Устройство для нанесения многослойных покрытий в вакууме

 

Изобретение относится к устройствам для нанесения многослойных покрытий в вакууме в непрерывном режиме. Сущность: в устройстве для нанесения многослойных покрытий дополнительная вакуумная камера снабжена системой для очистки подложек, а камера загрузки дополнительно системой предварительного нагрева, каждое вакуумно-перекрываемое шлюзовое окно выполнено в виде корпуса с соосными входным и выходным отверстиями, вакуумная заслонка выполнена в виде элементов с плоскопараллельными поверхностями с канавкой, расположенной по периметру его уплотняющей поверхности и служащей для размещения уплотнения с возможностью контактирования уплотнения с внутренней поверхностью корпуса по периметру вакуумно-перекрываемого выходного отверстия и установлена в корпусе с возможностью перемещения до прекращения ее взаимного перекрывания с вакуумноперекрываемым выходным отверстием, а приводной механизм для уплотнения вакуумной заслонки выполнен в виде гидроприводов со штоками, размещенными с возможностью уплотнения вакуумно-перекрываемого выходного отверстия вакуумной заслонкой посредством рычажной системы, подвижно закрепленной на конце соответствующего штока, при этом транспортирующий подложки механизм размещен в каждой камере с возможностью последовательной передачи подложек в каждую из последовательно расположенных камер через соответствующие соединяющие камеры вакуумно-перекрываемые шлюзовые окна. 5 з.п.ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к вакуумной технике, в частности, к устройствам для нанесения многослойных покрытий в вакууме в непрерывном режиме, и может быть использовано при конструировании устройств для нанесения многослойных покрытий на крупногабаритные подложки, преимущественно, при тонировании стеклянных пластин.

Если на одно из стекол двойной рамы нанести специальную светопрозрачную пленку, то она станет зеркалом для инфракрасного излучения и будет возвращать тепловое излучение обратно в помещение. Такое стекло называется энергосберегающим. Использование энергосберегающего стекла в строительном комплексе может сэкономить до 15% энергоресурсов за отопительный сезон.

Использование энергосберегающего стекла в средней полосе России может обеспечить экономию до 45 кг условного топлива на 1 кв.м стандартного жилья. При использовании такого стекла в общественных зданиях экономия энергоресурсов может быть еще больше, поскольку коэффициент остекления здесь намного выше, чем в жилых помещениях.

Иная модификация пленки придает стеклу солнцезащитные свойства, сохраняя помещение прохладным в жаркие летние дни и, тем самым, уменьшая затраты на кондиционирование.

Технически возможно один и тот же оконный блок сделать и энергосберегающим и солнцезащитным.

Энергосберегающее стекло обладает широкой световой гаммой и зеркальным блеском. Его использование в градостроении создало новый архитектурный стиль во многих странах мира.

Организация экологически чистого массового производства энергосберегающего стекла в России и его широкое использование в строительстве обеспечат существенное сбережение энергоресурсов при одновременном улучшении экологической обстановки, что особенно актуально для больших городов.

В связи с вышеизложенным очень серьезной является проблема предварительной эффективной очистки поверхности крупногабаритных подложек перед процессом нанесения покрытий в вакууме, которая в последнее время стала одним из решающих факторов при нанесении прочных покрытий высокого качества. Причем в случае нанесения покрытия на крупногабаритные (до 2000 х 3000 мм) подложки, например такие, как стеклянные подложки для энергосберегающих окон и т.п. значимость этой проблемы повышается многократно за счет того, что сами подложки, процесс полировки их поверхностей и процесс нанесения на них покрытий стоят довольно дорого. А в случае применения крупногабаритных подложек из дорогостоящих материалов типа меди, алюминия, их сплавов и т.д. и нанесении многослойных покрытий (также из дорогостоящих материалов типа циркония, гафния, золота и т.д.) при создании элементов металлооптики, стоимость полировки их поверхностей и нанесение на них покрытий составляет до 100 тыс.дол. для каждого такого элемента. В этом случае отслоение даже самого малого элемента покрытия на общей площади до 6 кв.м. приводит к выходу всего элемента из строя, что влечет за собой удаление всего покрытия с безвозвратной, как правило, потерей материалов, переполировке поверхности подложек, их очистку от поверхностных загрязнений и повторное нанесение многослойных покрытий.

В существующей вакуумной аппаратуре не предусмотрена система очистки поверхности подложек перед процессом нанесения многослойных покрытий в вакууме, либо такая очистка поверхности подложек осуществляется на отдельном оборудовании, часто в другом помещении, что повышает вероятность внесения на очищенную поверхность при транспортировке подложек в устройство для нанесения многослойных покрытий и при их загрузке технологических загрязнений и, как следствие, также повышает вероятность выхода бракованных изделий. Кроме того, в существующих устройствах вакуумные затворы между отдельными камерами не обеспечивают возможность перемещения крупногабаритных подложек из камеры при обеспечении одновременного сохранения соответствующего высоковакуумного режима в камерах, связанных друг с другом посредством этих вакуумных затворов.

Известно устройство для нанесения многослойных покрытий в вакууме, содержащее последовательно установленные рабочие камеры, снабженные испарителями и индивидуальными системами высоковакуумной откачки, первая из которых соединена через последовательно установленные буферные камеры, снабженные низко- или высоковакуумными системами откачки и системой предварительного нагрева в по крайней мере одной из буферных камер, с камерой загрузки, снабженной механизмом загрузки, а последняя из рабочих камер соединена через соответствующие буферные камеры, снабженные низко- и высоковакуумными системами откачки, с камерой выгрузки, снабженной механизмом выгрузки, и транспортирующий подложки механизм, размещенный в каждой камере с возможностью последовательной передачи подложек из камеры в камеры через соответствующие вакуумно-перекрываемые шлюзовые окна [1] Однако в известном устройстве не предусмотрена система для очистки поверхности подложек перед процессом нанесения многослойных покрытий в вакууме, что снижает качество наносимых покрытий и повышает вероятность выхода бракованных изделий. Кроме того, в известном устройстве шлюзовые окна между отдельными камерами не обеспечивают возможности перемещения крупногабаритных подложек из камеры в камеру при обеспечении одновременной сохранности соответствующего высоковакуумного режима в камерах, связанных друг с другом посредством этих шлюзовых окон. В результате этого, в известном устройстве для возможности обеспечения высоковакуумного режима в рабочих камерах требуется наличие трех буферных камер со стороны каждой из рабочих камер с низко- и высоковакуумными системами откачки, что конструкционно усложняет и значительно увеличивает массо-габаритные характеристики и стоимость всего устройства в целом. В известном устройстве в камере выгрузки не предусмотрена система вакуумной откачки, что также требует наличия многочисленных буферных камер.

Наиболее близким техническим решением (прототипом) является устройство для нанесения многослойных покрытий в вакууме, содержащее последовательно установленные рабочие камеры, снабженные испарителями и нагревателями, камеры загрузки и выгрузки, снабженные механизмами загрузки, которые соединены с первой и последней рабочими камерами, соответственно, через дополнительную вакуумную камеру, установленную параллельно рабочим камерам и служащую для размещения в ней транспортирующего подложки механизма,сообщающегося с каждой из остальных камер посредством вакуумно-перекрываемых шлюзовых окон с вакуумными заслонками, расположенных на боковой стенке дополнительной камеры в местах присоединения к ней остальных камер, и приводами, при этом камеры снабжены системами вакуумной или высоковакуумной откачки [2] Однако в известном устройстве не предусмотрена система для очистки поверхности подложек перед процессом нанесения многослойных покрытий в вакууме и система предварительного подогрева подложек, что снижает качество наносимых покрытий и повышает вероятность выхода бракованных изделий. Кроме того, в известном устройстве шлюзовые окна между отдельными камерами не обеспечивают возможности перемещения крупногабаритных подложек из камеры в камеру, а размещение транспортирующего подложки механизма в дополнительной камере приводит к его конструкционному усложнению за счет необходимости введения в него механизма подвода и отвода подложки в каждую из последовательно расположенных камер. Отсутствует также система предварительного подогрева подложек, что увеличивает длительность технологического процесса нанесения покрытий и снижает их качество.

Целью изобретения является расширение функциональных возможностей устройства посредством введения в него системы предварительной очистки подложек при повышении качества наносимых многослойных покрытий.

Это достигается тем, что в устройстве для нанесения многослойных покрытий в вакууме, содержащем последовательно установленные рабочие камеры, снабженные испарителями, нагревателями и индивидуальными системами высоковакуумной откачки, камеры загрузки и выгрузки, снабженные механизмами загрузки и выгрузки, первая из которых соединена с первой рабочей камерой через дополнительную вакуумную камеру, а последняя установлена последовательно с последней рабочей камерой, транспортирующий подложки механизм, размещенный в дополнительной вакуумной камере и сообщающийся с каждой из остальных камер посредством вакуумно-перекрываемых шлюзовых окон с вакуумными заслонками с приводными механизмами для их уплотнения, при этом камера выгрузки и дополнительная вакуумная камера снабжены системами вакуумной откачки, в отличие от прототипа, дополнительная вакуумная камера снабжена системой для очистки подложек, а камера загрузки дополнительно системой предварительного нагрева, каждое вакуумно-перекрываемое шлюзовое окно выполнено в виде корпуса с соосными входным и выходным отверстиями, вакуумная заслонка выполнена в виде элементов с плоскопараллельными поверхностями с канавкой, расположенной по периметру его уплотняющей поверхности и служащей для размещения уплотнения, с возможностью контактирования уплотнения с внутренней поверхностью корпуса по периметру вакуумно-перекрываемого выходного отверстия и установлена в корпусе с возможностью перемещения до прекращения ее взаимного перекрывания с вакуумно-перекрываемым выходным отверстием, а приводной механизм для уплотнения вакуумной заслонки выполнен в виде гидроприводов со штоками, размещенными с возможностью уплотнения вакуумно-перекрываемого выходного отверстия вакуумной заслонкой посредством рычажной системы, подвижно закрепленной на конце соответствующего штока, при этом транспортирующий подложки механизм размещен в каждой камере с возможностью последовательной передачи подложек в каждую из последовательно расположенных камер через соответствующие соединяющие камеры вакуумноперекрываемые шлюзовые окна.

Испарители в рабочих камерах могут быть выполнены в виде магнетронов, а система для очистки подложек в виде системы ионной очистки в среде высокочастотного газового разряда.

Транспортирующий подложки механизм может быть выполнен с возможностью одновременного последовательного перемещения по крайней мере двух подложек в соответствующих камерах.

Вакуумная заслонка может быть установлена в корпусе с возможностью перемещения вдоль вакуумно-перекрываемого выходного отверстия, при этом рычажные системы с частью соответствующего штока размещены в корпусе.

Рычажная система может контактировать с тыльной поверхностью вакуумной заслонки посредством регулируемых по высоте круглых юстировочных винтов, установленных на торцевой поверхности рычажной системы.

Вакуумные заслонки могут быть выполнены в виде элементов прямоугольной формы, а рычажные системы в корпусе расположены с возможностью контактирования с тыльной поверхностью вакуумной заслонки посредством регулируемых по высоте круглых юстировочных винтов симметрично относительно большой оси симметрии вакуумной заслонки.

На фиг. 1 представлена принципиальная схема устройства для нанесения многослойных покрытий в вакууме; на фиг. 2 вакуумно-перекрываемого шлюзового окна (вид сверху); на фиг. 3 схема уплотнения вакуумной заслонки посредством рычажной системы гидроцилиндров (вид спереди).

Устройство для нанесения многослойных покрытий в вакууме содержит последовательно установленные камеру загрузки 1, снабженную механизмом загрузки 2 и системой предварительного нагрева 3, дополнительную вакуумную камеру 4, снабженную системой для ионной очистки 5 подложек 6 в среде высокочастотного газового разряда, рабочие камеры 7, снабженные магнетронами 8 и нагревателями 9, и камеру выгрузки 10, снабженную механизмом выгрузки 11, с размещенным в них с возможностью последовательной передачи подложек 6 в каждую из последовательно расположенных камер 1,4,7,10 через соответствующие соединяющие камеры 1,4,7,10 вакууумно-перекрываемые шлюзовые окна 12 транспортирующим подложки 6 механизмом 13, выполненным с возможностью одновременного последовательного перемещения по крайней мере двух подложек 6 в соответствующих камерах 1,4,7,10, при этом каждое вакуумно-перекрываемое шлюзовое окно 12 выполнено в виде корпуса 14 с соосными входным 15 и выходным 16 отверстиями с вакуумной заслонкой 17 в виде элемента прямоугольной формы с плоскопараллельными уплотняющей 18 и тыльной 19 поверхностями с уплотнением 20, размещенным в канавке 21. расположенной по периметру его уплотняющей поверхности 18 с возможностью контактирования с внутренней поверхностью корпуса 14 по периметру вакуумноперекрываемого выходного отверстия 16, и установленного в корпусе 14 с возможностью перемещения вдоль вакуумно-перекрываемого выходного отверстия 16 до прекращения их взаимного перекрывания, а приводной механизм 22 для уплотнения вакуумной заслонки 17 выполнен в виде гидроприводов 23 со штоками 24, частично размещенными в соответствующем корпусе 14 с возможностью уплотнения вакуумно-перекрываемого выходного отверстия 16 вакуумной заслонкой 17 посредством рычажной системы 25, контактирующей с тыльной поверхностью 19 вакуумной заслонки 17 регулируемыми по высоте круглыми юстировочными винтами 26, установленными на торцевой поверхности 27 соответствующей рычажной системы 25, при этом рычажная система расположена симметрично относительно большой оси 28 прямоугольного элемента вакуумной заслонки 17, причем рабочие камеры 7 снабжены индивидуальной высоковакуумной откачки 29, а камера выгрузки 10 и дополнительная вакуумная камера 4 снабжены индивидуальными системами вакуумной откачки.

Устройство для нанесения многослойных покрытий в вакууме работает следующим образом.

Кассету с подложкой 6, например, из пластины стекла габаритом 2000<19% 3000 мм, загружают посредством механизма загрузки 2 в камеру загрузки 1 (фиг. 1) и с помощью системы предварительного нагрева 3 осуществляют подогрев стеклянных подложек 6 до 150-200oС. После чего подают подложку 6 через вакуумно-перекрываемое шлюзовое окно 12 в дополнительную вакуумную камеру 4 посредством транспортирующего подложки 6 механизма 13. Транспортировку стеклянной подложки 6 осуществляют при их установке в вертикальном положении. В предварительно откаченной до давления Р 510-2 мм рт.ст. дополнительной вакуумной камеры 4 осуществляют очистку рабочей поверхности стеклянных пластин ионами, например, в среде высокочастотного газового, например, аргоно-кислородной смеси при давлении Р 0,1-10 мм рт.ст. разряда посредством системы ионной очистки 5, например,ВЧ-генератором мощностью 3 КВт и частотой 10 КГц. размещенном в отдельном шкафу.

Очищенные стеклянные пластины посредством транспортирующего подложки 6 механизма 13 через очередное вакуумноперекрываемое шлюзовое окно 12 подают в предварительно откаченную до давления Р 510-5 мм рт.ст. первую рабочую камеру 7, где осуществляют нанесение покрытия с использованием магнетронов 8 методом магнетронного распыления при постоянном токе.

При этом шкаф источников питания магнетронов 8 состоит, например, из двух независимых каналов питания магнетронов 8 с аналогичными характеристиками, и обеспечивает стабилизацию ионного тока, задаваемого вручную, в пределах от 1 до 10 А с точностью 1% при напряжении 800 В. Дискретность установки тока составляет 1 А. Мощность каждого канала источника составляет 25 КВт.

В случае необходимости нанесения двухслойных покрытий, например, Сu/TiO2 покрытие толщиной от 100 А, используют вторую предварительно откаченную до давления Р 510-2 мм рт.ст. рабочую камеру 7. Напыление осуществляют на движущуюся стеклянную пластину с использованием, например 4 магнетронов 8. Необходимые режимы давление рабочего газа, токи магнетронов 8, скорость движения кассеты с подложкой 6, контроль толщины покрытия, температуру подогрева подложки 6, обеспечивающие параметры напыления, устанавливаются оператором и автоматически стабилизируются. Для получения многослойных покрытий в транспортирующем подложки 6 механизме 13 предусмотрен реверс кассеты с подложками 6 с одновременным напылением. Контроль толщины покрытий на подложках 6 осуществляют, например, посредством оптического контроля.

Нагреватели 9 обеспечивают нагрев и поддержание температуры подложки в диапазоне 160-200С.

Датчик измерения температуры выполнен, например, в виде термопары, а нагрев осуществляется, например шестью трубчатыми ИК-нагревателями номинальной мощностью 1000 Вт.

Во второй рабочей камере 7 осуществляют напыление второго слоя покрытия, например ТiО2.

Далее напыленную стеклянную пластину из второй рабочей камеры 7 посредством транспортирующего подложки 6 механизма 13 через соответствующее вакуумно-перекрываемое шлюзовое окно 12 перемещают в предварительно откаченную до давления Р 510-2 мм рт.ст. камеру выгрузки 10, где после охлаждения подложки 6 осуществляют разгерметизацию камеры выгрузки 10 и выгрузку из нее готовой пластины тонированного энергосберегающего стекла посредством механизма выгрузки 11.

В установке для нанесения многослойных покрытий в вакууме одновременно находится, например, 3 стеклянных пластины, и с каждой из них производят одновременно свою технологическую операцию (загрузку с нагревом, чистку, напыление).

Количество рабочих камер 7 может варьироваться, и в зависимости от многослойности напыляемого покрытия число рабочих камер может возрастать. Все камеры 1,4,7,10 снабжены системами напуска газа.

Установка снабжена шкафом управления и может работать как в автоматическом, так и в ручном режимах.

В качестве индивидуальных систем высоковакуумной и вакуумно откачки в рабочих камерах 7 и дополнительной вакуумной камере 4 и камере выгрузки 10 используют,например, насосы типа АВП 630/18000 и АВЗ-125Д, соответственно.

Вакуумно-перекрываемые шлюзовые окна 12 служат для разделения вакуумных камер 1,4,7,10 друг от друга и от атмосферы, а также для осуществления перемещения крупногабаритных (до 20003000 мм) подложек 6 через них из камеры в камеру.

Перемещение кассеты с подложкой 6 из камеры в камеру через соответствующие вакуумно-перекрываемые шлюзовые окна 13 осуществляют следующим образом (фиг. 2,3).

После достижения необходимого рабочего вакуума в соседних камерах, например, в дополнительной вакуумной камере 4 и рабочей камере 7, осуществляют отвод от тыльной поверхности 19 вакуумной заслонки 17 рычажной системы 25 с круглыми юстировочными винтами 26 на их торцевой поверхности 27 посредством втягивания штоков 24 в соответствующие гидроприводы 23, в качестве которых используют, например, гидроцилиндры 1-50-16-МН2255-61. При этом рычажная система 25 занимает положение, обозначенное на фиг. 2 пунктиром.

Затем осуществляют перемещение вакуумной заслонки 17 вдоль вакуумно-перекрываемого выходного отверстия 16 до прекращения их взаимного перекрывания посредством, например, гидроцилиндра 1-40-125-МН2255-61. При этом вакуумная заслонка 17 занимает положение, обозначенное на фиг. 2 пунктирной линией.

После этого шлюзовое окно 12 готово для проведения операции перемещения кассеты с подложкой 6 из камеры 4 в камеру 7.

Такое перемещение осуществляют посредством транспортирующего кассету с подложкой 6 механизма 13. после чего производят операцию закрытия шлюзового окна 12.

При этом вакуумную заслонку 17 из положения, обозначенного пунктиром на фиг. 2, перемещают в обратном направлении вдоль вакуумно-перекрываемого выходного отверстия 16 посредством гидроцилиндра 1-40-125-МН2255-61 до положения, обеспечивающего возможность полного перекрывания выходного отверстия 16 вакуумной заслонкой 17. Затем осуществляют уплотнение вакуумной заслонки 17 посредством контактирования с круглыми юстировочными винтами 26 рычажной системы 25, обеспечиваемого выдвижением штоков 24 из соответствующих гидроцилиндров 1-50-16-МН2255-61. При этом рычажная система 25 вновь занимает положение, обозначенное сплошными линиями на фиг. 2. В результате прикладывания при этом давления с помощью гидроцилиндров (порядка 1150 кгс на каждый гидроцилиндр) происходит уплотнение вакуумно-перекрываемого выходного отверстия 16 по его периметру на внутренней поверхности корпуса 14 с помощью уплотнения 20, выполненного, например, из резины 7889 ГОСТ 38-105108-76, и размещенного на уплотняющей поверхности 18 в канавке 21 вакуумной заслонки 17. В результате этого шлюзовое окно 12 занимает положение ЗАКРЫТО.

Перемещение вакуумной заслонки 17 относительно вакуумно-перекрываемого выходного отверстия 16 до прекращения их взаимного перекрывания может быть обеспечено также при вращении вакуумной заслонки 17 вокруг оси, проходящей вдоль одной из ее торцевых поверхностей. При этом рычажная система 25 со штоком 24 может частично выступать из корпуса 14.

Вакуумная заслонка 17 представляет собой прямоугольник с плоскопараллельными уплотняющей 18 и тыльной 19 поверхностями типа двери,обеспечивающей перекрытие выходного отверстия 16 и прохождение через него транспортирующего кассету с подложками 6 (габаритом до 20003000 мм) механизма 13 (при размещении подложки 6 в вертикальном положении с высотой до 2000 мм).

Величину уплотняющего давления на тыльную поверхность 19 вакуумной заслонки 17 устанавливают посредством регулирования выдвижения по высоте круглых юстировочных винтов 26 на торцевой поверхности 27 соответствующей рычажной системы 25. В качестве круглых юстировочных винтов 26 используют, например, винт М-2440.

Для реализации возможности уплотнения вакуумно-перекрываемого выходного отверстия 16 вакуумной заслонкой 17 площадью, обеспечивающей прохождение транспортирующего механизма 13 с кассетой с подложкой габаритом до 2000 х 3000 мм, требуется, как правило, шесть расположенных симметрично относительно большой оси 28 симметрии прямоугольной вакуумной заслонки 17 соответствующих рычажных систем 25, приводимых в движение соответствующими им шестью гидроцилиндрами со штоками 24 (фиг.3).

Режим работы других шлюзовых окон 12 между другими камерами является аналогичным.

На основании вышеизложенного предлагаемое устройство для нанесения многослойных покрытий в вакууме обеспечивает достижение следующего технического результата.

Расширение функциональных возможностей устройства посредством введения в него системы предварительной очистки крупногабаритных подложек.

Повышение качества наносимых многослойных покрытий за счет предварительной очистки подложек и возможности обеспечения их предварительного подогрева при выходе годных изделий почти 100 (на 2-3 выше, чем по прототипу) и повышении ресурса их работы не менее чем в 2 раза.

Обеспечение возможности нанесения многослойных покрытий на крупногабаритные подложки габаритом до 20003000 мм при обеспечении сохранения высоковакуумного режима между камерами посредством применения специальных шлюзовых окон.

Упрощение конструкции транспортирующего механизма за счет исключения механизма подачи и отвода подложек в нем в каждую камеру.

Формула изобретения

1. Устройство для нанесения многослойных покрытий в вакууме, содержащее последовательно установленные рабочие камеры с нагревателями, испарителями и индивидуальными системами высоковакуумной откачки, камеру загрузки с механизмом загрузки, соединенную с первой рабочей камерой через дополнительную вакуумную камеру с системой вакуумной откачки, камеру выгрузки с механизмом выгрузки и с системой вакуумной откачки, механизм транспортировки подложки, сообщенный с каждой камерой посредством вакуумно-перекрываемых шлюзовых окон и заслонок с приводными механизмами для их уплотнения, отличающееся тем, что дополнительная вакуумная камера выполнена с системой очистки подложек, камера загрузки с системой предварительного нагрева, камера выгрузки непосредственно соединена с последней рабочей камерой, шлюзовое окно выполнено в виде корпуса с соосными входным и вакуумно-перекрываемым выходным отверстиями, заслонка выполнена в виде установленного в корпусе с возможностью перемещения до оси выходного отверстия элемента с плоскопараллельными поверхностями и с расположенной по периметру на поверхности, обращенной к выходному отверстию, канавкой с уложенным в ней уплотнителем, приводной механизм для уплотнения выполнен в виде гидропривода со штоками, концы которых шарнирно соединены с рычажной системой, имеющей возможность контактирования с заслонкой, механизмы транспортировки подложки расположены в каждой камере с возможностью последовательной передачи подложек в каждую из последовательно размещенных камер через вакуумно-перекрываемые шлюзовые окна.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что испарители выполнены в виде магнетронов, а система очистки подложек в виде системы ионной очистки в среде высокочастотного газового разряда.

3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что механизм транспортировки подложек выполнен с возможностью одновременного последовательного перемещения по крайней мере двух подложек в соответствующих камерах.

4. Устройство по любому из пп.1 3, отличающееся тем, что рычажная система и частично соответствующий ей шток размещены в корпусе.

5. Устройство по любому из пп.1 4, отличающееся тем, что рычажная система имеет возможность контактирования с обращенной к выходному отверстию поверхностью заслонки посредством регулируемых по высоте круглых юстировочных винтов, установленных на торцевой поверхности соответствующих рычагов рычажной системы.

6. Устройство по любому из пп.1 4, отличающееся тем, что вакуум-заслонки выполнены в виде элементов прямоугольной формы, а рычажные системы расположены в корпусе симметрично относительно продольной оси заслонки.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к нанесению покрытий в экологически чистых вакуумных средах и может быть использовано в автоматизированных установках для производства интегральных микросхем

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий на изделия в вакууме и может быть использовано в различных отраслях промышленности для нанесения защитных, упрочняющих, декоративных и прочих покрытий с целью улучшения свойств материалов и внешнего вида изделий

Изобретение относится к вакуумной технике, в частности к элементам вакуумных и чистых технологических систем, и может найти применение для ввода объектов в камеру с чистой технологической средой или извлечения из нее без нарушения среды

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме или "чистых" технологических средах, а именно к шлюзовым устройствам

Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано в технологии получения тонких слоев различных материалов методом термического испарения в вакууме

Изобретение относится к способам вакуумной металлизации поверхности диэлектриков, в частности подложек из гибкой диэлектрической пленки

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для автоматического шлюзования изделий, преимущественно плоской формы

Изобретение относится к обработке изделий электрическими средствами и может быть использовано для нанесения тонких покрытий в вакуумно-плазменной технологии микроэлектроники

Изобретение относится к системам ультравысокого вакуума для обработки полупроводникового изделия, к геттерным насосам, используемым в них, и к способу обработки полупроводникового изделия

Изобретение относится к области нанесения покрытий, различных по назначению и составу, и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к технологии вакуумно-дуговой обработки металлов, в частности к производству многослойных лент
Изобретение относится к изготовлению приборов оптоэлектроники и может быть использовано при изготовлении дисплеев, светоизлучающих диодов и затворов полупроводниковых структур типа металл-диэлектрик-полупроводник

Изобретение относится к области изготовления самонесущих тонких пленок, в частности, к способам и устройствам для получения бериллиевой и бериллийсодержащей фольги, используемых для окон при регистрации низкоэнергетических излучений, и может найти применение в прикладной физике, машиностроении, при обработке металлов и в других отраслях промышленности

Изобретение относится к промышленному транспорту, в частности к устройству для непрерывной загрузки емкостей, например пластиковых бутылок

Изобретение относится к области нанесения покрытий и может быть использовано в машиностроении, электронной, электротехнической, медицинской и других отраслях промышленности

Изобретение относится к геттерной системе для очистки газовой рабочей атмосферы в процессах физического осаждения из паровой фазы
Наверх