Способ получения пленок фосфоросиликатного стекла

 

Изобретение относится к химическому осаждению диэлектрических пленок из газовой фазы на подложки и может быть использовано для создания изолирующих и пассирующих пленок в производстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. С целью улучшения качества пленок за счет стабилизации содержания в них фосфорного ангидрида парогазовую смесь, состоящую из моносилана, кислорода, аргона и триметилфосфата состава, моносилан 2,0 8,0; кислород 5,0 50,0; триметилфосфат 0,02 - 2,0; аргон остальное, пропускают над подложками, нагретыми до температуры 200 500°С в реакторе пониженного давления, причем пары триметилфосфата вводят по трубке в горячую зону реактора, пары моносилана и кислорода в холодную зону реактора. 1 ил. 1 табл.

Изобретение относится к технологии химического осаждения диэлектрических пленок из газовой фазы на подложки и может быть использовано для создания изолирующих и пассивирующих пленок в производстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Цель изобретения повышение качества пленок за счет стабилизации содержания в них фосфорного ангидрида. На чертеже представлена схема устройства для реализации данного способа. Подложки 1 кремния диаметром 100 мм в количестве 50 шт помещают на кварцевой лодочке 2 вертикально на расстоянии 18 мм друг от друга и загружают в рабочую зону цилиндрического реактора 3 пониженного давления, обогреваемого электропечью 4. В рабочей зоне реактора установлен температурный градиент 0,66оС/см для выравнивания скорости осаждения по длине реактора. По обе стороны лодочки с подложками размещаются полые кварцевые обтекатели 5, имеющие диаметр, равный диаметру подложек, с помощью которых стабилизируется температура в рабочей зоне реактора и предотвращается возможность протекания нежелательных реакций в газовой фазе с образованием мелкодисперсного порошка двуокиси кремния. Реактор герметизируется с помощью крышки 6 на шлюзе 7, откачивается вакуумным насосом 8 до давления 2,6 Па, продувается аргоном в течение 15 мин при давлении 120 Па. После этого производятся сброс реагентов через натекатели 9, клапаны 10, расходомеры 11 в байпасную линию 12, корректировка расходов газов и их напуск в реактор через линии 13, 14, 15. Подача паров триметилфосфата осуществляется по трубке 16 из барботера 17 в горячую зону реактора на расстояние 25 см от лодочки с подложками. В реакторе с помощью регулятора 18 скорости откачки устанавливается необходимое давление и в течение заданного времени проводится осаждение пленки фосфорсиликатного стекла. В таблице приведены конкретные примеры выполнения изобретения при различных режимах процесса. Данный способ получения пленок фосфорсиликатного стекла повышает качество пленок за счет улучшения воспроизводимости концентрации фосфорного ангидрида в пленках.

Формула изобретения

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК ФОСФОРОСИЛИКАТНОГО СТЕКЛА путем нагрева подложки до 200-500oС и осаждения пленок из парогазовой смеси, состоящей из моносилана, кислорода, триметилфосфата и аргона, с откачкой продуктов реакции со стороны, противоположной вводу смеси, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества пленок за счет стабилизации содержания в них фосфорного ангидрида, осаждение ведут при пониженном давлении из смеси состава, об. Моносилан 2,0-8,0 Кислород 5,0-50,0 Триметилфосфат 0,02-2,0 Аргон Остальное причем пары триметилфосфата подают в горячую зону реактора, моносилан и кислород в холодную.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3



 

Похожие патенты:
Изобретение относится к волоконной оптике, в частности к технологии изготовления труб из кварцевого стекла методом наружного парофазного осаждения для получения волоконных световодов
Глазурь // 2309903
Изобретение относится к составам фриттованных глазурей, используемых в производстве облицовочной плитки

Изобретение относится к способу полного сгорания и окисления минеральной фракции сгораемых отходов в аппарате прямого сжигания и застекловывания

Глазурь // 2599895
Изобретение относится к составам глазурей. Технический результат - повышение термостойкости глазури. Глазурь содержит, мас.%: SiO2 52,0-56,0; Al2O3 7,0-9,0; TiO2 0,1-0,15; CaO 2,0-5,0; MgO 1,0-3,0; B2O3 16,8-17,8; K2O 2,0-3,0; SrO 3,9-4,6; ZnO 4,0-5,0; HfO2 0,5-1,0; ZrO2 2,5-3,5. 1 табл.

Глазурь // 2609501
Изобретение относится к составам глазурей. Технический результат изобретения заключается в повышении морозостойкости глазури. Глазурь содержит, мас.%: SiO2 40,0-50,2; Аl2O3 10,0-13,0; В2O3 16,5-23,0; ZnO 4,5-7,3; Na2O 3,0-5,0; ZrO2 4,2-8,5; SrO 2,5-5,0; ВеО 1,0-2,0; SnO2 1,0-2,0. 1 табл.

Изобретение относится к способам нанесения теплоотражающих покрытий на стекло напылением в вакууме
Изобретение относится к способу легирования материала, включающему образование на поверхности материала, подлежащего легированию, реакционноспособных групп, нанесение по меньшей мере одного слоя легирующей добавки или части слоя легирующей добавки на поверхность материала, подлежащего легированию, и/или на поверхность его части или частей методом послойного атомного осаждения (методом ALD), и дополнительную обработку материала, покрытого легирующей добавкой, таким образом, что первоначальную структуру слоя легирующей добавки изменяют с получением новых свойств легированного материала

Изобретение относится к металлизации поверхностей твердых тел, в частности получения алюминиевых пленок на различных твердых материалах, например, на стекле, металле, керамике и т

Изобретение относится к вакуумному нанесению покрытий, а именно к нанесению электропроводящего прозрачного покрытия на полимерную пленку для электрообогреваемого элемента органического остекления. Проводят реактивное магнетронное распыление металлической мишени в атмосфере газовой смеси инертного и реактивного газов с осаждением упомянутого покрытия на полимерную пленку. В качестве металлической мишени используют мишень из сплава индия и олова. На полимерную пленку проводят осаждение покрытия из оксида индия, легированного оловом, с постоянной скоростью, которую обеспечивают за счет поддержания постоянной разницы между величинами суммарного давления упомянутой газовой смеси до начала реактивного магнетронного распыления металлической мишени и суммарного давления газовой смеси в процессе осаждения покрытия. Причем указанную разницу поддерживают постоянной путем регулирования расхода реактивного газа, в качестве которого используют газ, выбранный из группы, включающей кислород, воздух и углекислый газ. Обеспечивается уменьшение разброса оптико-физических характеристик электропроводящего прозрачного покрытия при высоком светопропускании и снижение удельного сопротивления. 1 табл., 8 пр.
Наверх