Патенты автора ЛИ Йоунг Сеонг (KR)
Изобретение относится к способу изготовления многослойной подложки для светоизлучающего устройства. Способ содержит следующие этапы: (a) обеспечение стеклянной подложки, обладающей показателем преломления при 550 нм, составляющим 1,45-1,65, (b) нанесение покрытия в виде слоя оксида металла на одну сторону стеклянной подложки, причем оксид металла выбран из группы, состоящей из TiO2, Al2O3, ZrO2, Nb2O5, HfO2, Ta2O5, WO3, Ga2O3, In2O3 и SnO2 и их смесей, (c) нанесение покрытия в виде стеклофритты, обладающей показателем преломления при 550 нм от 1,70 до 2,20, на упомянутый слой оксида металла, причем упомянутая стеклофритта содержит, по меньшей мере, 30 мас.% и самое большее 75 мас.% Bi2O3, (d) отжиг полученной покрытой стеклянной подложки при температуре, составляющей 530-620°C. В результате отжига происходит взаимодействие оксида металла с плавящейся стеклофриттой и образование слоя эмали с высоким показателем преломления, с множеством сферических пустот, внедренных в нижний участок слоя эмали вблизи границы раздела со стеклянной подложкой. Технический результат – повышение качества поверхности затвердевшей эмали с высоким показателем преломления, без кратероподобных углублений, вызванных затвердевшими открытыми пузырьками. 2 н. и 10 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 табл., 1 пр.
ПРОЗРАЧНАЯ РАССЕИВАЮЩАЯ ПОДЛОЖКА ДЛЯ ОРГАНИЧЕСКИХ СВЕТОДИОДОВ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТАКОЙ ПОДЛОЖКИ // 2656261
Изобретение относится к прозрачной рассеивающей подложке для ОСД. Рассеивающая подложка включает следующие слои: прозрачная плоская подложка из неорганического стекла, имеющая показатель преломления от 1,45 до 1,65; шероховатый слой, имеющий низкий показатель преломления и содержащий неорганические частицы; выравнивающий слой из эмали, имеющий высокий показатель преломления, составляющий от 1,8 до 2,1. Неорганические частицы прикрепляются к одной стороне подложки посредством эмали. Неорганические частицы находятся вблизи или на поверхности эмали или выступают из нее, создавая поверхностную шероховатость, которую характеризует среднее арифметическое отклонение Ra, составляющее от 0,15 до 3 мкм. Неорганические частицы и эмаль одновременно имеют показатель преломления, составляющий от 1,45 до 1,65. Технический результат – повышение светового выхода подложки для ОСД. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 2 ил.
Изобретение относится к способу изготовления прозрачной рассеивающей подложки органического светоизлучающего диода (ОСИД), содержащему следующие последовательные этапы: (a) шлифование одной поверхности или обеих поверхностей плоской светопропускающей стеклянной подложки толщиной 0,1-5 мм абразивной суспензией для получения плоской стеклянной подложки по меньшей мере с одной шероховатой поверхностью, имеющей профиль шероховатости со среднеарифметическим отклонением Ra 0,1-2,0 мкм, предпочтительно 0,15-1,5 мкм, (b) покрытие шероховатой поверхности или одной из шероховатых поверхностей стеклоприпоем с высоким показателем преломления, обладающим показателем преломления предпочтительно 1,7-2,2, (c) нагрев покрытой подложки до температуры выше температуры плавления стеклоприпоя с высоким показателем преломления и ниже температуры размягчения нижележащей подложки для образования эмали с высоким показателем преломления на одной из шероховатых поверхностей. Количество стеклоприпоя является достаточным для полного покрытия профиля шероховатости шероховатой поверхности после расплавления упомянутого припоя. Технический результат изобретения – обеспечение более пологого профиля шероховатости поверхности подложки с возможностью изготовления подложки в ходе одного этапа как с внутренним, так и с внешним светоизвлечением, упрощение обработки светорассеивающих подложек. 3 н. и 12 з.п. ф-лы, 1 пр., 1 табл.
