Источник ионов газов

 

Изобретение предназначенное для получения интенсивных пучков газов и может быть использовано для ионнолучевой технологии в вакууме. Цель - увеличение электрической экономичности и эффективности источника путем снижения расхода газа для запуска источника и увеличения площади эмиссионной поверхности с равномерным распределением плотности тока ионов. Для этого стенка с контрагирующим отверстием d2 выполнена в виде изолированного электрода-отражателя, а на полый катод диаметром d1 со стороны анода установлена диафрагма с осевым отверстием диаметров, равным при этом отражатель и диафрагма являются полюсами магнитной системы, между которыми введен дополнительный анод в виде полого тела вращения. 1 ил.

Изобретение относится к устройствам для получения интенсивных пучков ионов газов и может быть использовано для ионно-лучевой технологии в вакууме. Целью изобретения является увеличение электрической экономичности и эффективности источника ионов путем снижения расхода газа при запуске источника и увеличения площади эмиссионной поверхности с равномерным распределением плотности тока ионов. На чертеже схематично изображен источник ионов. Он содержит анод 1 и полый катод, образованный диафрагмой 2 с осевым отверстием диаметром d, полым цилиндром 3 диаметром d1 и противоположным аноду перфорированным эмиссионным электродом 4. Между полым катодом и анодом установлены электрод-отражатель 5 с осевым контрагирующим отверстием диаметром d2 и дополнительный полый анод 6. Ферромагнитные диафрагма 2 и отражатель 5 совместно с дополнительным анодом 6 и катушкой электромагнита 7 образуют ячейку Пеннинга. В эмиссионном 4 и ускоряющем 8 электродах выполнены соосные отверстия, которые образуют многоапертурную ионно-оптическую систему. Напуск ионнообразующего газа в разрядный промежуток осуществляется через каналы в анодах 1 и 6 от отдельных регулируемых натекателей. Диэлектрические кольца 9-12 служат одновременно для электрической изоляции между электродами и для герметизации разрядной камеры. Откачка разрядной камеры осуществляется через апертуры ионно-оптической системы. Отбор ионов в пучок, как следует из рисунка, осуществляется с катодной стороны разрядной камеры. Отражатель 5 и дополнительный анод 6 подключены через резисторы R1 и R2 к полому катоду и аноду соответственно. Источник ионов работает следующим образом. Устанавливается напуск ионнообразующего газа через аноды, чтобы давление в ячейке Пеннинга составляло не менее 0,1 Па. После подачи напряжения между полым катодом и анодом 500 В и введения магнитного поля первоначально зажигается отражательный разряд в ячейке Пеннинга. Пеннинговский разряд возбуждает полый катод, и внутри него образуется редкая катодная плазма, отделенная от более плотной плазмы пеннинговского разряда первым двойным слоем (сферической формы), который возникает с катодной стороны отверстия в диафрагме 2 из-за значительного изменения поперечных размеров разряда. Ограничение тока в цепи дополнительного анода 6 приводит к перебрасыванию разряда на анод 1 через контрагирующее отверстие в отражателе 5. С катодной стороны контрагирующего отверстия возникает второй двойной слой между пеннинговской плазмой и плазменным сгустком в контрагирующем отверстии. Неоднородное магнитное поле в области отверстия диафрагмы 2 способствует увеличению напряжения на первом двойном слое и увеличивает его выпуклость в направлении эмиссионного электрода 4. При d= обеспечивается многократная осцилляция ионизирующих электронов, выбиваемых со стенок в полом катоде, и практически полное использование энергии электронов, приобретенной в катодном падении, на ионизацию, благодаря чему каждый электрон, выбитый из катода, производит (1-1) Uk/U новых электронов в полости (1 коэффициент размножения в 1 каскаде, Uk катодное падение потенциала; U средние затраты энергии электрона на акт ионизации 40 В для аргона). Все электроны, прошедшие первый двойной слой с напряжением Uc1, получают дополнительную энергию и способны производить ионизацию внутри дополнительного анода 6 при многократной их осцилляции вдоль магнитного поля между диафрагмой 2 и отражателем 5, на которые электроны не попадают из-за потенциального барьера, а магнитное поле препятствует движению электронов на дополнительный анод 6. Произведя 2-1 новых электронов в объеме трубки Пеннинга, электроны попадают во второй двойной слой на входе контрагирующего отверстия электрода-отражателя 5 с напряжением Uc2, приобретают дополнительную энергию, возбуждают пучково-плазменные колебания в плотной прианодной плазме, энергия этих колебаний передается тепловым электронам, увеличивая их ионизирующую способность и обеспечивая в этой области производство 3 1 Uc2/ U новых пар заряженных частиц. Для открытой системы электродов в сторону эмиссии ионов в пучок при выполнении условия d= и с учетом приведенного выше механизма объемной генерации заряженных частиц (размножения электронов) можно записать условие существования трехкаскадного разряда b (1, 2, 3 1) 1 по аналогии с условием существования двухкаскадного разряда (см. Никитинский В.А. Журавлев Б.И. Условия существования разряда с холодным катодом, контрагированного в скрещенных полях. ЖТФ, 1982, т.52, N 5, с.896-899):
b (1,2 1) 1; где b доля ионов, генерируемых разрядом и попадающих на стенки катодной полости;
0,1 коэффициент ионноэлектронной эмиссии. Напряжения на разрядах можно оценить соотношениями;
на трехкаскадном Up3U(1+2+3 3);
на двухкаскадном Up2U(1+2+3 2), где U усредненные затраты энергии на образование пары ион-электрон в разряде на один ионизирующий электрон. Если принять для двухкаскадного разряда 3 2 и 1=10, для трехкаскадного 3 2 и 1 2 3,3 и характерные для разрядов низкого давления: U 40 В, 0,1, b 0,5, то можно оценить величины UP2 400 B, a UР3 260 В. Условие d позволяет обеспечить бесстолкновительный пробег ионов из зоны их образования до эмиссионной поверхности. Таким образом, в предложенном источнике ионов реализована экономичная трехкаскадная схема последовательного объемного размножения электронов, обеспечивающая снижение "цены иона" в разряде, и открытая с увеличивающимся размером выходных апертур система для выхода ионов из зон их генерации с минимальными потерями, что приводит к увеличению электрической экономичности. Изменением потоков ионообразующего газа в аноды и сопротивлений, через которые подключены отражатель к катоду и дополнительный анод к аноду, можно перераспределять напряжение разряда, а с ним и вклады в объемную генерацию заряженных частиц между каскадами, управлять формой двойных слоев и добиваться равномерного распределения высокой плотности тока ионов на эмиссионной поверхности.


Формула изобретения

ИСТОЧНИК ИОНОВ ГАЗОВ, содержащий многоапертурную ионнооптическую систему, размещенную с катодной стороны разрядной камеры, полый анод, полый катод диаметра d4 с контрагирующим отверстием диаметром d2 в обращенной к аноду стенке, удовлетворяющим условиям


где M относительная атомная масса газа;
Ii ток ионов пучка на выходе из источника ионов;
H осевой размер катодной полости;
h высота контрагирующего отверстия,
источники питания цепей разряда и ионно-оптической системы, систему подачи рабочего газа через анод и магнитную систему, отличающийся тем, что, с целью увеличения энергетической эффективности источника ионов за счет снижения энергетической цены иона, увеличения газовой экономичности, повышения равномерности распределения плотности ионного тока пучка при одновременном увеличении его поперечного размера, стенка с контрагирующим отверстием диаметром d2 выполнена в виде электрически изолированного ферромагнитного электрода-отражателя, а между полым катодом и отражателем установлена ферромагнитная диафрагма под потенциалом катода с осевым отверстием диаметром при этом отражатель и диафрагма образуют полюса магнитной системы, между которыми размещен дополнительный полый анод с отверстием для подачи рабочего газа, при этом отражатель и дополнительный анод подключены через резисторы соответственно к катоду и основному аноду.

РИСУНКИ

Рисунок 1

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 8-2000

Извещение опубликовано: 20.03.2000        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологическим газоразрядным источникам заряженных частиц

Изобретение относится к разработке источников ионов и может найти применение в радиационной физике, для модификации физико-химических свойств металлов и сплавов, диэлектриков и полупроводников методом ионной имплантации

Изобретение относится к отжигу полупроводниковых пластин и может быть использовано в технологических линиях по изготовлению приборов

Изобретение относится к ускорительной технике.- Цель изобретения - упрощение конструкции за счет уменьшения Э1)фективного змнттанса пучка ионов, в одиночной лннзе ионно-оптнческой системы, содержащей три последовательно и соосно расположенных цилиндрических злектрода, в выходном торце последнего цилиндрического злектрода линзы расположена диафрагма с центральным отверстием, диаметр d которого и длина L злектрода удовлетв оряют соотношениям d 0,25-0,4D, L 0,2-0,31), где D - апертура линзы

Изобретение относится к источникам ионов и может найти применение в ускорительной технике, в радиационной физике, для улучшения физико-химических свойств полупроводников, диэлектриков и металлов путем имплантации в них различных примесей в виде ускоренных ионов

Изобретение относится к устройствам для получения моноэнергетичных интенсивных пучков ионов различных газов, в том числе активных, и может быть использовано для различных технологических операций в вакууме (травление подложек, нанесение пленок, легирование и т.д.), а также для научных экспериментов

Изобретение относится к ионным источникам и может найти применение в радиационной физике для модификации физико-хпмических свойств материалов методом ионной имплантации

Изобретение относится к ускорительной технике

Изобретение относится к устройствам для получения интенсивных ленточных пучков ионов металлов, включая тугоплавкие, их сплавов, и может быть использовано для технологических целей (ионная имплантация, осаждение пленок заданного материала в вакууме и т.д.) и научных исследований
Изобретение относится к поверхностно-плазменным источникам отрицательных ионов, а именно к способам получения отрицательных ионов в поверхностно-плазменных источниках, и может быть использовано в ускорителях заряженных частиц или устройствах для осуществления термоядерного синтеза

Изобретение относится к технике получения импульсных мощных ионных пучков

Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно - к плазменным источникам, предназначенным для генерации интенсивных ионных пучков, и к способам их работы

Изобретение относится к источникам заряженных частиц и применяется в ускорительной технике

Изобретение относится к технологии электромагнитного разделения изотопов

Изобретение относится к технике получения ионных пучков, в частности пучков многозарядных, высокозарядных и поляризованных ионов

Изобретение относится к получению электронных и ионных пучков и может быть использовано в ускорительной технике

Изобретение относится к источникам заряженных частиц и применяется в области ускорительной техники

Изобретение относится к источникам ионов, применяемым на ускорителях заряженных частиц

Изобретение относится к области приборостроения, в частности к технике создания источников ионов, предназначенных для ускорителей заряженных частиц
Наверх