Способ планиризации поверхности наноструктур материалов электронной техники пучком газовых кластерных ионов - заявка 2016143113 на патент на изобретение в РФ

Способ планиризации поверхности наноструктур материалов электронной техники пучком газовых кластерных ионов, отличающийся тем, что в качестве рабочего газа пучка газовых кластерных ионов используют ксенон.
Наверх