Катодный узел электродугового плазматрона

 

Изобретение относится к дуговым устройствам, используемым для нагревания газов до высоких температур, и может применяться в плазмохимических, металлургических и металлообрабатывающих технологических процессах. Предложение обеспечивает расширение области использования катода на режимы с большой мощностью стационарно горящей дуги и увеличение ресурса работы катода. Термоэмиссионные вставки из тугоплавкого эмиссионного материала, например гафния, расположены в корпусе цилиндрического охлаждаемого катода на расстояниях не менее 2,5 диаметра вставки в ряду, перпендикулярном оси катода, а сами ряда, число которых 3 6, располагаются на расстоянии 2,5 3 диаметров вставки. При работе дуга расщепляется по вставкам, нагревая их. При указанных расстояниях поля температур, образуемые вокруг вставок в охлаждаемом корпусе, перекрываются незначительно, и температура каждой отдельной вставки устанавливается на уровне, при котором величина эрозии на два порядка ниже, чем в катоде прототипа. Это позволяет повысить ресурс и перейти на работу дуги с большей мощностью. 2 ил.

Изобретение относится к дуговым устройствам (плазматронам), используемым для нагрева газов до высоких температур, и может применяться в плазмохимических, металлургических и металлообрабатывающих технологических процессах. Целью изобретения является расширение области использования катода на режимы с большей мощностью стационарно горящей дуги и увеличение ресурса работы катода. На фиг. 1 представлено расположение вставок в корпусе катода; на фиг.2 схематически изображен вариант плазматрона, в котором используется предлагаемый катод. Катодный узел содержит медный охлаждаемый корпус 1, представленный в виде развертки, в котором заподлицо расположены вставки 2 из тугоплавкого термоэмиссионного материала, например гафния, циркония или вольфрама, диаметром dк. Вставки могут располагаться вдоль оси как в линию, так и в шахматном порядке. Расстояние между рядами (2,5-3)dк, а в ряду вставки располагаются на расстоянии не менее 2,5dк. Число рядов может быть увеличено при возрастании мощности разряда. Устройство работает следующим образом. При подаче напряжения в катоде (корпусе) 1 зажигается дуга 3, расщепленная по отдельным вставкам 2. Закрученный поток рабочего газа подается в полость катода между его корпусом и выходным соплом 4 и стабилизирует дугу 3 на оси катода. Анодом разряда может служить обрабатываемая деталь 5. На эмиссионную вставку при работе поступает тепловой поток, который вызывает разогрев вставки. При этом в корпусе 1, в зоне расположения вставки 2, устанавливается некое поле температур. При близком расположении вставок, например, не превышающем dк, температурные поля соседних вставок перекрываются, оказывая влияние друг на друга. При этом повышается температура рабочей поверхности вставки и увеличивается ее эрозия, снижая ресурс. В режиме с бегущей дугой подвод тепла к вставке является пульсирующим, и за время паузы температура вставки успевает снизиться до величины, при которой средний уровень температур недостаточен для значительной эрозии. Экспериментально получено, что для стационарно горящей дуги расстояние между вставками не должно быть меньше 2,5dк, а расстояние между рядами должно составлять (2,5-3)dк. В этом случае не наблюдается нарушения стабильного горения дуги при случайных глубоких флюктуациях расхода газа и тока дуги и более чем на два порядка снижается эрозия термоэмиссионных вставок.

Формула изобретения

КАТОДНЫЙ УЗЕЛ ЭЛЕКТРОДУГОВОГО ПЛАЗМАТРОНА, содержащий медный водоохлаждаемый цилиндрический корпус, снабженный пояском, выполненным в виде установленных заподлицо с рабочей поверхностью корпуса цилиндрических вставок из тугоплавкого материала, термоэмиссионная способность которого выше термоэмиссионной способности материала корпуса, расположенных в виде рядов, отличающийся тем, что, с целью расширения области использования катода в режимах с большей мощностью стационарно горящей дуги и увеличения ресурса работы катода, вставки в рядах расположены на межосевом расстоянии не менее 2,5 их диаметра, а сами ряды удалены друг от друга на 2,5 3 диаметра вставки.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 36-2000

Извещение опубликовано: 27.12.2000        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к физике плазмы и исследованиям по управляемому термоядерному синтезу и может быть использовано при конструировании и наладке тороидальных магнитных систем,

Изобретение относится к технике получения и управления плазмой и может быть использовано в импульсных лазерах

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в вакуумных сильноточных электроразрядных устройствах технологического назначения, например для нанесения покрытий

Изобретение относится к области плазменной техники и управляемого термоядерного синтеза и может быть использовано для получения высокотемпературной плазмы с целью изучения ее свойств, а также с целью генерации нейтронного излучения

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх