Патенты автора Дудин Юрий Аркадьевич (RU)

Изобретение относится к составной мишени для магнетронного распыления. Мишень содержит плоскую нижнюю базовую часть, изготовленную из первого компонента осаждаемого на подложку материала пленки, и как минимум одну размещенную на указанной нижней базовой части верхнюю накладную часть, изготовленную из второго компонента осаждаемого на подложку материала пленки и имеющую площадь распыляемой поверхности, обеспечивающую требуемую мольную долю этого компонента в составе осаждаемого на подложку как минимум двухкомпонентного материала пленки. Одна верхняя накладная часть размещена на рабочей поверхности нижней базовой части с возможностью смещения первой указанной части мишени относительно второй и настроечного изменения площади распыляемой поверхности указанной верхней накладной части. Мишень имеет проградуированное средство контроля указанного подбираемого смещения верхней накладной части. Технический результат изобретения состоит в повышении точности коррекции площади распыляемой поверхности верхних накладных частей, задаваемой площадками, занимаемыми последними в контуре кольцевой зоны распыления мишени, за счет обеспечиваемого геометрической формой каждой верхней накладной части изменения своей площадки, занимаемой последней в контуре зоны распыления мишени, при нормированном смещении каждой верхней накладной части. 4 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к магнетронному распылению составной мишени, выполненной из плоской нижней базовой части и, по меньшей мере, одной верхней накладной части мишени, изготовленных из двух компонентов осаждаемого на подложку материала пленки. Регулируют изменение площади поверхности распыления путем перемещения на плоской нижней базовой части мишени, по меньшей мере, одной верхней накладной части мишени с обеспечением при пересечении контура зоны распыления составной мишени упомянутой верхней накладной частью мишени изменения площадки, занимаемой последней в указанном контуре. Скорость указанного перемещения верхней накладной части мишени регулируют в зависимости от требуемого изменения состава осаждаемого на подложку двухкомпонентного материала пленки в направлении ее формирования. В результате обеспечивается управление качественным и экономичным осаждением на подложку многокомпонентного материала пленки. 5 з.п. ф-лы, 2 ил., 4 пр.

Изобретение относится к магнетронному распылению составной мишени с частями, изготовленными из отдельных компонентов осаждаемого на подложку материала пленки. Подготавливают тонкие плоские шаблоны, имеющие форму и соответствующую заданному изменению состава осаждаемого на подложку материала пленки площадь рабочих участков поверхностей распыления верхних накладных частей мишени, представляющих собой площадки, занимаемые ими в контуре зоны распыления. Указанные шаблоны размещают с их фиксацией на соответствующих указанных рабочих участках поверхностей распыления верхних накладных частей, последние затем поочередно перемещают на нижней базовой части мишени в контуре зоны распыления до совпадения площадок, занимаемых ими в контуре зоны распыления, с контурами соответствующих шаблонов, которые перед магнетронным распылением удаляют. Площадь указанных шаблонов для каждой верхней накладной части определяют в зависимости от суммарной площади поверхностей распыления нижней базовой части и верхних накладных частей мишени в пределах зоны магнетронного распыления. В результате чего расширяются технологические возможности. 3 ил.

Изобретение относится к настольным играм типа шахмат

Изобретение относится к машиностроению, в частности к обработке в вакууме поверхности металлических изделий путем воздействия на нее пучком ионов металлов, и может быть использовано в авиационной и газовой промышленности для поддержания оптимального сочетания элементного состава ионов и энергетического уровня воздействия при подготовке поверхности изделий, например компрессорных лопаток, к нанесению на них защитных покрытий, формировании модифицированного поверхностного слоя изделий, повышающего их эксплуатационные характеристики, а также проведении исследовательских работ в области ионно-плазменной технологии

 


Наверх