Способ антистатической обработки фотографических материалов

 

Использование: антистатическая обработка пленочных кинофотоматериалов. Сущность: фотоматериал обрабатывают в водно-спиртовом растворе фторсодержащего ПАВ формулы RfZQ, где Rf - CnFin-M при Z-CO, n - 6; 8; Rf-C2F5OCF2CF(CF3)OCF2CF2 при Z - S02; Q-NHtCH UCH cf при Z - СО, S02; u-NHlCH jN(CHi Апри Z - СО; А - СН2СОО-, СзНеЗОз ; О - NH4 при Z-COO, Rf-CnF2tvn; Q-NH4 при Z-ЗОэ, Rr C2F50CF2CF(CF3)6CF2CF2, с последующей сушкой. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК

1 793423 А1 (! 9) (! 1) (м)э G 03 С 11/06

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ при 2 — CO, ЯОг;

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

1 (21) 4792996/04 (22) 13.12.89 (46) 07.02.93; Бюл. М 5 (71) Красногорский механический завод (72) В.В.Павлин, О.А.Стрижов, А.П.Карпов, Н.А,Рябинин, К.И.Серушкин, Д.Я.Касаева, Е.Б.Баблюк, М.Н.Медников и В.И.Лукашин (56) Актуальные аспекты применения фторсодержащих соединений в фотографических материалах; М,: НИИТЭХИМ, 1986, Обзорная информация. Сер: химико-фотографическая промышленность, с.9-12. (54) СПОСОБ АНТИСТАТИЧЕСКОЙ 06РА БОТКИ ФОТОГРАФИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к фотографическим материалам и может быть использовано при изготовлении черно-белых, цветных и спектрозональных фотоматериалов.

Известен способ антистатической обра- ботки фотоматериала в растворе фторсодержащего поверхностно-активного вещества (Ч

Обработка фотопленки типа 42 в известном фторсодержащем поверхностно-активном веществе общей формулы

H(CF2CF2)nCH20H, где n = 1-3, и последующие ее испытания (см. пример 1 и таблицу) показали неудовлетворительно низкиеантистатические свойствафотопленки, что приводит в процессе эксплуатации к засветке светочувствительного слоя еледами разрядов статического электричества.

Цель изобретения — улучшение антистатических свойств фотографического материала, (57) Использование: антистатическая обработка пленочных кинофотоматериалов.

Сущность: фотоматериал обрабатывают в водно-спиртовом растворе фторсодержащего ПАВ формулы R(ZQ, где R(— CnF2n+1 при Z-CO, n - 6; 8;

Rr— - С2Р50СРгСР(СРз)ОСР2СРг при 2 — ЯОг;

Ч-нн(снг) Й(снз) 1С1 с,н,он при Z СО, Я02, g-1411(СН1) Д4(СН 2

Л при 2 — CÎ;

А — СН2СОО-, СзН6$0з, 0 — NH4 при 2 — СОО, В1 СпРгп+1; Q-NH4 при Z— - $0з - R(C2Fs0CF2CF(CFg)OCF2CF2, с последующей сушкой. 1 табл.

Цель достигается тем, что в способе антистатической обработки поверхности материала фторсодержащим поверхностноактивным веш еством в отличие от известного обработку материала производят в

0,5-1,07-ном спиртовом растворе фторсодержащего вещества общей формулы I

RgZQ, где Rf — CnF2n+1 при Z — СО, и - 6; 8; й(— C2FSOCF2CF(CFa)OCF2CF2 при 2 — $02;

Ч нн(сн11зЖсщ2с1

С1НФОН а-нн(сн,),н<сн,), з, г при 4. — СО, Л

А — CH2C00- СзН6ЯОз;

0 — NH4 при Z — СОО, R(CnF2n+1, 0 NH4 при Z — ЯОзйг=СгЕ5ОСРгСГ(СГз)ОСРгСРг. с последующей сушкой, 1793423

Для экспериментальной проверки предлагаемого способа фотографические материалы тип 42, ТУ6-17-1191-87, тип СИ10 ТУ 6-17-1001-86, тип 38 ТУ 6-17-1419-87 были подвергнуты обработке в спиртовых растворах фторсодержащих поверхностноактивных веществ общей формулы l.

Обработанные антистатиком образцы материалов были подвергнуты испытаниям, в результате которых определяли антистатические свойства фотоматериалов: электризуемость — определяемая величиной заряда и временем стекания заряда со стороны контрслоя и со стороны эмульсии, и фотографические: светочувствительность

So,2, коэффициент контрастности у,оптическая плотность вуали.

Результаты испытаййй приведены B таблице.

Пример 1 (прототип). Фотографический материал тип 42, ТУ 6-17-1191-87 пропускают через кювету с 1 -ным спиртовым раствором вещества H(CFzCFz)nCH20H, где

n=1-3, при температуре 20» 2 С в течение 1 мин с последующей сушкой в течение 5 мин при 30 С.

Пример 2, Фотографический материал тип 42 ТУ 6-17-1191-87 пропускают через кювету с 0,5 -ным спиртовым раствором вещества формулы (свг,„сомйс,н,ы(сну дс1, С2Я ОН при 20+ C в течение 1 мин с последующей сушкой в течение 5 мин при 30 С.

Пример 3. Фотографический материал тип CH-10 ТУ 6-17-1001-86 пропускают через кювету с 1 -ным спиртовым раствором вещества формулы .

+ (C>F>OCF>CF LCF>)OCF>C F>S0 NH(CH>)>H(CH )>/C4

I су,он при 20+2 С в течение 1 мин с последующей сушкой в течение 5 мин при 30 С.

Пример 4. Фотографический материал тип 38 ТУ 6-17-1419-87 пропускают через кювету с 0,8 -ным спиртовйм раствором вещества формулы (C Г1 СОЫНС Н Н 1СНЫ11С1

СН,СН,ОН

Пример 5. Фотограф ческий материал тип CH-10 TY. 6-17-1001-86 пропускают через кювету с 1,0 -ным спиртовым раствором вещества формулы

СвР1тСООМН4 при 20»-2ОС в течение 1 мин с последующей сушкой в течение 5 мин при 30 С.

Пример 6. Фотографический материал тип 42 ТУ6-17-1191-87 пропускают через кювету с 1,2 -ным раствором вещества формулы

С6 СОИКС Н6 1(СНЗ 2

СН,С00 при 20»-2 С в течение 1 мин с последующей сушкой в течение 5 мин при 30 С.

Пример 7. Фотографический материал тип 38 ТУ6-17-1419-87 пропускают через кювету с 1,0 -ным спиртовым раствором вещества формулы

С2Р5ОСР2СГ(СГз)ОСР2СГ230зй Н4 при 20 С в течение 1 мин с последующей сушкой в течение 5 мин при 30 С, .

Пример 8. Фотографический мате20 риал тип CH-10 ТУ6-17-1001-86 пропускают через кювету с 0,75 -ным спиртовым раствором вещества формулы

С6Г1ЪСОЙСЗ Ч6ф(СК Qg

C@H ISO при 20+2 Ñ в течение 1 мин с последующей сушкой при 30 С в течение 5 мин, . Пример 9. ФотографичеСкий материал тип 42 ТУ6-17-1191-87 пропускают через

30 кювету с 0,3 -ным спиртовым раствором вещества формулы (C 11F) CONHC H gN (CH g) ) Cl

С, Н 0Н при 20 С в течение 1 мин с последующей сушкой в течение 5 мин при 30 С..

Из сравнения электрических показателей фотографических материалов, обработанных предложенным и известным

40 фторсодержащими поверхностно-активными веществами следует, что фотографические материалы любого типа, обработанные предложенными способом и предложенным фторсодержащим поверхностно-активным веществом, обладают более высокими антистатическими свойствами: меньшей величиной зарядки и более быстрым стеканием электрического заряда с поверхности пленки. Оптимальной концентрацией спиртового раствора предложенного фторсодержащего поверхностно-активного вещества является 0,5-1 $. При уменьшении или увеличении концентрации антистатические свойства имеют тенденцию к уменьше55 нию, Фотографические свойства фотографических материалов при обработке не изменились, 1793423

Составитель В. Павлин

Редактор С. Кулакова Техред M.Ìîðãåíòàë Корректор М. Андрушенко

Заказ 504 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва. Ж-35, Раушская наб., 4/5

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина. 101

Формула изобретения

Способ антистатической обработки фотографических материалов, заключающийся в обработке поверхности материала в растворе фторсодержащего поверхностноактивного вещества, отличающийся тем, что, с целью улучшения антистатических свойств, обработку материала производят в 0,5 — 1,0 -ном спиртовом растворе фторсодержащего поверхностно-активного вещества общей формулы

R при 2=CO, n = б; 8;

Вг=СгР5ОСРгСР(СГз)ОСРгСЕг при Z- $0г;

I +

Я-ЙН(СН,),N(CH>),с!

С2Н %он

5 при 2 = СО: ЯОг: ц-нн(сн,,н(сн ), при Z=CO;

10 А = СНгСОО-; СзН6ЯОз;

0 - NH4 при 2 = СОО, Rf=CnF2n+3;

0- ИН4 при Z = $0з, Rg = CzFsOCF2CFa)OCFzCFz, с последующей сушкой.