Установка для нанесения покрытий в вакууме

 

Изобретение относится к установкам для нанесения покрытия в вакууме. В основу изобретения положена задача повысить качество технологического процесса напыления, при повышении экологических, эргономических показателей и дизайна установки. Эта задача решается тем, что вакуумная камера выполнена в виде куба с ребрами жесткости, число которых на каждой стенке вакуумной камеры не менее четырех, источник напыляемого материала выполнен ионным, с возможностью использования магнитной системы в виде прямоугольных концентрических магнитов, установленных друг к другу одноименными полюсами, вакуумная установка смонтирована в пылезащитном кожухе, с возможностью встраивания в чистую комнату, таким образом, чтобы в рабочее помещение чистой комнаты входили только передние панели вакуумной камеры установки и системы управления процессом напыления, вакуумная система снабжена дополнительно вибронатекалем, расположенным вблизи проходного отверстия высоковакуумного насоса и криопанелью, выполненной по пяти сторонам куба, с отверстиями на каждой стороне криопанели, причем источник напыляемого материала расположен внутри криопанели. 7 ил.

Изобретение относится к области машиностроения, а более конкретно к установкам для нанесения покрытий в вакууме.

Известная установка для нанесения покрытий в вакууме [1] содержащая вакуумную систему и систему охлаждения.

Недостатком аналога является низкое качество технологического процесса напыления, за счет большего градиента давлений внутри вакуумной камеры, при низких экологических, эргономических показателях и дизайне установки.

Наиболее близкой по технической сущности и достигаемому результату является установка для нанесения покрытий в вакууме [2] содержащая вакуумную камеру, внутри которой расположен источник напыляемого материала и приемную поверхность напыляемого материала; вакуумную систему и систему управления процессом напыления.

Недостатком прототипа также является низкое качество технологического процесса напыления, за счет большого градиента давлений внутри вакуумной камеры, при низких экологических, эргономических показателях и дизайне установки.

В основу изобретения положена задача повысить качество технологического процесса напыления, при повышении экологических, эргономических показателей и дизайна установки.

Эта задача решается тем, что вакуумная камера выполнена в виде куба с ребрами жесткости, число которых на каждой стенке вакуумной камеры не менее четырех, источник напыляемого материала выполнен иным, с возможностью использования магнитной системы в виде прямоугольных концентрических магнитов, установленных друг к другу одноименными полюсами, вакуумная установка смонтирована в пылезащитном кожухе, с возможностью встраивания в чистую комнату, таким образом, чтобы в рабочее помещение чистой комнаты входили только передние панели вакуумной камеры установки и системы управления процессом напыления, вакуумная камера снабжена дополнительно вибронатекателем, расположенным вблизи проходного отверстия высоковакуумного насоса и криопанелью, выполненной по пяти сторонам куба, с отверстиями на каждой стороне криопанели, причем источник напыления материала и приемная поверхность напыляемого материала положены внутри криопанели.

Введение в установку для нанесения покрытий вакуумной камеры в виде куба, магнитной системы в виде прямоугольных концентрических магнитов, пылезащитного кожуха, с возможностью встраивания в чистую комнату, вибронатекателя расположенного вблизи проходного отверстия высоковакуумного насоса, криопанели, выполненной по пяти сторонам куба, с отверстиями на каждой стороне панели обеспечивает уменьшение градиента давлений внутри вакуумной камеры, равномерность покрытия, удобство обслуживания и красивый внешний вид, что и позволяет достичь указанную в формуле изобретения цель повышение качества технологического процесса напыления, при повышении экологических, эргономических показателей и дизайна установки.

Сопоставительный анализ заявляемой установки для нанесения покрытий и прототипа показывает, что предлагаемое техническое решение соответствует критерию изобретения "новизна".

Сравнение заявляемого технического решения не только с прототипом, но с другими техническими решениями в данной области техники, позволило выявить в них совокупность признаков, отличающих заявляемое техническое решение от прототипа, что позволяет сделать вывод о соответствии критерию "существенные отличия".

Сущность изобретения поясняется фиг.1, 2, 3, 4, 5, 6, 7.

На фиг.1 представлен общий вид установки для нанесения покрытий.

На фиг.2 схема вакуумной камеры.

На фиг.3 внешний вид вакуумной камеры.

На фиг.4 магнитная система установки.

На фиг.5 представлена установка в пылезащитном кожухе.

На фиг.6 планировка чистой комнаты с вакуумной установкой и системой управления.

На фиг.7 вакуумная схема установки.

Установка для нанесения покрытий в вакууме (фиг.1) содержит вакуумную камеру 1, внутри которой расположен источник напыляемого материала 2 и приемную поверхность напыляемого материала 3 (фиг.2) вакуумную систему 4 (фиг.1) и систему управления 5 (фиг.1) процессом напыления. Вакуумная камера 1 (фиг. 3) выполнена в виде куба 6 с ребрами жесткости 7, число которых на каждой стенке 8 вакуумной камеры 1 не менее четырех. Источник напыляемого материала 2 (фиг.2) выполнен ионным, с возможностью использования магнитной системы 9 (фиг. 2) в виде прямоугольных концентрических магнитов 10 (фиг.4), установленных друг к другу одноименными полюсами. Вакуумная установка (фиг.1) смонтирована в пылезащитном кожухе 11 (фиг.5), с возможностью встраивания в чистую комнату 12 (фиг.6), таким образом, чтобы в рабочее помещение 13 чистой комнаты 12 (фиг.6) входили только передние панели 14, 15 вакуумной камеры 1 и системы управления 5 процессом напыления. Вакуумная система 4 (фиг.7), состоящая из низковакуумных насосов 16, 17 высоковакуумного насоса 18, затвора 19 и клапанов 20, 21, 22, снабжена дополнительно вибронатекалем 23 (фиг. 7), расположенным вблизи проходного отверстия 24 высоковакуумного насоса 18 и криопанелью 25 (фиг.3, 7), выполненной по пяти сторонам куба 6, с отверстиями 26, которые выполнены сквозными. На каждой стороне 27 криопанели 25, причем источник напыляемого материала 2 и приемная поверхность напыляемого материала 3 расположены внутри криопанели 25.

Установка для нанесения покрытий (фиг.1-7) в вакууме работает следующим образом.

В вакуумной камере 1 достигается остаточное рабочее давление с рабочим газом, например, аргоном.

Затем происходит процесс напыления. При этом посредством вибронатекателя 23 и криопанели 25 в вакуумной камере 1 достигается минимальный градиент давлений в различных точках объема вакуумной камеры 2, а за счет использования магнитной системы 9 в виде прямоугольных концентрических магнитов 10 (фиг. 4), установленных друг к другу одноименными полюсами. Повышается равномерность напыления на изделия больших габаритов. Наличие пылезащитного кожуха 11, чистой комнаты 12 обеспечивает должную культуру технологического процесса напыления.

Применение предлагаемой установки для нанесения покрытий в вакууме обеспечивает повышение качества технологического процесса напыления, за счет уменьшения градиента давлений внутри вакуумной камеры 1, при улучшении экологических, эргономических показателей и дизайна установки за счет встраивания ее в чистую камеру 12.

Формула изобретения

Установка для нанесения покрытий в вакууме, содержащая вакуумную систему и вакуумную камеру, в которой расположены ионный источник напыляемого материала и приемная поверхность напыляемого материала, магнитную систему в виде прямоугольных концентричных магнитов, установленных друг к другу одноименными полюсами, отличающаяся тем, что вакуумная камера выполнена с ребрами жесткости, число которых на каждой стенке вакуумной камеры не менее четырех, вакуумная установка смонтирована в пылезащитном кожухе, а вакуумная система имеет дополнительно вибронатекатель, расположенный вблизи проходного отверстия высоковакуумного насоса, и криопанель, выполненную по пяти сторонам камеры с отверстиями на каждой стороне криопанели.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5, Рисунок 6, Рисунок 7



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к микроэлектронной промышленности, стремительное развитие которой требует резкого увеличения производства полуфабрикатов из алюминия особой чистоты (АОЧ) в виде распыляемых мишеней

Изобретение относится к области приборостроения и может быть использовано для изготовления магнитного носителя информации (магнитные ленты и диски)

Изобретение относится к области технологии нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано в производстве электрофотографических носителей изображения

Изобретение относится к вакуумной плазменной технологии, предназначено для чистки и напыления на поверхность изделий тонкопленочных защитных или декоративных покрытий и может использоваться в машиностроении, микроэлектронике, легкой и других отраслях промышленности

Изобретение относится к технике нанесения тонкопленочных покрытий в вакууме и может быть использовано в технологии производства полупроводниковых приборов, поверхностного легирования материалов, нанесения защитных и декоративных покрытий, получения различных пленочных структур

Изобретение относится к плазменной технике и вакуумной технологии нанесения покрытий и направлено на расширение технологических возможностей устройства и улучшение качества наносимых покрытий

Изобретение относится к технологии микроэлектроники и может быть использовано для изготовления интегральных схем

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме путем пучково-плазменного распыления

Изобретение относится к вакуумной электронной промышленности и предназначено для напыления тонких пленок, например резист-сплава типа РС-3710, ванадия, меди, никеля с использованием магнетронного эффекта

Изобретение относится к технологии получения вакуумных покрытий и может быть использовано при нанесении защитных, износостойких и декоративных покрытий, в частности на керамические и стеклянные облицовочные плитки

Изобретение относится к области покрытия металлических материалов, а также других материалов металлическими и диэлектрическими материалами и может быть использовано при разработке устройств для вакуумного нанесения покрытий методом магнетронного распыления, а более конкретно магнитных систем планарного магнетрона в установках вакуумного нанесения покрытия на различные подложки, в том числе на полимерные пленки

Изобретение относится к рентгеновской оптике, в частности, к устройствам для отражения, поворота, деления, фокусировки и монохроматизации потока рентгеновского излучения и может быть использовано для проведения процессов рентгеновкой литографии, рентгеновской микроскопии, рентгеновской спектроскопии, а также в астрономии, физике, биологии, медицине и других областях технике, где используется рентгеновское излучение
Изобретение относится к области нанесения покрытий, в частности к магнетронному распылению электропроводящих покрытий в среде реактивных газов, и может быть использовано для получения прозрачных электродов и прозрачных электрообогревательных элементов

Изобретение относится к области тонкопленочной технологии и предназначено для использования в микроэлектронике и интегральной оптике

Изобретение относится к электрофизике, в частности к системам, служащим для получения потоков частиц, используемых, например, для вакуумного нанесения тонких пленок
Наверх