Механизм линейной юстировки

 

МЕХАНИЗМ ЛИНЕЙНОЙ ЮСТИРОВКИ, содержащий неподвижный корпус, платформу , сильфон, закрепленный одним концом на корпусе, а другим жестко связанный с платформой, регулировоЧг ные элементы со сферическими поверхностями и приводной элемент, кинематически связанный с контактной поверхностью платформы, отличающ н и с я тем, что, с целью повышения быстродействия, в него введен юстировочный диск с цилиндрическим выступом и эллиптической центральной прорезью, на боковой поверхности выступа вдоль большей оси .центральной прорези выполнено сквозное отверстие под приводной элемент, при этом выступ юстировочного диска расположен на соответствующем выступе корпусе соосно с платформой с возможностью вращения вокруг оси платформы , а контактная поверхность платформы выполнена сферической с диаметром , равным меньшей оси централь ной прорези юстировочного диска.

O9l OD

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСИИХ

РЕСПУБЛИК

3(5Ц С 12 В 1/00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ с

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3412892/18-21 (22) 26.03.82 (46) 30,06 83, Июл. Р 24 (72) С.M.Êèðèëëîâ, Н.М.Зайцев и

Ю.В.Васильчиков (53) 531.787 (088.8) (56) 1. Плотников В.С. и др. Расчет и конструирование оптикомеханических приборов. М., "Машиностроение", 1972. с. 143.

2. Авторское свидетельство СССР

В 438047, кл. G 12 В 5/00, 07.03.72. (54)(57) МЕХАНИЗМ ЛИНЕЙНОЙ IOCTHPOBKH, содержащий неподвижный корпус, платформу, сильфон, закрепленный одним концом иа. корпусе, а другим жестко связанный с платформой, регулировоч; ные элементы со сферическими поверхностями и приводной элемент кинематически связанный с контактной поверхностью платформы, о т л и ч а юшийся тем, что, с целью повышения быстродействия, в него введен юстировочный диск с цилиндрическим выступом и эллиптической цейтральной прорезью, на боковой поверхности выступа вдоль большей оси .центральной прорези выполнено сквозное отверстие под приводной элемент, при этом выступ юстировочного диска расположен на соответствующем выступе корпусе соосно с платформой с возможностью вращения вокруг осн плат формы, а контактная поверхность платформы выполнена сферической с диа- Я метром, равным меньшей оси централь ной прорези юстировочного диска. I

1026166

Изобретение относится к измерительной технике и может быть исполь- . зовано, например, для юстировки оптических деталей.

Известен механизм линейной юстировки, содержащий оправку с сеткой, 5 колвцо и четыре юстировочных винта, расположенных в одной плоскости по

- взаимно перпендикулярным осям (1).

Недостатком механизма является низкое быстродействие, обусловленное 0

tï необходимостью поочередной попарной манипуляции юстировочными винтами, а также возможностью рыв4 ов и уводов .Перемещаемого объекта.

Известен механизм линейной юсти- 15 ровки, содержащий неподвижный корпус, платформу, сильфон, закрепленный одним концом на корпусе, а другим жестко связанный с платформой, регулировочные элементы со сферичес. кими поверхностями и два приводных элемента, контактирующие с двумя взаимно перпендикулярными боковыми плоскостями платформы под.воздейст. вием составляющих усилий одной 25 пружины 2 .

Основным недостатком этого устройства также является низкое быстродействие, связанное с тем, что линейная юстиравка в нем производит- ся двумя приводными элементами, расположенными под углом 45 к направлению действия пружины, что обуславливает возникновение опрокидывающего момента при действии одного из приводных элементов. это приводит в своюЗ5 очередь к неравномерности процесса юстировки, возникновению рывков. Кроме того процесс линейной юстировки двумя приводными элементами сам по себе сложен и требует определенных,40 навыков исполнителя.

Цель изобретения - повышение быстродействия.

Для достиженияцели вмеханизм линей.. ной юстировки,содержащий неподвижный корпус, платформу, сильфон, закрепленный одним концом на корпусе, а другим жестко связанный с платформой,, регулировочные элементы со сферическими поверхностями и, приводной 50 элемент, кинематически связанный с контактной поверхностью платформы введен юстировочный диск с цилиндрическим выступом и эллйптической центральной прорезью, на боковой поверхности которого, вдоль большей оси центральной прорези, выполнено сквозное отверстие под приводной элемент, при этом выступ юстировочного диска расположен .на соответствующем выступе корпуса соосно с платформой с 60 возможностью вращения вокруг оси платформы, а контактная поверхность. платформы выполнена сферической, с диаметром равным меньшей оси центральной прорези юстировочного, диска., 65

На фиг. 1 представлена конструкция устройства; на фиг. 2 - разрез

A-A на фиг. 1.

Механизм линейной юстировки содержит неподвижный корпус 1, сильфон 2, закрепленный одним концом на неподвижном корпусе 1, а другим жестко связанный с платформой 3 с оптическим элементом 4,(зеркало, линза, светофильтр и т.д.), взаимодействующей с корпусом 1 посредством трех регулировочных элементов 5 со сферическими поверхностями, юстировочный диск 6 с прорезью 7 в центре в цилиндрическим выступом 8 на его периферии. На боковой поверхности диска 6 выполнено сквозное, отверстие

9 вдоль продольной оси прорези 7, в которое установлен приводной эле мент 10, например, приводной винт.

Юстировочный диск 6 установлен ци,линдрическим выступом 8 на соответствующем цилиндрическом выступе 11 корпуса 1 концентрично оптической оси (оси платформы) со свободой" вращения вокруг этой оси. Приводиой элЕмент 10 связан с контактной поверхностью 12 платформы 3, причем контактная поверхность,12 выполнена сферической, с диаметром сферы ., равным ширине М прорези 7 юстировочного диска 6 (фиг. 2) . При этом контактная поверхность 12 .установлена в прорези

7 и имеет возможность перемещения только. вдоль этой .прорези под действием приводного элемента 10.

Устройство работает следующим об" разом.

С помощью трех-регулировочных вин-. тов 5 сжимают сильфон 2,.тем самым как перемещают оптический элемент 4 вдОль оптической .оси, так и юстируют его по углу в любой плоскости относительно оптической оси.

Линейная же юстировка (в любом направлении в плоскости перпенди-. кулярной оптической оси) производится с помощью юстйровочного диска 6 и приводного элемента 10, для чего поворотом юстировочного диска

6 устанавливают на одной прямой точки фактического и теоретического расположения оптической оси, и оси приводного элемента 10 на оптическом элементе 4, причем приводной элемент 10 должен находиться со стороны точки фактического располо.жения оптической оси. Затем перемещением приводного элемента 10 смещают (вдоль прорези 7) фактическую точку оптической оси до совпадения ее. с точкой теоретической.

При этом силовое замыкание между платформой 3 и приводным элементом 10 обеспечивается упругими силами сильфона 2.

Преимущество предложенного механизма заключается в простоте и

1026166

Фиа. 2.

ВНИИПИ Эаказ 4565/42 Тираж 600 ПодПисное

Филиал ППП "Патент",. г. Ужгород, ул. Проектная,4 бйстроте юстировки, так как процесс юстировки состоит из двух последовательных движений поворота на определенный угол юстировочного диска и затем перемещения приводного элемента. 5

Таким образом, линейная юстировка осуществляется двумя последова тельными движениями и не сопровождается уводами и заеданиями механизма, что в конечном счете ускоряет и упрощает процесс линейной юстировки.

Механизм линейной юстировки Механизм линейной юстировки Механизм линейной юстировки 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к средствам защиты от излучений, а более точно к материалу для защиты от излучений, который предназначен для использования его в медицине, на производстве, в быту, а также для обеспечения электромагнитной совместимости радиоаппаратуры и приборов

Шкала // 2115149
Изобретение относится к циферблатам часов, к шкалам приборов и надписям, которые должны быть хорошо различимы при различных условиях освещения, например к номерам автомобилей и дорожным знакам

Изобретение относится к обеспечению электромагнитной совместимости радиоэлектронных и электротехнических средств

Изобретение относится к электротехнике

Изобретение относится к способам и устройствам защиты организма от нежелательного излучения, и может быть применено для защиты от вредного воздействия приборов - источников электромагнитных полей

Изобретение относится к способам и устройствам защиты организма от нежелательного излучения, и может быть применено для защиты от вредного воздействия приборов - источников электромагнитных полей

Изобретение относится к устройствам для охлаждения электронной аппаратуры и может быть использовано в геофизической сейсморазведке

Изобретение относится к вычислительной технике, а более конкретно к средствам защиты пользователей персональных и коллективных ЭВМ от вредного воздействия статического и переменного электрических полей, создаваемых мониторами ЭВМ на электронно-лучевых трубках

Изобретение относится к вычислительной технике, а более конкретно к средствам защиты пользователей персональных и коллективных ЭВМ от вредного воздействия статического и переменного электрических полей, создаваемых мониторами ЭВМ на электронно-лучевых трубках
Наверх