Состав для очистки оптических поверхностей

 

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (si)s С 03 С 23/00

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ВСШ

ОИЕНТНО- Т

БИЬЛИ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4770785/33 (22) 15.11.89 (46) 30.11.91. Бюл. М 44 (72) Г.И.Афанасьева, В.Ф.Французов и

Б.Д.Горелик (53) 666, 1.056(088. 8) (56) Технология тонких пленок. Под ред.

Л.Майссела. — M.: Советское радио, 1977, т.1, с,542.

Авторское свидетельство СССР М

371184,кл, С 03 С 23/00, 1971.

Изобретение относится к оптической промышленности и может быть использовано для очистки поверхностей оптических деталей перед их соединением методом оптического контакта.

Соединение деталей методом оптического контакта осуществляется эа счет взаимодействия сил молекулярного притяжения между высокоточными полированными оптическими поверхностями. Для осуществления такого взаимодействия оптические поверхности перед приведением их в оптический контакт подвергаются тщательной очистке, Целью изобретения является повышение прочности соединения и облегчение посадки на оптический контакт за счет повышения качества очистки.

Для очистки оптических поверхностей перед их соединением методом оптического контакта для удаления поверхностной пленки используют спиртовой раствор кремнийорганического соединения, в который добавляют поли рит, при следующем соотношении компонентов, мас,ч,:

„„5U„„1694503 A l (54) СОСТАВ ДЛЯ ОЧИСТКИ ОПТИЧЕСКИХ

ПОВЕРХНОСТЕЙ (57) Изобретение относится к оптической промышленности и может быть использовано для очистки поверхностей оптических деталей перед их соединением методом оптического контакта, Состав для очистки оптических поверхностей позволяет повысить прочность соединения и облегчить посадку на оптический контакт за счет повышения качества очистки. Состав содержит, мас.ч,: полирит 30 — 50; спирт 95 — 97; тетраэтилортосиликат 3 — 5. Прочность на отрыв пластин 0,58 — 0,63 МПа. 1 табл, Полирит 30 — 50

Спирт 95-97 (/)

Тетраэтилортосиликат 3 — 5.

В качестве тетраэтилортосиликата можно использовать тетраэтоксисилан и тетра- этиловый эфир ортокремниевой кислоты.

Тщательная очистка перед соединением поверхностей методом оптического контакта путем удаления поверхностной 0 пленки с помощью спиртового раствора О кремнийорганического соединения, в кото- ф рый добавляют полирит, сопровождается у обнажением свежих слоев поверхностей, что позволяет повысить их активность при .соединении. способствующую возникновению большего числа межмолекулярных связей, в результате облегчается и ускоряется процесс посадки оптических деталей на on-, а тический контакт и обеспечивается большая прочность соединения.

Очистку оптических поверхностей проводят чистой батистовой салфеткой, смочен-. ной в укаэанной композиции, со слабым нажимом в течение 2 — 3 мин, равномерно перемещая батистовый тампон по очищае1694503

Составитель Г,Буровцева

Редактор А.Маковская Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор М.Шароши

Заказ 4123 Тираж Подписное

ВНИИГ1И Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР ! 13035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

ПроизяодсTRBHHo"èýäàòåïüñêèé комбинат "Патент", г. Ужгород, ул,Гагарина, 101 мой поверхности круговыми движениями.

Очистку проводят до тех пор, пока тампон с указанной композицией не начинал равно,мерно и очень легко скользить по поверхности стекла. Скольжение должно быть эластичным без ощущения толчков вследствие прилипания тампона к поверхности.

Очистку проводят при боковом освещении поверхности оптической детали, когда все недочеты легко обнаруживаются. Проверка прочности оптического контакта на отрыв в зависимости от качества подготовки повер, хности показала, что при быстром самопро,извольном контакте (тщательно очищенная поверхность с помощью указанной компо, зиции) прочность на отрыв составляет 0,58— 0,63 МПа, при контакте с помощью нажима (после очистки петролейным эфиром) 0,37

Mila, при контакте постоянным сильным нажимом (после очистки спиртоэфирной

Смесью) 0,25 MIla.

Для удаления поверхностной пленки с пластин использовали состав, приготавливаемый следующим образом.

В качестве диспергирующей среды полировальной суспензии брали раствор в этанолететраэтилортосиликата(тетраэтоксисилана)

ТУ 6 — 09-5230-85, который являлся отходами оптического производства и применялся в качестве пленкообразующего раствора при просветлении оптических де алей для видимой и ИК-области спектра.

В указанную диспергирующую среду

5 добавляли полирит так, что состав приобретал кашицеобразную консистенцию.

Конкретные составы для очистки оптических поверхностей приведены в таблице, Из таблицы следует, что описываемые

10 составы позволяют получить высокое качество очистки оптических поверхностей, облегчают и ускоряют процесс соединения деталей оптическим контактом, повышают прочность соединения.

15 Формула и зоб рете н и я

Состав для очистки оптических поверхностей, включающий полирующий оксид и растворитель, отличающийся тем, что, с целью повышения прочности соединения

20 и облегчения посадки на оптический контакт за счет повышения качества очистки, он дополнительно содержит тетраэтилортосиликат, в качестве полирующего оксида— полирит, а качестве растворителя — спирт

25 при следующем соотношении компонентов, мас.ч.:

Поли рит 30-50

Спирт 95-97

Тетраэтилортосиликат 3 — 5.

Состав для очистки оптических поверхностей Состав для очистки оптических поверхностей 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии механической обработки заготовок из пористого стекла (ПС) и может быть использовано для изготовления оптических деталей необходимой конфигурации, в том числе и микрооптических элементов (МОЭ)

Изобретение относится к очистке поверхности стекла и может быть использовано в производстве электровакуумных приборов

Изобретение относится к способам термохимической обработки стеклоизделий медицинского назначения, например для хранения медпрепаратов

Изобретение относится к обработке изделий из стекла и может быть использовано при подготовке поверхности стеклянных заготовок после операции механической обработки

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при изготовлении стеклянных подложек вакуумных фотоэлектронных приборов

Изобретение относится к стекольной промышленности и может быть использовано при производстве многослойных безопасных стекол

Изобретение относится к стекольной промышленности и может быть использовано на заводах, вырабатывающих листовое стекло

Изобретение относится к области производства стеклоизделий

Изобретение относится к производству высококремнеземных стекол, а именно кварцоидных стекол с повышенным коэффициентом теплового расширения (КТР)
Изобретение относится к технологиям лазерной обработки твердых материалов, и, в частности к технологии создания изображений внутри объема прозрачных изделий с различными цветовыми эффектами
Изобретение относится к лазерной технологии и может быть использовано для создания художественных изделий и маркировки прозрачных материалов

Изобретение относится к областям регистрации информации путем литографического формирования рельефных микроструктур и может быть использовано в оптотехнике, голографии, электронной технике, полиграфии и прочее

Изобретение относится к легкой или пищевой промышленности и может быть использовано при формировании изображений в прозрачном или малопрозрачном материале различных изделий, таких как емкости (бутылки, банки, флаконы, графины и т.д.), предметы широкого потребления (стекла очков, защитные стекла часов, всевозможные панели каких-либо приборов, сувенирные изделия и т.п.)

Изобретение относится к устройству для формирования изображений в изделиях из прозрачного и малопрозрачного для видимого излучения материала
Изобретение относится к производству художественных стеклянных изделий

Изобретение относится к способу очистки подложки и к нанесению на нее покрытий
Изобретение относится к способу обработки поверхности подложки
Наверх