Оригиналы, имеющие неорганические слои для формирования изображения, например хромовые маски (G03F1/08)

G   Физика(403185)
G03F1/08                     Оригиналы, имеющие неорганические слои для формирования изображения, например хромовые маски ( G03F1/12 имеет преимущество)(2)
Способ получения фотошаблонных заготовок // 2319189
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к фотошаблонным заготовкам, предназначенным для получения шаблонов с последующей передачей рисунка микроизображения на полупроводниковую пластину при изготовлении интегральных схем.

Фотошаблонная заготовка // 2206115
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к фотошаблонным заготовкам, являющимся исходным материалом для получения шаблонов. .
 
.
Наверх