Устройство для проведения плазмохимических процессов

 

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ, содержащее реакционную камеру, нижний элект род, верхний электрод, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии, устройство для перемещения обрабатываемых пластин, отличающееся тем, что, с целью повыиения производительности плазмохимических процессов и упеличения выхода годных изделий, устройство для перемещения обрабатываемых пластин относительно нижне го электрода выполнено в виде группы вертикально расположенных штырей с возможностью возвратно-поступательного движения , на концах которых располагаются пластины, а в нижнем электроде выполнены отверстия для перемещения штырей.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИН

„„SU„„957746 (51)4 Н Н 42

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К ABTOPCHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Ю

11

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3265543/18-25 (22) 16.01.81 (46) 07.04.88. Бюл. и 13 (72) В.А.Сологуб, В.И.Иванов, 10.Н.Николаев, А.П.Медведев и О.П.ГУщин (53) 533.9 (088.8) (56) Новое в конструировании оборудования полупроводниковой промышленности. Электроника.,т. 50 М - 15 (5 15), 1 77, с. 35.

Патент США Ф 4033287, кл. 118-491, 1977 ° (54) (57) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ

ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ, содержащее реакционную камеру, нижний электрод, верхний электрод, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии, устройство для перемещения обрабатываемых пластин, о т— л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности плазмохимических процессов и увеличения выхода годных изделий, устройство для перемещения обрабатываемых пластин относительно нижнего электрода выполнено в виде группы вертикально расположенных штырей с возможностью возвратно-поступательного движения, на концах которых располагаются пластины, а в нижнем электроде выполнены отверстия для перемещения штырей.

957746

Изобретение поясняется чертежом, на котором изображено устройство

Составитель Ю.Мельников

Редактор Н.Сильнягина Техред М.Дидик Корректор В.Гирняк

Тираж 832 Подписное

ВПИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 3366

Производственно-полиграфическое предприятие, г. Ужгород, ул. 11р ектная, 4

Изобретение относится к технической физике и пременяется для проведения плазмохимических процессов.

Известно устройство для проведения плазмохимических процессов, содержащее реакционную камеру, верхний и нижний электроды, устройство для перемещения нижнего электрода с пластинами, систему подачи и отвода реак1О ционных газов. Недостатком этого устройства является неэффективное использование реакционных газов и низкое качество обработки иэ-за подтравливания образцов. Известно также уст15 ройство для проведения плаэмохимических процессов, содержащее реакционную камеру, нижний и верхний электроды, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии. Недостатком этого устройства является низкая

20 производительность плаэмохимических процессов и низкий выход годных из. делий.

Цель изобретения — повьппение про25 иэводительности плазмохимнческих процессов и увеличение выхода годных изделий.

Цель достигается тем, что в устройстве для проведения плазмохимических процессов, содержащем реакционную камеру, нижний электрод, верхний

"электрод, систему подачи и отвода реакционных газов, источник энергии, устройство для перемещения обрабатываемых пластин, последнее выполнено 35 в виде группы вертикально расположенных штырей с возможностью возвратно-поступательного движения, на концах которых располагаются пластины, а в нижнем электроде выполнены от- 40 верстия для перемещения штырей. для проведения плазмохимических процессов, содержащее реакционную камеру 1 с крышкой 2, нижний электрод 3 с выступом 4, верхний электрод 5 с токовводом 6, систему 7 подачи реакционных газов, систему 8 отвода реакционньгх газов (отверстия), устройство

9 для вертикального перемещения обрабатываемых пластин 10 со.штырями 11.

Устройство работает следующим образом. При помощи ступенчатого вращения нижнего электрода 3 загрузочными штырями 11 и их устройствами 9 обрабатываемые пластины 10 устанавливаются на месте обработки на выступе

4 нижнего электрода 3. Объем реакционной камеры 1 вакуумируется через систему (отверстия) 8, и через сопло системы 7 подачи в реакционную камеру 1 напускают реакционные газы. Через токовводы 6 на электрод 5 подается высокочастотная энергия, в результате чего между электродом 5 и электродом 3 возбуждается плазменный разряд. При этом, наряду с другими процессами, имеющими место в плазменном разряде (возбуждение и ионизация молекул и атомов), происходит образование химически активных радикалов, посредством которых осуществляется процесс плазмохимической обработки поверхности пластин 10, размещенных на электроде 3.

Меняя состав .газообразных реагентов, а также условия в реакционной камере 1 (давление, температуру), возможно осуществление процесса плазмохимического осаждения материалов.

Использование в устройстве подъемных штырей позволяет автоматизировать процесс загрузки-выгрузки обрабатываемых пластин, исключить загрязнение их оператором, т.е. повысить качество обработки.