Устройство для нанесения пленок аморфного гидрогенизированного кремния

 

1. Устройство для нанесения пленок аморфного гидрогенизированного кремния, содержащее магнитную систему, вакуумную систему, подложкодержатель, источник высокочастотной энергии и резонатор с отрезками запредельных волноводов, отличающееся тем, что, с целью увеличения скорости осаждения пленок при уменьшении энергозатрат на поддержание магнитного поля и повышения коэффициента использования исходного материала путем создания в резонаторе плазмы с плотностью выше критической и поддержания ее в условиях верхнегибридного резонатора, устройство дополнительно содержит диэлектрическую вакуумную трубу, охватываемую резонатором, расположенную соосно с последним, и коаксиальные относительно вакуумной трубы электропроводящие цилиндры с наружным диаметром, меньшим внутреннего диаметра диэлектрической трубы на величину зазора, определяемого температурными коэффициентами расширения материалов трубы и цилиндра, а диаметр трубы больше диаметра подложки.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что магнитная система, вакуумная система, подложкодержатель и электропроводящие цилиндры расположены симметрично резонатору.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области электротехники и может быть использовано для плазменной обработки поверхностей диэлектрических мгпериялпн с целью получения низкоспрбииоиимх защитно-декоративных покрытий, Цолью изобретения является обеспечемиг рляномёрности перемещения дугояого рязряда с заданной скоростью электродов

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано при разработке индукционных ускорителей с азимутальной вариацией управляющего магнитного поля

Изобретение относится к ускорительной технике и может быть использовано для повышения эффективности вьшода частиц из ускорителя, улучшения качества растянутого пучка СП

Изобретение относится к области ускорительной техники

Изобретение относится к технической физике, плазменным установкам , ускорителям плазменных и, перпендикулярных потоков

Изобретение относится к прикладной ядерной физике и может быть использовано для получения информации о содержании и плотности отдельных ионных компонент высокотемпературной плазмы

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к устройствам для ускорения заряженных частиц, и может быть использовано, в первую очередь, для обработки высокоэнергетическими плазменными потоками металлических поверхностей с целью повышения таких их характеристик как чистота поверхности, микротвердость, износостойкость, коррозионная стойкость, жаростойкость, усталостная прочность и др

Изобретение относится к системам тепловой защиты из огнеупорного композитного материала, которые охлаждаются потоком жидкости, и более точно касается конструкции тепловой защиты для отражателя камеры удерживания плазмы в установке термоядерного синтеза, охлаждающего элемента, который использован в конструкции тепловой защиты, и способа изготовления такого охлаждающего элемента

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для получения электрической энергии путем преобразования тепловой энергии плазмы в электрическую

Изобретение относится к области технологии очистки и обезвреживания отходящих газов, газовых выбросов различных производств и процессов, а также плазмохимического синтеза химически активных соединений с использованием электрических методов, в частности к устройству газоразрядных камер, в которых производят процесс детоксикации и очистки
Наверх