Патенты автора Яковлев Владимир Борисович (RU)

Изобретение относится к области получения прозрачных энергосберегающих (теплоотражающих) пленок с защитным покрытием, используемых для энергосбережения, например, путем наклеивания их на любые виды остекления. Защитное покрытие состоит из полиэтилентерефталатной пленки и нанесенного на нее теплоотражающего спектрально-селективного покрытия. Защитное покрытие состоит из двух слоев и содержит адгезионно-барьерный слой и фторполимерный слой. Адгезионно-барьерный слой включает поливинилбутираль с УФ-абсорбером (наносеребро). Фторполимерный защитный слой включает сополимер трифторхловинила с винилбутиловым эфиром и моновиниловым эфиром этиленгликоля, изоцианатный отвердитель, УФ-абсорбер (тину вин) и полиметилсилоксан. Адгезионно-барьерный слой нанесен на теплоотражающее покрытие, а второй фторполимерный слой нанесен на адгезионно-барьерный слой. 3 табл., 13 пр.

Изобретение относится к химической дозиметрии ионизирующих излучений, а именно к цветовым визуальным индикаторам дозы ионизирующих излучений

Изобретение относится к химической дозиметрии ионизирующих излучений, а именно к цветовым визуальным индикаторам дозы ионизирующих излучений
Изобретение относится к расходным материалам для струйной печати, в частности материалу на гибкой полиэтилентерефталатной (ПЭТ) основе для печати на всех видах струйных принтеров (плоттеров), использующих чернила на водной или водоспиртовой основе
Изобретение относится к полиграфическим расходным формным материалам и может быть использовано для получения офсетных печатных форм
Изобретение относится к полиграфическим расходным материалам и может быть использовано для получения пленочных офсетных печатных форм

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности
Изобретение относится к составам композиций для регенерации сеткотрафаретных печатных экранов, полученных с помощью фоторезистов, и может быть использовано в полиграфической, электронной и радиотехнической промышленности

Изобретение относится к дозиметрии ионизирующих излучений, а именно к пленочным химическим дозиметрам ионизирующих излучений, и может быть использовано для измерения поглощенных доз гамма- и электронного излучений в радиационной технике и технологии, а именно при контроле процесса радиационной стерилизации изделий медицинского назначения, радиационной обработке лекарственных препаратов и продуктов питания (с целью увеличения сроков их хранения) и др
Изобретение относится к химико-фотографическим материалам, используемым для получения фотоформ - фотошаблонов с помощью лазерных гравировальных автоматов

 


Наверх