Катодный узел вакуумной электронно-плазменной плавильной печи

 

Катодный узел вакуумной электронно-плазменной плавильной печи, содержащий охлаждаемый катододержатель с токопроводами и катод, выполненный в виде полого цилиндра, внутри которого параллельно оси установлена трубка из термоэмиссионного материала, отличающийся тем, что, с целью снижения эрозии катода, указанная трубка установлена коаксиально цилиндру, а в зазоре между ними размещена тонкостенная гофрированная втулка из термоэмиссионного материала.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технической физике, может быть использовано для создания газовых мишеней в нейтрализаторах ионных пучков и является усовершенствованием изобретения по авт

Изобретение относится к области плазменной техники и может быть использовано для термической обработки цилиндрических поверхностей

Изобретение относится к электротехнике, а именно к устройствам для нагрева газов до высоких температур с помощью электрической дуги, и может быть использовано в плазмохимических, металлургических и металлообрабатывающих технологических процессах, в частности, для нанесения всевозможных покрытий, а также в исследовательских целях

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в различных технологических процессах, проводимых в поле электрического разряда, в частности при обработке порошков, газов, аэрозолей для целей плазмохимии, при сфероидизации и т.д

Изобретение относится к плазменной технике

Изобретение относится к плазменной технике, а именно к электроразрядным устройствам с жидкими электродами, и может быть применено в тех отраслях промышленности, где используются электрофизические способы обработки материалов, в частности оно может применяться для локального плазменно-электролитного нагрева металлов

Изобретение относится к огнеупорной промышленности, а именно к печам для плавки оксидных материалов, которые используются для производства высококачественных огнеупоров

Изобретение относится к области плазменной техники, а более точно к устройствам с косвенным нагревом дуговым разрядом, и может быть использовано как источник линейного теплового излучения при динамической плазменной обработке поверхностей неметаллических материалов, в частности электронных микросхем

Изобретение относится к способам формирования и регулирования тепловых параметров плазменной струи и энергетических характеристик плазмотрона и плазмотронам для их осуществления
Наверх