Способ получения пленочного фоторезиста

 

Способ получения пленочного фоторезиста путем смешения водного раствора поливинилового спирта с водной поливинилацетатной дисперсией, введения смачивателя, красителя, полива полученной композиции на полиэтилентерефталатную основу и сушки, отличающийся тем, что, с целью повышения светочувствительности, повышения выделяющей способности и резкости края элемента изображения, в поливинилацетатную дисперсию дополнительно вводят олигомер общей формулы I где R - -O-(CH₂CH₂O)₃, -OCH₂CH₂OCOOCH₂CH₂ OCOOCH₂CH₂O-, -OCH₂CH₂O COOCH₂CH₂ OCH₂CH₂OCOOCH₂CH₂O, и фотоинициатор - 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон, при этом композиция имеет следующее соотношение компонентов, мас.ч.: Поливиниловый спирт - 14 - 30 Поливинилацетатная дисперсия - 60 - 116 Олигомер формулы I - 5 - 50 2,2-Диметокси-2-фенилацетофенон - 0,1 - 2,5 Смачиватель - 0,5 - 2,0 Краситель - 0,05 - 0,5
Вода - До вязкости по вискозиметру В3-4 35-49 с