Способ изготовления оптического узла газового лазера

 

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в производстве активных элементов газовых лазеров. Цель изобретения - повышение выхода годных изделий и увеличение производительности - достигается путем более точного центрирования держателя относительно подложки зеркала и точного дозирования стеклоцемента в зазор между держателем и подложкой. Устройство, реализующее способ, содержит приемник 1 эжектора, эжектор 5 и микродозатор 7« Способ позволяет за счет повышения качества наиболее массового прибора увеличить выход годных изделий на 5-10% при повышении надежности узла и производительности труда примерно в десять раз. 2 ил. с $

0103 СОВЕТСНИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСПУБЛИК

„,SU„„1547655 А I (51} 5 Н 01 S 3/22

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Н А ВТОРСКОМ У СВИДЕТЕЛЬСТВУ

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЬЗТИЯМ

ПРИ ГННТ СССР I (46) 07.08.92. Бюл, I" 29 (21) 4321185/21 (22) 18.08.87 (72) Л.Н.Беглова, В.А.Грачев, A.È.Кодь1лев, Ф.В.Коваленко> Р,Р,Корбецкий и В.В.Хлыстов (53) 621.373.826(088.8) (56) Патент CIHA "" 4 153317, кл, 316-19, 1979 °

Патент СИА Ю 3414465, кл. 161-193, 1968 ° (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОПТИЧЕСКОГО

УЗЛА ГАЗОВОГО ЛАЗЕРА (57) Изобретение относится к электронной 1ехнике и может быть использовано в производстве активных элементов га"

Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано в производстве активных элементов газовых лазеров.

Целью изобретения является повышение выхода годных и увеличение производительности, которая достигается за счет более точного центрирования держателя отногительно подложки зеркала и точного,. озирования стеклоце" мента в зазор между держателем и подложкой.

На Фиг,1 изображено устройство, реализующее способ, общий еид, на

Фиг.2 - место 1 на Фиг. I.

Способ осуществляют следующим образом.

В приемник 1 эжектора устанавлива" ют и герметично соединяют с ним собранные в обойме 2 держатель 3 и под.ложку 4 зеркала. Включают эжектор 5.

2 зовых лазеров, Цель изобретения — повышение выхода годных изделий и увеличение производительности — достигается путем более точного центриро" вания держателя относительно подложки зеркала и точного дозироеания стеклоцемента в зазор между держателем и подложкой. Устройство, реализующее способ> содержит приемник 1 эжектара, эжектор 5 и микродоэатор 7. Способ позволяет за счет повышения качества наиболее массового прибора увеличить выход годных изделий на 5-10> при повышении надежности узла и производительности труда примерно в десять раз.

2 ил. вследгтеие чего в приемнике эжектора создают перепад давлений в (1,33-4,65). 10" Па, центрируют рабочую по. верхность подложки относительно держателя в посадочном месте приемника. эжектора, В зазор между подложкой 4 и держателем 3 вводят иглу 6 микродозатора 7, не доводя иглу до нижней стенки держателя на 0,2-0,5 мм, приводят во вращение приемник эжектора вместе с оптическим узлом. Включают микродозатор на время, необходимое для одного оборота узла, и подают стеклоцемент 8 в зазор под давлением (20-50} 10 Па, после чего эжектор отключают.

Массу ш вводимого стеклоцемента выбирают из эмпирического выражения

= (116 + (-146)Р + (-8631С +

+ 941P С + 4P + 1118сг) S t> где P - давление в микродозатере, Па

1547655

S - площадь поперечного сечения,: струи раствора стеклоцемента, подаваемой микродозатором, мм2, 5

С - концентрация раствора стеклоцемента, время дозирования, с, После дозирования стеклоцемента оптический узел подсушивают при тем- 10 пературе 50-200 С в течение 5-30 мин.

Пример выполнения способа.

Подложку зеркала диаметром 7 мм и высотой 5 мм малогабаритного оптического узла газового лазера выполняли из оптического стекла К-8, держатель из сплава 47НА диаметром 9,2 мм, высотой 4 мм, Для герметизации использовали стеклоцемент марки СЦН-84-2.

Устанавливали держатель в обойму и 20 вставляли в держатель подложку. Собранный узел устанавливали в приемник эжектора, Включали эжектор, создавали разрежение с перепадом давлений

26,6 кПа и. центрировали рабочую поверхность подложки относительно держателя в приемнике эжектора . Между подложкой зеркала и держателем вводили иглу микродоэатора и устанавливали на расстоянии 0,2-0,5 мм от поверхности держателя. Вращая с постоянной скоростью приемник эжектора с узлом, дозировали за один оборот -стеклоцемент путем создания давления в микродоэаторе. В соответствии с Формулой вводили стеклоцемент массой 57 g 3 мг З5

Диаметр иглы доватора составил

0,35 мм, а давление s микродозаторе "

260 кПа, 1(онцентрация раствора (отношение

40 биндера к стеклоцементу) составляла 6:1.

После заполнения зазора выводили иг" лу микродоэатора и отсоединяли приемник эжектора от корпуса эжектора.Оптический узел вместе с приемником передавали на сушку, которую проводили при температуре 120"C в течение 20 мин. Узел приобретает достаточную механическую прочность, его снимают с приемника эжектора и отправляют на спекание, Способ позволяет за счет повышения качества наиболее массового прибора увеличить выход годных на 5-103 при повышении надежности узла и производителькости труда примерно в 10 раэ.

Формула изобретения

Способ изготовления оптического узла газового лазера, включающий сборку цилиндрического держателя с подложкой зеркала, нанесение на их соединяемые поверхности раствора стеклоцемента, спекание, нанесение отражающего покрытия, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью повышения выхода годных и увеличения производительности, перед нанесением раствора стеклоцемента создают разрежение, равное (1,33-4,65) ° 10 Па, в зазоре между цилиндрическими поверхностями держателя и подложки, в который для нанесения раствора стеклоцемента вводят иглу микродозатора, обеспечивают совместное вращение держателя и подложки вокруг оси, дозируют стеклоцемент с расстояния 0,2-0,5 мм от нижней стенки держателя эа время, соответствующее одному обороту, и выдерживают узел 5-30 мин при 50-200 С, причем массу дозы стеклоцемента выбирают из выражения ш = (116 + (-146) ° Р + (-863)С +

+ 94 1Р с + 4Р2 + 1118с2)8 и (мг), где Р, - давление раствора стеклоце" мента в микродозаторе, Па;

S - площадь поперечного сечения струи раствора стеклоцемента, подаваемой микродозатором, мм2 °

С - концентрация раствора стеклоцемента, t - время дозирования, с.

Редактор Т.Лошкарева

Соста витель В.Псаломщиков

Техред H.ÕîäàHè÷ Корректор С.йекмар

Заказ 3469 Тираж Подписное

BHHHIIH rocyaapcT8eHHoro комитета по иэобретениям и открытиям при rKHT CCcp

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

««««««

Проиэводственно-издательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул. Гагарина, 10 t

Способ изготовления оптического узла газового лазера Способ изготовления оптического узла газового лазера Способ изготовления оптического узла газового лазера 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к обл.&.с.-и квантовой электроники и может бьп ь использовано нри разработке лазеров на парах веществ

Изобретение относится к области квантовой электроники, более конкретно , к плазменным источникам когерентного излучения с рабочими длинами волн в диапазоне вакуумного ультрафиолета и мягкого рентгена

Изобретение относится к квантовой электронике, в частности к конструкциям ионных лазеров

Изобретение относится к области квантовой электропики и может быть использовано при разработке лазерных смесей для электроионизационных непрерывных и импульсно-периодиче ските СО -лазеров

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при разработке газовых лазеров на парах химических элементов

Изобретение относится к области квантовой электроники, а именно к газоразрядным проточным лазерам с замкнутым контуром непрерывного и импульсно-периодического действия

Изобретение относится к лазерному оборудованию, а точнее к устройству газообмена электрозарядного CO2-лазера

Изобретение относится к лазерной технике и может использоваться в системах лазерной локации, связи, обработки, передачи и хранения информации, а также при создании лазерных технологических установок для высокоточной обработки материалов

Изобретение относится к лазерной технике, а именно к быстропроточным газоразрядным лазерам, и может быть использовано при создании технологических газовых лазеров

Изобретение относится к квантовой электронике, более конкретно к газоразрядным СО-лазерам, генерирующим излучение на переходе первого колебательного обертона, и может быть использовано при создании технологических лазеров

Изобретение относится к области лазерной техники, а более конкретно - к области мощных газовых лазеров

Изобретение относится к лазерной технике

Изобретение относится к лазерной технике и может использоваться при производстве молекулярных газовых лазеров с высокочастотным возбуждением для систем лазерной локации и связи, а также при создании лазерных технологических установок для высокоточной обработки материалов и медицинской техники

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при производстве лазеров непрерывного действия на парах металлов
Наверх