Центрифуга для нанесения фоторезиста на пластину

 

(ЩОЗ СОВЕТСКИ)

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК дд 4 В 04 В 5/00

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н ABTOPGHOMY СВИДЕТЕЛЬСТВУ.1

ГОСУДАРСТБЕННЫИ КОМИТЕТ СССР

ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ (21) 3784493/28-13 (22) 29.08.84 (46) 15.02.86, Вюл. № 6 (72) Л.Ф.Востриков, В.А.Ларин, В.К.Лепетюха, В.В.Степанов и Н.Н.Федоров (53) 66.067.57(088.8) (56) Авторское свидетельство СССР № 751439, кл. В 04 В 5/00, 1978. (54)(57) ЦЕНТРИФУГА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ

ФОТОРЕЗИСТА НА ПЛАСТИНУ, содержащая сборник фотореэиста, оправку для закрепления пластины с каналом

ÄÄSUÄÄ 1210890 А для подвода вакуума, привод с электродвигателем и отражатель, отличающаяся тем, что, с целью повышения качества путем уменьшения попадания фоторезиста на обратную сторону обрабатываемой пластины, в сборнике фоторезиста на валу электродвигателя смонтирован стакан, снабженный на наружной поверхности винтовой спиралью, причем шаг спирали и ее высота составляют 0,1-0,15 диаметра стакана, а ширина 0,1-0,15 шага ее витка.

1210890

ЗО

4О

4з . 10

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий с помощьк центробежных сил и может быть использовано, в частности, для нанесе.-. ния светочувствительного слоя (фоторезиста) на полупроводниковые пластины при химической фотогравировке.

Цель изобретения — повышение качества путем уменьшения попадания фоторезиста на обратную сторону обрабатываемой пластины.

На чертеже схематично изображена центрифуга для нанесения фоторезиста на пластину.

Центрифуга содержит сборник 1 фо торезиста, установленный на плите 2.

В дне сборника l имеется сливной штуцер 3, в центре расположен электродвигатель 4 привода с валом 5, установленным с возможностью вращения в поцшипниках 6, на который наса жена оправка / для закрепления обрабатываемой пластины 8. Вал имеет канал 9 для подвода вакуума к пластине. На валу 5 электродвигателя установлен стакан 10.,на наружной поверхности которого имеется винтовая спираль 11. Внутри сборника 1 фоторезиста установлена подвижная в осевом направлении pampa 12„ сFIsiaaHная с направляющей 13, которая перемещается во втулке 14. На рамке 12

Закреплен съемнь)Й отрэжатель 15,Над справкой 7 с обрабатываемой пластиной 8 установлены сканирующие форсунки 16 для подачи, например,проявителя или деионизованной водь1., В сборнике 1 фоторезиста выполнено щелевидное окно 1/ для поцсоединения к вытяжному устройству.

Центрифуга работает следующим сбразом.

Пластину 9 укладывают на оправку

/ H годключают канчл 9 к Вак1Гкмнои сети„ Таким образом пластина 8 фиксируется на оправке 7, после чего рамка 12 с отражателем 15 поднимается в верхнее положение,. включается электродвигатель ч и производится подача проявителя сканированием,из форсунки 16 на поверхность пластины

8 с нанесенным шоторезистом. Сбрасываемые с поверхности обрабатываемой пластины 8 под действием центробежных сил излишки проявителя отбрасываются отражателем 15 на периферийные участки сборника фоторезиста, вращающаяся пластина 8 увлекает частицы паровоздушной смеси, заполняющей объем сборника 1, приводя его в круговое движение, направленное по спирали вниз к днищу сборника 1, где происходит вытяжка. По истечении определенного ьремени отключают форсунку 16 и электроцвигатель ч, прекращается подача вакуума на оправку 7, рамка 12 с отражателем 15 опускается в нижнее положение, и пластина 8 передается на следующую операцию.

Пример. Кремниевая пластина диаметром 125 мм с нанесенным слоем фоторезиста укладывалась на оправку, под которой соосно ей был размещен цилиндрический корпус из дюралюминия диаметром 125 мм с выступами, навитыми по спирали. Шаг навивки и высота изменялись в пределах 0,08-0,2 дчаметра корпуса, ширина выступа — в пределах 0,08-0,2 шага навивки. Плас-,èíà приводилась во вращение со скоростью 500 об/мин и на нее подавался проявитель . По истечении времени определяемого техпроцессом, пластина останавливается. Определялась чистота обратной стороны обрабатываемой поверхности с помощью микроскопа типа Ыь1а по количеству светящихся точек.

В таблице представлены результаты испытаний.

Из таблицы следует, что наименьшее количество загрязнений (наименьщее количество светящихся точек) соответствует наличию в центрифуге

<орпуса со спиралеобразным выступом под вращающейся пластиной, шагу навивки и высоте выступа в пределах 0,1-0,15 диаметра корпуса, а ширине выступа в пределах 0,1-0,15 шага навивки. При значениях шага навивки, высоты и ширины выступа меньших и больших указанных загряз— пения обратной стороны пластины увеличиваются, †:.e. цель изобретения не достигается.

Таким образом, предлагаемая центрифуга позволяет снизить загрязнения обратной стороны пластины, поэтому на последующей операции не загрязняются Tpaâèòåëè и рабочие .поверхности оборудования, что приводит к снижению брака на этих операциях H повып.ению процента выхода годных пластин на последующих операциях фотолитографии.

1210890

Ширина выступа, мм

Шаг навивки, высота выступа, мм

Количество светяДиаметр, мм пластины корпуса щихся то чек на обратной стороне пластины после обработки

125

1,0

125

125

12,5

1,3

2,7

125

125

50

100

125

125 б0 и более

Корпус

Заказ 576/11 Тираж 518 Подписное

BHHHIIH Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д.4/5 к

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Составитель В.Деханов

Редактор Т.Парфенова Техред О.Неце Корректор T.Êîëá