Высокооднородная стеклокерамическая деталь - заявка 2016137478 на патент на изобретение в РФ

1. Имеющая низкий коэффициент теплового расширения стеклокерамическая деталь, которая при температуре применения TA имеет КТР, находящийся в интервале 0±20⋅10-9/K, предпочтительно в интервале 0±15⋅10-9/K, предпочтительнее в интервале 0±10⋅10-9/K, и однородность КТР, составляющую не более чем 5⋅10-9/K.
2. Стеклокерамическая деталь по п. 1, у которой температура применения TA находится в интервале от -60°C до 100°C.
3. Стеклокерамическая деталь по п. 1 или 2, у которой температуру применения TA выбирают из группы значений, составляющих 22°C, 30°C, 40°C, 60°C, 80°C и 100°C.
4. Стеклокерамическая деталь по одному или нескольким из предшествующих пунктов, у которой температурный интервал, который удовлетворяет КТР в пределах 0±10⋅10-9/K, имеет величину, составляющую, по меньшей мере, 10 K.
5. Стеклокерамическая деталь по одному или нескольким из пп. 1-3, имеющая прямоугольное основание, у которого длина стороны в каждом случае составляет, по меньшей мере, 100 мм, и толщина составляет, по меньшей мере, 5 мм.
6. Стеклокерамическая деталь по одному или нескольким из предшествующих пунктов, у которого масса составляет, по меньшей мере, 500 кг.
7. Стеклокерамическая деталь по одному или нескольким из предшествующих пунктов, которая имеет прямоугольную форму, и у которой, по меньшей мере, одна поверхность имеет площадь поверхности, составляющую, по меньшей мере, 1 м2.
8. Стеклокерамическая деталь по одному или нескольким из предшествующих пунктов, включающая стеклокерамический материал на основе алюмосиликата лития (LAS) со следующим составом (мас.% в пересчете на оксид):
9. Стеклокерамическая деталь по одному или нескольким из предшествующих пунктов, включающая стеклокерамический материал, в котором содержание OH, составляет, по меньшей мере, 0,06 моль/л.
10. Применение стеклокерамической детали по одному или нескольким из пп. 1-9 в астрономии, метрологии, жидкокристаллической литографии или микролитографии, например, в качестве держателя шаблона, подставки кристаллической пластинки или эталонного диска, или в качестве оптической детали для литографии в коротковолновом ультрафиолетовом излучении (КУФ), в частности, в качестве подложки для заготовки фотошаблона КУФ или зеркала КУФ.
11. Применение стеклокерамической детали по одному или нескольким из пп. 1-9 в качестве прецезионной детали, такой как эталоны для технологии прецизионных измерений, механические прецизионные детали, например, для кольцевых лазерных гироскопов, спиральные пружины для производства часов, а также в жидкокристаллической литографии, например, в качестве зеркал и призм.
12. Способ изготовления стеклокерамической детали по одному или нескольким из пп. 1-9, включающий следующие стадии:
- плавление зеленого тела,
- литье зеленого тела,
- керамизация зеленого тела для образования стеклокерамического материала.
Наверх