Способ нагрева плазмы до релятивистских температур, включающий создание и удержание первоначально холодной плазмы в статических магнитных полях открытых ловушек, последующий нагрев плазмы под воздействием электромагнитного СВЧ-поля в режиме электронного циклотронного резонанса, отличающийся тем, что, с целью увеличения КПД нагрева плазмы, нагрев плазмы осуществляют при одновременном воздействии электромагнитного СВЧ-поля и меняющегося во времени импульсного магнитного поля, дополнительно наложенного на статическое магнитное поле открытой ловушки, причем скорость нарастания дополнительного магнитного поля и амплитуда напряженности СВЧ-поля связаны соотношением где - частота СВЧ-поля; B(t) - мгновенное значение дополнительного импульсного магнитного поля; Е - амплитуда электрического СВЧ-поля; B = , m, e - масса и заряд электрона; с - скорость света в вакууме.
Похожие патенты:
Изобретение относится к физике плазмы и исследованиям по управляемому термоядерному синтезу и может быть использовано при конструировании и наладке тороидальных магнитных систем,
Изобретение относится к области ускорительной техники
Изобретение относится к технике получения и управления плазмой и может быть использовано в импульсных лазерах
Изобретение относится к области ускорительной техники, в частности к индукционным ускорителям электронов и может быть использовано для целей Изобретение относится к области ускорительной техники, а именно к индукционным ускорителям электронов - бетатронам, и может быть использовано для целей технологической обработки изделий тормозным излучением
Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др
Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента
Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую
Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки