Способ регулирования температурного поля в электронно- лучевых плавильных печах

 

Использование: изобретение может быть использовано в процессах электроннолучевого нагрева. Цель изобретения - повышение точности поддержания заданного температурного поля переплавляемого металла . Сущность изобретения: дополнительно измеряют давление в рабочей камере печи в течение К-ro цикла сканирования фиксируют давление непосредственно перед каждым измерением температуры и (в случае превышения заданного давления) прогнозируют температуру на очередном X- м участке траектории по формуле «(X)-S «1(Х)-Ч(Х)+ЈМХ)-Г(Х q ог о где tK-q(X) - очередное (K-q)-e измеренное значение температуры на Х-м-участке траектории; Q,R{ Oq (X), q - 1 ,Q}, { yr (X), г - 1 ,R) - параметры, зависящие от характеристик идентифицируемого объекта и определяемые на основе известных методов статистической идентификации; (5к - у (X) 1к-г(Х) - 1к-г{Х), затем последовательно осуществляют откачку вакуумной системы до заданного при сохранении постоянной мощности источника и скорости перемещения луча, вычисляют мощность источника пропорционально отклонению давления от заданного в рабочей камере печи в К-м цикле по формуле NK-H At2 (Рк//-Ро) No(1 + Кр Т, , где No, Ро, Тц - заданные значения мощности источника воздействия, давления в рабочей камере печи, продолжительности цикла сканирования соответственно; Рк(1 - очередное fi-e измеренное значение в К-м цикле сканирования; At - интервал дискретности измерения давления, зависящий от разрешающей способности конкретных технических средств;М- количество измерений давления в течение одного цикла, причем MAt Ту, Кр - коэффициент пропорциональности, подбирается экспериментально для конкретного технологического объекта, вычислительную мощность источника контролируют с допустимой мощностью перегрева поверхности материала N«+1 МДОп, пов. и при выполнении данного условия изменяют скорость сканирования электронного луча в (К+1)-м цикле пропорционально рассогласованию между спрогнозированным значением температуры и заданным на данном участке траектории, а мощность источника изменяют пропорционально отклонению давления от заданного. 3 ил. У Ј VI 4 Ч Ј 00

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (505 Н 01 J 37/30

ГОСУДАРСТВЕ1.НЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ ГКНТ СССР

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

Фч

° ч ич чФ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 (21) 4771382/21 (22) 19.12.89 (46) 23,07.92. Бюл. hL 27 (71) Руставское научно-производственное объединение "Автоматпром" (72) Д.А.Бадалов, А,M.Êþðê÷ÿí, Д.Г.Табидзе и А.Г.Бутковский (56) Авторское свидетельство СССР

М 323872, кл. Н 05 В 7/16, 01.12.69.

Авторское свидетельство СССР

М 482029, кл, Н 05 В 7/00, 20.02.73. (54) СПОСОБ РЕГУЛИРОВАНИЯ ТЕМПЕРАТУРНОГО ПОЛЯ В ЭЛЕКТРОННО"ЛУЧЕ.ВЫХ ПЛАВИЛЛЬНЫХ ПЕЧАХ (57) Использование: изобретение может быть использовано в процессах электронно лучевого нагрева. Цель изобретения — повышение точности поддержания заданного температурного поля переплавляемого металла. Сущность изобретения: дополнительно измеряют давление в рабочей камере печи в течение К-го цикла сканирования фиксируют давление непосредственно перед каждым измерением температуры и (в случае превышения заданного давления) прогнозируют температуру на очередном Хм участке траектории по формуле

Й(х) = ач(х) ж-ч(х)+, у,(х)дк -г(х), q=o à — О гДе 1к-ч(Х) — очеРеДное (К-о)-е измеРенное значение температуры на X-м участке тоаектории; Q,R((Уц (Х), q - 1,0). (yr (Х), r 1, R)параметры, зависящие от характеристик идентифицируемого объекта и определяемые на основе известных методов"статистиЫ3,, 1749948 А1

2 ческой идентификации; дк -y(x) - tK-Г(х)—

1к-у(х), затем последовательно осуществляют откачку вакуумной системы до заданного при сохранении постояйной мощности источника и скорости перемещения луча, вы; числяют мощность источника пропорционально отклонению давления от заданного в рабочей камере печи в К-м цикле по формуле Мк+1Ь t (РКP — РО)

-no(1+ К, где No, Ро, Тц — заданные значения мощности источника воздействия, давления в рабочей камере печи, продолжительности цикла сканирования соответственно; Рк(1(— очередное р -е измеренное значение в К-м цикле сканирования; Л1 — интервал дискретности измерейия давления, зависящий от разрешающей способности конкретных технических средств;М- количество измерений давления в течение одного цикла, причем МЛ t - ТУ, Кр — коэффициент пропорциональности, подбирается экспериментально для конкретного технологического объекта, вычисли- ф, тельную мощность источника контролируют с допустимой мощностью перегрева поверхности материала NK+1 Идоп, пов. и при выполнении данного условия изменяют скорость сканирования электронного луча в О© (К+1 -м цикле пропорционально рассогласоеению между оорогноеироеенным енечени- и ем температуры и заданным на данном участке траектории, а мощность источника изменяют пропорционально отклонению давления от заданного. 3 ил.

1749948

à — О (1) где 1к-r(X) — очередное (К-ц)-е измеренное значение температуры на Х-м участке траектории;

Q — число временных точек, в которых

0 измерена температура на Х-м участке траектории;

R — число участков, на которые разделена траектория, изменяется от 1 до R, q— от1до С1, 5 коэффициенты (гц и зависят от характеристик объекта и определяются на основе методов статистической идентификации дк — r {Х) - ткК- к(Х), (2) затем последовательно осуществляют от- качку вакуумной системы до заданного, выИзобретейие относится к электротермии и может быть использовано в процессах электронно-лучевого нагрева.

Известен способ, реализованный в устройстве регулирования температурного по- 5 ля, по которому измеряют температуру поверхности расплава вдоль траектории сканирования электронного луча, и пропорционально отклонению температуры от заданной изменяют мощность источника 10 воздействия.

Недостатком указанного способа является то, что управление мощностью источника менее эффективно, чем управление скоростью движения электронного луча. 15

Особенно указанный недостаток сказывается при больших мощностях электронно-лучевых установок из-за увеличения инерционности управления мощностью.

Наиболее близким к изобретению по 20 технической сущйости и достигаемому результату является способ, реализованный в устройстве дпя уйравления прбцессом электронно-лучевого нагрева, заключающийся в том, что измеряют температуру поверхно- 25 сти металла вдоль траектории движения электрбнного луча, причем сканирование поля информационным пятном и пятном воздействйя осуществляется сйнхронно. сравнивают измеренную в течение очеред- 30 ного цикла температуру с заданной, а скорость сканированйя электронного луча в последующем цикле изменяют пропорционально рассогласованйю между измеренной и заданной температурами на 35 соответствующем участке траектории, Недостатком известного способа является то, что показания сканируемого пирометра не корректируется в условиях возмущений случайного характера. К основ- 40 ным из них следует отнести частое возникновение плазменного облака на участке воздействия электронного луча из-за интенсивного испарения примесей. При этом возрастает давление в рабочей камере печи, 4 резко ухудшаются показания пирометров вследСтвие возникновения промежуточной среды. Измерения температуры поверхности расплава, проведенные с помощью пи-. рометра Спектрального отношения, 5 показали, что в установившемся режиме отдельные выбросы показаний пирометра составляют до 8,, Причем выявлена сильная корреляционная связь между значениями давления в рабочей камере печи и темпера- 5 туры поверхности расплава. Коэффициент корреляции между двумя указанными факторами (определенные на основе известных . методов стохастической идентификации) составляет 0,75-0,9. Таким образом, информация о давлении в рабочей камере печи позволит существенно скорректировать по-, каэания пирометра и сформировать соответствующее управляющее воздействие.

Кроме того, при увеличении давления возрастают потери мощности электронного пучка, причем при увеличении давления до 0,1

Па потери мощности достигают 12ф.

Так как по известному способу регулирование температуры осуществляется за счет перераспределения энергии источника между соседними участками поверхности объекта, то потери энергии за один цикл сканирования в последующем не компенсируется.

Цель изобретения — повышение точности поддержания заданного температурного поля переплавляемого металла.

Указанная цель достигается тем, что согласно способу, заключающемуся в перераспределении энергии электронного луча, для чего измеряют температуру поверхности металла вдоль траектории движения электронного пуча, причем сканирование поля информационным пятном и пятном воздействия осуществляют синхронно, сравнивают измеренную в течение -ro цикла температуру с заданной, изменяют скорость сканирования электронного луча в последующем (К+1)-м цикле пропорционально рассогпасованию между измеренной и заданной температурами на соответствующем участке траектории, дополнительно измеряют давление в рабочей камере в течение К-го цикла сканирования, фиксируют давление непосредственно перед каждым измерением температуры и в случае отклонения давления от заданного прогнозируют температуру на очередном Хм участке траектории по формуле к(х) = Qq(x)4-q(x)+Jr (х)дк — r(x) 1749948 числяют мощность источника пропорционально отклонению давления от заданного в рабочей камере печи в К-м цикле по формуле м

Лт,Я (к,и — Р)

Як+1 No(1 + Кр ). (3) где No, Po, Тц — заданные значения мощности источника воздействия, давления в рабочей камере печи, продолжительность цикла сканированйя соответственно;

Рк, - очередное,и-е измеренное значение в К-м цикле сканирования;

A t — интервал дискретности измерения давления, зависящий от разрешающей способности конкретных технических средств;

М вЂ” количество измеоений давления в течение одного цикла, и ричем phI = Тц, Кр — коэффициент пропорциональности, подбирается экспериментально для конкретного технологического объекта, вычисленную мощность источника контролируют с допустимой мощностью перегрева

ПОВЕрХЧОСтИ МатЕрИаЛа ЯК+1 одоп.пов., И при выполнении данного условия измеряют скорость сканирования электронного луча в (К+1)-м цикле пропорционально рассогласованию между спрогнозированным значением температуры и заданным на данном участке траектории, а мощность источника изменяют пропорционально отклонению давления от заданного.

Сущность изобретения заключается в том, что после измерения давления в рабочей камере печи в течение К-ro цикла сканирования, фиксируют давление непосредственно перед каждым измерением температуры и в случае отклонения давления от заданного прогнозируют температуру на.очередном Х-м участке траектории, последовательно осуществляют откачку вакуумной системы до заданного, вычисляют мощность источника пропорционально отклонению давления от заданного в рабочей камере печи в К-M цикле, затем вычислительную мощность источника контролируют с допустимой мощностью нагрева поверхности материала, и при выполнении дан ного условия изменя ют скорость,сканирования электронного луча в (К+1)-м цикле пропорционально рассогласованию между спрогнозированным значением температуры и заданным на данном участке траектории, а мощность источника изменяют пропорционально отклонению давления от задан ного.

На фиг.1 представлена блок-схема системы для осуществления предлагаемого способа, на фиг.2-электронно-лучевая плавильная установка; на фиг,3 — различные

55 варианты траекторий электронного луча при реализации способа..

Система для реализации способа содержит задатчик 1 температуры, задатчик 2 давления, управляющую вычислительную машину (YBM) 3, блок 4 управления мощностью электронного луча, сканирующий пирометр 5, отклоняющие системы пирометра

6 и электронного луча 7, электронно-лучевую печь 8, измеритель 9 давления и блок 10 откачной вакуумной системы, причем выходы задатчиков давления и температуры соединены с соответствующими входами УВМ, два других входа которой соединены с выходами сканирующего пирометра и измерителя давления соответственно, входы отклоняющих систем пирометра и электронного луча соединены с выходом УВМ, два других выхода которой соединены соответственно с входом блока управления мощностью электронного луча и с входом блока откачной вакуумной системы.

Устройство функционирует следующим образом.

В электронно-лучевой печи 8 по определенной траектории перемещается электронный луч, вдоль этой же траектории осуществляется измерение температуры поверхности металла сканирующим пирометром 5, выполненным, например, на базе передающей телевизионной трубки. Показания пираметра поступают в управляющую вычислительную машину, куда поступает информация от измерителя 9 давления в рабочей камере. В УВМ 3 формируется сигнал рассогласования At(X) следующим образом. Перед каждым измерением температуры фиксируется соответствующее по времени значение давления в рабочей камере. Если давление не превосходит заданного Рр, вычисляется разность

Лt(X) = с*(Х) — т(Х), где t*(X) — заданное значение температуры в точке Х, поступающее от задатчика 1. Задатчиком может быть дисплейное устройство или пульт оператора, с которого осуществляется ввод соответствующих значений: если с*(Х) представляет собой кусочно-постоянную функцию; если же это непрерывная функция, она задается в

УВМ аналитически. Если же давление превышает заданное, вычисляется разность

Л т(Х) = t*(X) — t(X), где М (X) — спрогнозированное значение температуры в точке Х, вычисленное по формуле (1).

По окончании цикла сканирования осуществляют откачку вакуумной системы, посредством блока 10 откачной вакуумной системы, до заданного, а корректирующий сигнал формируется следующим образом.

1 749948

Вся поверхность условно разбивается на L-2" участков, где и — целое положительное число. Примеры разбиения поверхности приведены на фиг,3. B памяти УВМ последовательно фиксируются измерения температуры, соответствующие каждому элементарному участку Я/L, где Я вЂ” длина траектории воздействия, При каждом 1-м рззбиении (1 = 1, 2, 3, ..., и), т.е. делении полученных отрезков пополам, образуются два участка, которые относятся к 1-й группе разбиения. На каждом участке группы разбиений скорость движения источника постоянная, Изменение скорости производится по сумме сигналов, каждый из которых определяется разностью сигналов рассогласования на соседних равных участках во всех группах разбиений. Число пар участков в 1-й группе разбиений, равной

2 . Каждой паре участков в 1-й группе разбиений присваивается номер j j = 1, 2, ..., 21-1

Пусть S = 1, т.е. ХеО, 1, тогда раэностный сигнал для соседних участков в К-м цикле вычисляется по,формуле

М-Ф 2 1 l21 а1(К)= 1 Лт(Х,К)3х- f h,1(X,K)dx. (2j-М (21-1)/2

Значение суммарного сигнала коррекции ЛО(Х, К) для Х-го элементарного участка вычисляется по формуле oO2L 2 — 1

au(x„к)= g g ц(к) Ф1 (х), 1=1 1=-1 где 51 определяется следующим образом:

1, при (2j — 2)/2 X < (21 — 1)/2;

Фц(Х) -1, при(г)-1)/2 X<2j/2;

О, при прочих X.

Тогда коррекция скорости движения источника на Х-м участке в (К+1)-м цикле определяется по формуле:

Ьv(x, к+1) = K Au(x,v), где К вЂ” коэффициент пропорциональности, подбирается экспериментально;

После окончания К-ro цикла в УВМ вычисляется новое значение мощности источника в соответствии с формулой (3), Зависимость между потерями мощности электронного луча и давлением в рабочей камере печи можно аппроксимировать линейной зависимостью без потери общности результатов. Причем, надо иметь ввиду, что в процессе плавления и очистки металла происходит удаление примесей и испарение металла в виде паров, конденсирующихся на стенках камеры, и газов, удаляемых вакуумной системой со скоро5

55 стью, достаточной для поддержания в камере печи остаточного давления не выше .

1 10 -1 10 мм рт.ст.

Сигнал, пропорциональный скорректированному значению мощности, сравнивают с допустимой мощностью перегрева

ПОВЕрХНОСтИ МатЕрИаЛа ЙК+1 Идол.noa., И при выполнении данного условия поступает в блок 4 управления мощностью, Блок управления мощности в зависимости от технического исполнения пушки может управлять или ускоряющим напряжением, или накалом катода, или напряжением фокусирующего электрода и представляет собой стандартный узел.

В практике применяются наиболее надежные аксиальные пушки, отличительной особенностью которых nо сравнению с кольцевыми и радиальными является их конструктивная защищенность от дугового разряда. Пушка установлена в отдельной камере, имеющей автономную вакуумную систему. В рабочей камере отсутствует электрическое поле.

Таким образом, в печах аксиального типа возможность возникновения дугового разряда сведена к минимуму.

Применение предлагаемого,способа позволяет снизить выход брака на 1,5% и повысить производительность íà 3%.

Формула изобретения

Способ регулирования температурного поля в электронно-лучевых плавильных печах, заключающийся в том, что измеряют температуру поверхности металла вдоль траектории движения электроннога луча, причем сканирование поля информацион-, ным пятном и пятном воздействия осуществляют синхронно, сравнивают измеренную в течение К-ro цикла температуру с заданной, изменяют скорость сканирования электронного луча в последующем (К+1)-м цикле пропорционально рассогласованию между измеренной температурами на соответствующем участке траектории, о т л и ч а ю щ ий с я тем, что, с целью повышения точности поддержания заданного температурного поля переплэвляемого металла, дополнительно измеряют давление в рабочей камере печи в течение К-го цикла сканирования, фиксируют давление непосредственно перед каждым измерением температуры и в случае превышения давлением заданной величины рассчитывают температуру не очередном Х-м участке траектории по равенству

1749948

IK(x) =g ац(х)ас-ц(х)+ Уг(х)дк— - r(x), q=o

à — О где тк-я(Х) — очередное (К-q)-e измеренное значение температуры на Х-м участке траектории, К;

Q — число временных точек, в которых измерена температура на Х-м участке траектории; и — число участков, на которые разделена траектория; г — коэффициент изменяющийся от 1 до

R;

q — коэффициент изменяющийся от 1 до а; ая, уг- коэффициенты, зависящие от характеристик объекта, и определяются на основе методов статистической идентификации; дк -у(Х) " tg-у(Х) — tan), затем последовательно осуществляют откачку вакуумной системы до заданного при сохранении постоянной мощности источника, траектории и скорости движения электронного луча, вычисляют мощность источника пропорционально отклонению давления от заданного в рабочей камере печи в К-м цикле по равенству м . Л t „ (Р к ф@ — Po)

Ng+> - N0(1 + Kp

Ч где Мо, Ро, Тц — заданные значения мощности источника воздействия (Вт), давления в рабочей камере печи (Па), продолжительности цикла сканирования (с) соответственно;

Рк, — очередное р-е измеренное эна10 чение в К-м цикле сканирования, Па;

A t — интервал дискретности измерения давления, зависящий от разрешающей способности конкретных технических средств, с;

15 М вЂ” количество измерений давления в течение одного цикла, причем pht = Тц . Кр — коэффициент пропорциональности, подбирается экспериментально. для конкретного технологического объекта, Па

20 вычисленную мощность источника контролируют с допустимой мощностью перегрева поверхности материала Як+1 S Идол.поет. и при выполнении данного условия в качестве управляющего параметра при изменении

25 скорости сканирования электронного луча в (K+1)-м цикле используют разность между рассчитанным значением температуры и заданнйм на данном участке траектории, а мощность источника изменяют пропорцио30 нально отклонению давления от заданного.

1749948

Фиг. Р

Составитель С.Дви мин

Техред М.Моргентал Корректор Э.Лончакова

Редактор Н.Рогулич

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул. Гагарина, 101

Заказ 2599 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москве, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Способ регулирования температурного поля в электронно- лучевых плавильных печах Способ регулирования температурного поля в электронно- лучевых плавильных печах Способ регулирования температурного поля в электронно- лучевых плавильных печах Способ регулирования температурного поля в электронно- лучевых плавильных печах Способ регулирования температурного поля в электронно- лучевых плавильных печах Способ регулирования температурного поля в электронно- лучевых плавильных печах 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии .электронноили ионно-лучевого контроля и восстановления микроэлектронных структур и может быть использовано при произИзобретение относится к технологии электронноили ионно-лучевого контроля и восстановления микрозлектронных структур и может быть использовано при производстве изделий электронной техники

Изобретение относится к электроннооптическим и ионно-оптическим устройствам с изменяемой формой сечения пучка и может быть использовано в установках электроннои ионно-лучевой литографии

Изобретение относится к бесконтактным методам измерения тока

Изобретение относится к элионной технике, в частности к электронному облучению мишени,и может быть использовано, в частности, в эле- .-лучевых приборах для микролитографического структурирования тонких слоев при изготовлении конструктивных элементов с размерами в субмикронном диапазоне

Изобретение относится к изготовлению прецизионных поверхностей изделий и позволяет повысить точность обработки изделий

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения поля отклонений от плоскостности поверхности твердого тела и микрогеометрии поверхности

Изобретение относится к электротехнике

Изобретение относится к области электротехники, а именно к электромагнитным устройствам развертки пучка, которые используются для облучения различных объектов

Изобретение относится к области технологии и техники обработки материалов микролептонным излучением

Изобретение относится к операционной радиационной терапии и, в частности, к передвижному устройству для операционной электронно-лучевой терапии

Изобретение относится к приборам для электронно-лучевой обработки объектов и может использоваться для обработки изделий электронным лучом как при вертикальном, так и при горизонтальном положении рабочей камеры и лучевого тракта, в том числе в условиях низкого вакуума в рабочей камере

Изобретение относится к области изготовления полупроводниковых приборов

Изобретение относится к электротехнике, в частности к приборам и устройствам для термообработки материалов и изделий
Наверх