе с катушкой электромагнита в вакуумной камере, где под воздействием высоких рабочих 15 температур, отраженных электронов и брызг от тигля катушка нагревается, в результате испарений от элементов нагретой катушки загрязняется камера и поэтому ухудшается качество наносимых покрытийР!Кроме того, в упомянутых устройствах отсутствует фокусирующая система, что также отражается на качестве покрытия, так как пучок электронов в них может по" падать на края тигля.

Известно также электроннолучевое испарительное устройство, содержащее вакуумную камеру, электронную пушку, тигель, электромагнитные фокусирующую gp и отклоняющую системы, электромагниты которых защищены экраном, а полюсные наконечники отклоняющей системы размещены в вакуумной камере.

Низкое качество наносимых покрытий

35 данного устройства обусловлено размещением отклоняющей и фокусирующей системы вместе с катушками возбуждения в вакуумной камере, где под воздействием высоких температур, отраженных 40 электронов и брызг от тигля катушки нагреваются, и вследствие испарений от нагретых катушек камера загрязняется, что ухудшает качество наносимых покрытий.

Целью изобретения является повышение качества покрытий. умной камеры, а полюсные наконечники отклоняющей системы соединены с электромагнитом посредством магнитопровода.

Указанная цель достигается тем, что в электроннолучевом испарительном устройстве, содержащем вакуумную камеру, электронную пушку, тигель, электромагнитные фокусирующую и отклоняющую системы, электромагниты которых защищены экраном, а полюсные наконе 1ники отклоняющей системы размещены в вакуумной камере, фокусирующая система выполнена в виде линзы с арочной гео-. метрией магнитного поля и размещена под тиглем соосно последнему. Кроме того, электромагниты отклоняющей системы и фокусирующей линзы размещены вне вакуумной камеры, а полюсные наконечники отклоняющей системы соединены с электромагнитом посредством магнитопровода.

Благодаря использованию фокусирующей линзы и такому конструктивному расположению элементов в предлагаемом устройстве из вакуумной камеры удаляются такие элементы, которые при эксплуатации устройства под воздействием высокой температуры, брызг от тигля и отраженных электронов загрязняют камеру своими испарениями, ухудшают вакуум,. а следовательно,и качество покрытия.

На фиг.1 представлено испарительное устройство, общий вид,; .на фиг.2 то же, вид слева; а на фиг.3 — то же, вид сверху.

Электроннолучевое испарительное устройство представляет собой вакуумную камеру (на чертеже не показана) и включает смонтированные на фланце 1, закрывающем вход в вакуумную .камеру, тигель 2, расположенную,соосно с тиглем 2 и размещенную под ним вне вакуумной камеры фокусирующую линзу 3, отклоняющее устройство 4, смонтированное таким образом, что два магнитопровода 5 введены в вакуумную камеру через два отверстия во сланце 1 и по периметру вакуум-плотно приварены к нему, а катушка 6 отклоняющего устройства 4, надетая на

980560

Составитель В. Александров

Редактор П. Горькова Техред С.Мигунова Корректор Л. Пилипенко

Заказ 5510 Тираж 683

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Подписное

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 сердечник магнитопровода 5, находится вне вакуумной камеры. К внутренним концам магнитопровода 5 прикреплены полюсные наконечники 7, к которым прикреплена электронная 5 пушка 8.

Работает предлагаемое устройство следующим образом.

Электронный пучок, выходящий из пушки 8, попадает между полюсными

10 наконечниками 7 отклоняющего устройства 4, отклоняется там поперечным магнитным полем, возбуждаемым катуш- кой 6 и передаваемым к полюсным наконечникам 7 магнитопроводом 5,. и направляется на тигель 2, размещенный на фланце 1 испарительного устройства. У тигля 2 электронный пучок фокусируется магнитным полем,создаваемым фокусирующей линзой 3 над поверхностью испаряемого вещества, плавит и испаряет вещество, находящееся в тигле 2 для испарения °

Качество покрытий, наносимых при использовании данного устройства, повышается не менее чем на 107. при увеличении скорости нанесения покрытий.