Способ обеспыливания поверхности диэлектрической пленки и устройство для его осуществления

 

Изобретение относится к электрографии и позволяет увеличить эффективность обеспыливания. Для этого одновременно с обработкой пленки 2 воздушной струей производят отделение электропроводящей подложки 4 от пленки 2. Устройство для удаления пыли содержит блок 1 зарядки, блок 3 обработки воздушной струей и блок 6 нейтрализации поверхности пленки 2. Подложка в зоне зарядки и электрической нейтрализации представляет собой заземленные металлические валики. Сопла обдува и отсоса в виде щелей размещены над очищаемой поверхностью в областях разделения диэлектрической пленки от валиков. 2 с. и 1 з.п. ф-лы. 1 ил.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕспУБлик (я)я G 03 G 21/00, 6 11 В 3/58

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К А8ТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4497303/12 (22) 24,10.88 (46) 07.04.91. Бюл. ЬЬ 13 (72) В,И.Гайдялис, Л.Л.Лауринавичюс, B.È.Ñêýðæèíñêàc и Я.П,Ивашкене (53) 772.93 (088.8) (56) Патент ФРГ М 3001455, кл. 6 03 G21/00,,1981. (54) СПОСОБ ОБЕСПЫЛИВАНИЯ ПОВЕРХHOCTVt ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ ПЛЕНКИ И

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ (57) Изобретение относится к электрографии и позволяет увеличить эффективность

„„.Я3.„„1640666 А1 обеспыливания. Для этого одновременно с обработкой пленки 2 воздушной струей производят отделение электропроводящей подложки 4 от пленки 2. Устройство для удаления пыли содержит блок 1 зарядки, блок 3 обработки воздушной струей и блок

6 нейтрализации поверхности пленки 2.

Подложка в зоне зарядки и электрической нейтрализации представляет собой заземленные металлические валики..Сопла обдува и отсоса в виде щелей размещены над очищаемой поверхностью в областях разделения диэлектрической пленки от валиков.

2 с. и 1 з.п. ф-лы. 1 ил, 1640666

Изобретение относится к электрографии и может быть использовано в процессе изготовления органического электрофотог. рафического носителя информации, предназначенного для микрофильмирования.

Цель изобретения — повышение эффективности обеспыливания путем уменьшения электрических сил, прижимающих частицы пыли к поверхности пленки.

° На чертеже приведена схема устройства для обеспыливания поверхности диэлектрической пленки, Устройство содержит блок 1 зарядки пленки 2, блок 3 обработки пленки 2 воздушной струей. Блок 3 включает сопла обдува и отсоса, выполненные в виде щелей, расположенных над электропроводящей основой 4, выполненной из металлизированных опорных валиков, Устройство снабжено механизмом транспортировки пленки

2 через блок I зарядки, подключенный к высоковольтному блоку 5 постоянного тока, блок 3 обработки воздушной струей, блок 6 нейтрализации, подключенный к высоковольтному блоку 7 переменного тока.

Способ осуществляют следующим образом.

При перемещении диэлектрической пленки над электропроводящей основой она проходит 3 стадии обработки; нанесение на свободную поверхность пленки электрического заряда, механическое удаление частиц пыли с поверхности пленки воздушной струей и электрическую нейтрализацию обработанной поверхности.

Диэлектрическая пленка 2 прижата к электропроводящей основе, выполненной из электропроводящих заземленных валиков 4, По краям основы 4 над ее поверхностью установлены блок 1, подключенный к высоковольтному блоку 5, а также блок 6 нейтрализации, подключенный к высоковольтному блоку 7 переменного тока, Над зоной очистки основы установлен блок 3 обработки слоя сжатым воздухом, выполненный в виде щелей, которые размещены над очищаемой поверхностью основы в областях раздела диэлектрических и заземленных металлизированных опорных валов, Устройство также снабжено узлом перемотки гибкой диэлектрической пленки, Устройство работает следующим образом.

При перемещении очищаемой пленки над основой 4 она проходит 3 стадии обработки: нанесение на свободную поверхность пленки электрического заряда, удаление пыли с ее поверхности и электрическую нейтрализацию обработанной поверхности. В этапе нанесения заряда на

50 поверхность пленки осаждаются ионы воздуха. Одновременно на электропроводящей основе 4, прижатой к пленке. появляется заряд экранирования, величина которого равна поверхностному заряду противоположной полярности. Одновременно заряжаются частицы пыли, находящиеся на поверхности пленки. При дальнейшем передвижении пленки над основой 4 она достигает зоны обеспыливания, в которой основа

4 состоит из ряда чередующихся заземленных металлизированных опорных валиков, разделенных воздушным промежутком.

Когда заряженная пленка перемещается над диэлектрическим сегментом основы

4, т.е. воздушным промежутком, в котором заряд экранирования отсутствует, поверхностный потенциал пленки и заряженных частиц пыли многократно увеличивается, что обусловливает резкое увеличение отталкивания между частицами пыли и поверхностью пленки. Одновременно производится обдув поверхности пленки воздушной струей и отсос загрязненного, Затем обрабатываемая пленка передвигается над заземленным металлизированным валиком, где потенциал уменьшается до прежней величины. При дальнейшем передвижении над воздушным промежутком скачок потенциала повторяется, что способствует разделению пылинок от поверхности пленки, которые не были удалены при первом резком увеличении потенциала. Таким обра-. зом, скачки потенциала поверхности и частиц пыли повторяются несколько раз. По окончании обработки пленки воздушной струей она поступает в зону электрической нейтрализации, где блок 6 нейтрализации осаждает бинарные ионы воздуха на поверхность пленки, тем самым уменьшая потенциал поверхности до нуля, Пример. Полиэтилентерефталатную пленку толщиной 175 мкм, используемую в качестве основы при изготовлении органических электрофотографических слоев, заряжают до +500 8, При этом плотность заряда на поверхности пленки составляет

75,85х10 Кл/м, а напряженность электрического поля в слое равна 285 В/мкм, что примерно в 50 раз меньше критической, ведущей к электрическому пробою, величины, Одновременно производится заряжение пылинок и других посторонних предметов, которые обычно являются диэлектрическими. В ходе процесса заряжения одной поверхности пленки обратная ее поверхность плотно прижата к электропроводящей основе, на которой накапливается экран ирующий заряд, полярность которого противоположная, а плотность заряда рав1640666

Составитель В. Аксенов

Техред М,Моргентал Корректор С. Шекмар

Редактор В. Данко

Заказ 1016 Тираж 291 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035. Москва, Ж-35, Раушская наб.. 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент",. r. Ужгород, ул.Гагарина, 101 на суммарному заряду на поверхности пленки и осевшей пыли.

flo окончании этапа заряжения одновременно производят разделение электропроводящей основы диэлектрической 5 пленки, а также обработку очищаемой эоны воздушной струей. При разделении пленки и электропроводя щей основы на растоянии, например, равном 2 см, т.е. увеличении расстояния между поверхностным и экра- 10 нирующим зарядами от 175 мкм до 2 см, поверхностный потенциал пленки достигает 57000 В. Соответственно увеличивается потенциал пылинок. Такое резкое 114кратное увеличение потенциала на повер- 15 хности пленки и осевшей пыли вызывает соответственное увеличение силы отталкивания между ними, вследствие чего они отскакивают с поверхности пленки и удаляются воздушной струей, По окончании обес- 20 пыливания электропроводящую основу возвращают в исходное положение, т.е. прижимают к обратной поверхности пленки и, осаждая биполярный заряд, разряжают поверхность. 25

Формула изобретения

1. Способ обеспыливания поверхности диэлектрической пленки, включающий приведение диэлектрической пленки в контакт с электропроводящей основой, нанесение 30 на свободную поверхность пленки электрического заряда, обработку свободной поверхности пленки воздушной струей для механического удаления частиц пыли, элек35 трическую нейтрализацию свободной поверхности и отделение пленки от электропроводящей основы, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности обеспыливания путем уменьшения электрических сил, прижимающих частицы пыли к поверхности пленки при обработке воздушной струей дополнительно производят отделение пленки от электропроводящей основы с последующим приведением ее в контакт с электропроводящей основой.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что воздушную обработку, отделение пленки при ней и последующее приведение пленки в контакт с электропроводящей основой производят многократно.

3. Устройство для обеспыливания поверхности диэлектрической пленки, содержащее блок зарядки пленки, блок обработки ее воздушной струей, включающий сопла обдува и отсоса, блок нейтрализации, механизм транспортировки пленки через указанные блоки и электропроводящую основу для проведения электрического потенциала к пленке. о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения эффективности обеспыливанию, злектропроводящая основа выполнена из металлизированных опорных заземленных валиков, размещенных в блоках зарядки, обработки, нейтрализации, при этом сопла обдува и отсоса блока выполнены в виде щелей, расположенных над опорными валиками в зоне отделения пленки от валика,