Устойчивые к хлору гидрофильные фильтрационные мембраны на основе полианилина - заявка 2016143529 на патент на изобретение в РФ

1. Фильтрационная мембрана, содержащая полимер, полученный полимеризацией соединения, имеющего структуру, представленную формулой:
,
где n выбран из 1, 2 и 3;
где каждый из R1a, R1b, R1c и R1d независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─NR22aR22bH+, ─SO2R23, ─(C=O)R24 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─SO2R23 и ─(C=O)R24;
где каждый из R2a и R2b независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─NR32aR32bH+, ─SO2R33, ─(C=O)R34 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─SO2R33 и ─(C=O)R34;
где каждый из R3a, R3b и R3c независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR40, ─OR41, ─NR42aR42b, ─NR42aR42bH+, ─SO2R43 и ─(C=O)R44;
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород;
где каждый из R20, R21, R22a, R22b, R30, R31, R32a, R32b, R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R23 и R24, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR25, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR26aR26b;
где каждый из R25, R26a и R26b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R33 и R34, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR35, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR36aR36b;
где каждый из R35, R36a и R36b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R43 и R44, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR45, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR46aR46b; и
где каждый из R45, R46a и R46b, при его наличии, выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила.
2. Мембрана по п. 1, отличающаяся тем, что нанесена поливом и отверждена на поддерживающей структуре.
3. Мембрана по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что мембрана дополнительно содержит второй полимер, выбранный из полисульфона, сульфонированного полисульфона, полиэфирсульфона, сульфонированного полиэфирсульфона, полианилина, сополимеров полианилина, полиакрилонитрила, полиуретана, ацетата целлюлозы, поливинилиденфторида, политетрафторэтилена, поливинилфторида, поливинилиденфторида, политрифторэтилена, полиперфторалкилвинилового эфира, полигексафторпропилена, ацетата целлюлозы, полиуретана, ацетата целлюлозы, полиуретана или их смеси.
4. Мембрана по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что мембрана дополнительно содержит полисульфон.
5. Мембрана по любому из пп. 1-‎4, отличающаяся тем, что полимер присутствует в количестве от около 0,1% масс. до около 35% масс.
6. Мембрана по пп. 1-‎4, отличающаяся тем, что мембрана имеет равновесный угол смачиваемости чистой водой менее чем около 40°.
7. Фильтрационная мембрана, содержащая полимер, который содержит структуру, представленную формулой:
,
где каждый Z независимо выбран из водорода и;
где n представляет собой целое число, выбранное из 1, 2 и 3;
где p независимо равен 0, 0,5 или 1;
где q независимо равен 0, 0,5 или 1;
где для каждого x, p+q=1;
где каждый из R1a, R1b, R1c и R1d независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─NR22aR22bH+, ─SO2R23, ─(C=O)R24 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─SO2R23 и ─(C=O)R24;
где каждый из R2a и R2b независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─NR32aR32bH+, ─SO2R33, ─(C=O)R34 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─SO2R33 и ─(C=O)R34;
где каждый из R3a, R3b и R3c независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR40, ─OR41, ─NR42aR42b, ─NR42aR42bH+, ─SO2R43 и ─(C=O)R44;
где каждый из R20, R21, R22a, R22b, R30, R31, R32a, R32b, R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R23 и R24, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR25, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR26aR26b;
где каждый из R25, R26a и R26b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R33 и R34, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR35, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR36aR36b;
где каждый из R35, R36a и R36b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R43 и R44, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR45, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR46aR46b;
где каждый из R45, R46a и R46b, при его наличии, выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила; и
где по меньшей мере один Z представляет собой структуру, представленную формулой:
, и
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород.
8. Полимер, полученный полимеризацией соединения, имеющего структуру, представленную формулой:
,
где n выбран из 1, 2 и 3;
где каждый из R1a, R1b, R1c и R1d независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─NR22aR22bH+, ─SO2R23, ─(C=O)R24 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─SO2R23 и ─(C=O)R24;
где каждый из R2a и R2b независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─NR32aR32bH+, ─SO2R33, ─(C=O)R34 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─SO2R33 и ─(C=O)R34;
где каждый из R3a, R3b и R3c независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR40, ─OR41, ─NR42aR42b, ─NR42aR42bH+, ─SO2R43 и ─(C=O)R44;
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород;
где каждый из R20, R21, R22a, R22b, R30, R31, R32a, R32b, R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R23 и R24, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR25, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR26aR26b;
где каждый из R25, R26a и R26b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R33 и R34, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR35, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR36aR36b;
где каждый из R35, R36a и R36b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R43 и R44, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR45, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR46aR46b; и
где каждый из R45, R46a и R46b, при его наличии, выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила.
9. Полимер по п. 8, отличающийся тем, что n равен 2.
10. Полимер по п. 8 или 9, отличающийся тем, что каждый из R1a, R1b, R1c и R1d представляет собой водород.
11. Полимер по любому из пп. 8-10, отличающийся тем, что каждый из R2a и R2b представляет собой водород.
12. Полимер по любому из пп. 8-11, отличающийся тем, что каждый из R3a и R3b представляет собой водород, и R3c представляет собой ─OR41.
13. Полимер по любому из пп. 8-12, отличающийся тем, что каждый из R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, представляет собой водород.
14. Полимер по любому из пп. 8-13, отличающийся тем, что каждый из R43 и R44, при его наличии, представляет собой OR45.
15. Полимер по любому из пп. 8-14, отличающийся тем, что R45, при его наличии, представляет собой водород.
16. Полимер по любому из пп. 8-15, отличающийся тем, что содержит по меньшей мере один остаток, образованный посредством полимеризации соединения, имеющего структуру, представленную формулой:
,
присутствующий в количестве по меньшей мере 0,1% масс.
17. Полимер, содержащий структуру, представленную формулой:
,
где каждый Z независимо выбран из водорода и;
где n представляет собой целое число, выбранное из 1, 2 и 3;
где p независимо равен 0, 0,5 или 1;
где q независимо равен 0, 0,5 или 1;
где для каждого x, p+q=1;
где каждый из R1a, R1b, R1c и R1d независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─NR22aR22bH+, ─SO2R23, ─(C=O)R24 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─SO2R23 и ─(C=O)R24;
где каждый из R2a и R2b независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─NR32aR32bH+, ─SO2R33, ─(C=O)R34 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─SO2R33 и ─(C=O)R34;
где каждый из R3a, R3b и R3c независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR40, ─OR41, ─NR42aR42b, ─NR42aR42bH+, ─SO2R43 и ─(C=O)R44;
где каждый из R20, R21, R22a, R22b, R30, R31, R32a, R32b, R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R23 и R24, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR25, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR26aR26b;
где каждый из R25, R26a и R26b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R33 и R34, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR35, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR36aR36b;
где каждый из R35, R36a и R36b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R43 и R44, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR45, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR46aR46b;
где каждый из R45, R46a и R46b, при его наличии, выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила; и
где по меньшей мере один Z представляет собой структуру, представленную формулой:
, и
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород.
18. Полимер по п. 17, отличающийся тем, что каждый Z представляет собой структуру, представленную формулой:
, и
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород.
19. Способ получения фильтрационной мембраны, включающий стадию обеспечения полимера, полученного полимеризацией соединения, имеющего структуру, представленную формулой:
,
где n выбран из 1, 2 и 3;
где каждый из R1a, R1b, R1c и R1d независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─NR22aR22bH+, ─SO2R23, ─(C=O)R24 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─SO2R23 и ─(C=O)R24;
где каждый из R2a и R2b независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─NR32aR32bH+, ─SO2R33, ─(C=O)R34 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─SO2R33 и ─(C=O)R34;
где каждый из R3a, R3b и R3c независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR40, ─OR41, ─NR42aR42b, ─NR42aR42bH+, ─SO2R43 и ─(C=O)R44;
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород;
где каждый из R20, R21, R22a, R22b, R30, R31, R32a, R32b, R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R23 и R24, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR25, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR26aR26b;
где каждый из R25, R26a и R26b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R33 и R34, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR35, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR36aR36b;
где каждый из R35, R36a и R36b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R43 и R44, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR45, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR46aR46b; и
где каждый из R45, R46a и R46b, при его наличии, выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила; и
нанесение поливом и отверждение раствора или суспензии полимера.
20. Способ по п. 19, отличающийся тем, что раствор или суспензию наносят поливом и отверждают на поддерживающей структуре.
21. Способ по п. 20, отличающийся тем, что поддерживающая структура представляет собой нетканый поддерживающий материал.
22. Способ по любому из пп. 19-21, отличающийся тем, что мембрана выбрана из мембраны для ультрафильтрации, мембраны для нанофильтрации, мембраны для обратного осмоса, мембраны для прямого осмоса и мембраны для ограниченного давлением осмоса без тонкопленочного покрытия.
23. Способ по любому из пп. 19-21, отличающийся тем, что мембрана представляет собой мембрану для ультрафильтрации.
24. Способ по любому из пп. 19-23, отличающийся тем, что полимер находится в растворе растворителя.
25. Способ по любому из пп. 19-23, отличающийся тем, что полимер находится в суспензии.
26. Способ по любому из пп. 19-25, дополнительно включающий стадию нанесения поливом и отверждения раствора второго полимера, выбранного из полисульфона, сульфонированного полисульфона, полиуретана, ацетата целлюлозы, полиэфирсульфона, сульфонированного полиэфирсульфона, полианилина, сополимеров полианилина, полиакрилонитрила, поливинилиденфторида, политетрафторэтилена, поливинилфторида, поливинилиденфторида, политрифторэтилена, полиперфторалкилвинилового эфира, полигексафторпропилена, ацетата целлюлозы, полиуретана или их смеси.
27. Способ по любому из пп. 19-26, дополнительно включающий стадию полимеризации тонкой пленки на поверхности мембраны с получением осмотической мембраны.
28. Способ по п. 27, отличающийся тем, что осмотическая мембрана выбрана из мембраны для обратного осмоса и мембраны для прямого осмоса.
29. Способ получения фильтрационной мембраны, включающий стадию обеспечения полимера, содержащего структуру, представленную формулой:
,
где каждый Z независимо выбран из водорода и;
где n представляет собой целое число, выбранное из 1, 2 и 3;
где p независимо равен 0, 0,5 или 1;
где q независимо равен 0, 0,5 или 1;
где для каждого x, p+q=1;
где каждый из R1a, R1b, R1c и R1d независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─NR22aR22bH+, ─SO2R23, ─(C=O)R24 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─SO2R23 и ─(C=O)R24;
где каждый из R2a и R2b независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─NR32aR32bH+, ─SO2R33, ─(C=O)R34 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─SO2R33 и ─(C=O)R34;
где каждый из R3a, R3b и R3c независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR40, ─OR41, ─NR42aR42b, ─NR42aR42bH+, ─SO2R43 и ─(C=O)R44;
где каждый из R20, R21, R22a, R22b, R30, R31, R32a, R32b, R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R23 и R24, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR25, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR26aR26b;
где каждый из R25, R26a и R26b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R33 и R34, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR35, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR36aR36b;
где каждый из R35, R36a и R36b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R43 и R44, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR45, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR46aR46b;
где каждый из R45, R46a и R46b, при его наличии, выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила; и
где по меньшей мере один Z представляет собой структуру, представленную формулой:
, и
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород; и
нанесение поливом и отверждение раствора или суспензии полимера.
30. Способ очистки воды, включающий стадию фильтрации воды через мембрану, содержащую полимер, полученный полимеризацией соединения, имеющего структуру, представленную формулой:
,
где n выбран из 1, 2 и 3;
где каждый из R1a, R1b, R1c и R1d независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─NR22aR22bH+, ─SO2R23, ─(C=O)R24 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─SO2R23 и ─(C=O)R24;
где каждый из R2a и R2b независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─NR32aR32bH+, ─SO2R33, ─(C=O)R34 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─SO2R33 и ─(C=O)R34;
где каждый из R3a, R3b и R3c независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR40, ─OR41, ─NR42aR42b, ─NR42aR42bH+, ─SO2R43 и ─(C=O)R44;
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород;
где каждый из R20, R21, R22a, R22b, R30, R31, R32a, R32b, R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R23 и R24, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR25, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR26aR26b;
где каждый из R25, R26a и R26b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R33 и R34, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR35, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR36aR36b;
где каждый из R35, R36a и R36b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R43 и R44, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR45, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR46aR46b; и
где каждый из R45, R46a и R46b, при его наличии, выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила.
31. Способ по п. 30, отличающийся тем, что фильтрация включает применение давления в отношении воды.
32. Способ по п. 30 или 31, отличающийся тем, что мембрана дополнительно содержит тонкую пленку на поверхности мембраны, причем указанная тонкая пленка содержит третий полимер, и при этом фильтрация представляет собой фильтрацию обратным осмосом.
33. Способ по любому из пп. 30-32, отличающийся тем, что вода дополнительно содержит по меньшей мере одно растворенное вещество.
34. Способ очистки воды, включающий стадию фильтрации воды через мембрану, содержащую полимер, который содержит структуру, представленную формулой:
,
где каждый Z независимо выбран из водорода и;
где n представляет собой целое число, выбранное из 1, 2 и 3;
где p независимо равен 0, 0,5 или 1;
где q независимо равен 0, 0,5 или 1;
где для каждого x, p+q=1;
где каждый из R1a, R1b, R1c и R1d независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─NR22aR22bH+, ─SO2R23, ─(C=O)R24 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR20, ─OR21, ─NR22aR22b, ─SO2R23 и ─(C=O)R24;
где каждый из R2a и R2b независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─NR32aR32bH+, ─SO2R33, ─(C=O)R34 и C1-C3 алкила, замещенного 0, 1, 2 или 3 группами, выбранными из галогена, ─CN, ─SR30, ─OR31, ─NR32aR32b, ─SO2R33 и ─(C=O)R34;
где каждый из R3a, R3b и R3c независимо выбран из водорода, галогена, ─CN, ─SR40, ─OR41, ─NR42aR42b, ─NR42aR42bH+, ─SO2R43 и ─(C=O)R44;
где каждый из R20, R21, R22a, R22b, R30, R31, R32a, R32b, R40, R41, R42a и R42b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R23 и R24, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR25, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR26aR26b;
где каждый из R25, R26a и R26b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R33 и R34, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR35, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR36aR36b;
где каждый из R35, R36a и R36b, при его наличии, независимо выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила;
где каждый из R43 и R44, при его наличии, независимо выбран из ─O-, ─OR45, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила, C1-C3 полигалогеналкила и ─NR46aR46b;
где каждый из R45, R46a и R46b, при его наличии, выбран из водорода, C1-C3 алкила, C1-C3 моногалогеналкила и C1-C3 полигалогеналкила; и
где по меньшей мере один Z представляет собой структуру, представленную формулой:
, и
где по меньшей мере один из R2a, R2b, R3a, R3b и R3c не представляет собой водород.
Наверх