Способ определения заряда мелкодисперсных частиц в плазме, включающий введение в равновесную плазму мелкодисперсных частиц с заданной концентрацией Nn, размещение измерите6льного электрода вне исследуемой плазмы, измерение наведенного электрического заряда на измерительном электроде и определение заряда мелкодисперсных частиц по зависимости величины наведенного заряда от параметров плазмы, отличающийся тем, что, с целью упрощения методики и повышения точности определения величины заряда мелкодисперсных частиц, до ввода мелкодисперсных частиц в плазму измеряют спектр собственного электромагнитного излучения плазмы, определяют по нему электронную плазменную частоту fp1 и температуру плазмы Т1, затем вводят в плазму частицы и измеряют спектр собственного электромагнитного излучения плазмы с частицами, по которому определяют электронную плазменную частоту fp2 и температуру Т2, и по значениям плазменных частот fp1 и fp2 и температур Т1, Т2 определяют величину и знак заряда мелкодисперсных частиц в плазме по формуле 
где fp1 - электронная плазменная частота плазмы без частиц; fp2 - электронная плазменная частота плазмы с частицами; Т1 - температура плазмы без частиц; Т2 - температура плазмы с частицами; m - масса электрона; е - заряд электрона; Nн - концентрация частиц; U - потенциал ионизации плазмообразующего газа;
К - постоянная Больцмана.
Похожие патенты:
Изобретение относится к физике плазмы
Изобретение относится к ускорительной технике
Изобретение относится к сильноточной электронике
Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано при разработке бетатронов повышенной интенсивности, используемых в радиальной технологии
Изобретение относится к генераторам и ускорителям плазмы.эрозионного типа и может быть использовано в физических исследованиях и технологических процессах нанесения покрытий
Изобретение относится к области диагностики высокотемпературной плазмы
Изобретение относится к области плазменных ускорителей и может быть использовано для получения потоков плазмы высокой энергии
Изобретение относится к дуговым устройствам, используемым для нагревания газов до высоких температур, и может применяться в плазмохимических, металлургических и металлообрабатывающих технологических процессах
Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др
Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента
Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую
Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
