Способ матирующей деформации в электрофотографии

 

l7O289

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства ¹

Кл. 57Ь, 10

Заявлено 12.Х.1963 (№ 860775/26-10) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 09.IV.1965. Бюллетень № 8

Дата опубликования описания 7Х.19б5

МПК G 03с

УДК 772.93 (088.8) Государственный комитет ло делам изобретений и открытий СССР

Авторы изобретения

Л. Г. Винокуров и П. M. Подвигалкин

Заявитель

СПОСОБ МАТИРУЮЩЕЙ ДЕФОРМАЦИИ В ЭЛЕКТРОФОТОГРАФ И И

Предмет изобретения

Подписная группа № 285

Известный способ матирующей деформации для визуализации скрытого электрофотографического изображения не устраняет нагрев фотополупроводника или воздействие на него концентрированных паров растворителя, а также увеличивает расход необходимого фоточувствительного материала.

В предлагаемом способе матирующей деформации для визуализации скрытого электрофотографического изображения указанные недостатки устраняются в результате нанесения слоя изолятора на отдельную от фотополупроводника подложку.

На чертеже изображена принципиальная схема устройства для осуществления предлагаемого способа.

Приемный слой (носитель электростатического изображения) состоит из основы (тонкой пластмассовой ленты 1), нанесенного на ,нее металлического слоя 2 толщиной 0,5—

1 мк и пленки изолятора 8 (термопластическая пластмасса толщиной 3 — 5 мк), обладающей свойством размягчаться под действием нагрева или концентрированных паров растворителя. В момент прижатия приемного слоя к фотополупроводниковому слою 4 (слой аморфного селена или селенида кадмия тол= щиной 30 — 50 мк) между прозрачным контактом 5 (например, пленка двуокиси олова с поверхностным сопротивлением 200 ——

1000 ом) и металлическим слоем 2 прикладывается напряжение (600 — 1000 в) и одновременно производится экспонирование через

5 прозрачную подложку б (например, стеклянную). При этом электростатическое изображение переносится со слоя фотополупроводника на слой изолятора. После отделения от фотополупроводникового слоя приемный слой

10 проходит последовательно через головку проявления 7 (зона нагрева или обработки концентрированными парами растворителя), где образуется микрорельеф, и головку фиксации 8 (зона охлаждения или сушки изолято15 ра), где микрорельеф затвердевает.

20 Способ матирующей деформации в электрофотографии для визуализации скрытого электрофотографического изображения, отличающийся тем, что, с целью устранения нагрева фотополупроводника или воздействия на него

25 концентрированных паров растворителя и уменьшения количества необходимого фоточувствительного материала, слой изолятора наносится на отдельную от фотополупроводника подложку.!

70289

l I l

Составитель В. А. Сафонова

Редактор Н. А. Джарагетти Техред Ю. В. Баранов Корректор Ю. М. Федулова

Заказ 901г8 Тираж 625 Формат бум. 60 X 90 /е Объем 0,1 изд. л. Цена 5 коп.

ЦНИИПИ Государственного комитета по делам изобретений и открытий СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типография, пр. Сапунова, д. 2